[發(fā)明專利]上層膜形成用組合物以及使用其的抗蝕圖案形成方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380065161.2
• 申請(qǐng)日: 2013-12-12
• 公開（公告）號(hào): CN104919370B
• 公開（公告）日: 2019-07-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王曉偉;鈴木理人;岡安哲雄;G·鮑洛斯基
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: AZ電子材料（盧森堡）有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/11
• 分類號(hào): G03F7/11;H01L21/027
• 代理公司: 北京三幸商標(biāo)專利事務(wù)所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉淼

1.一種上層膜形成用組合物，其特征在于包含具有親水性基團(tuán)的富勒烯衍生物以及溶劑，

其中，該親水性基團(tuán)為從式F2和F5中選出的酚羥基，

或者，該親水性基團(tuán)從由磺酸基、硝基、氰基以及聚環(huán)氧烷基組成的組中選出，

該上層膜形成用組合物還包含從聚羥基苯乙烯、聚乙烯醇和聚丙烯酸中選出的聚合物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的上層膜形成用組合物，其中，前述富勒烯衍生物的主鏈骨架的碳原子數(shù)為60、70、76、78、82、84、90、94或96。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的上層膜形成用組合物，其中，以上層膜形成用組合物的總重量為基準(zhǔn)，前述富勒烯衍生物的含量為0.01～10重量％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的上層膜形成用組合物，其中，前述聚合物具有深紫外線吸收基。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的上層膜形成用組合物，其中，以上層膜形成用組合物的總重量為基準(zhǔn)，前述聚合物的含量為0.01～10重量％。

6.一種圖案形成方法，其特征在于包含如下工序：

在基板上涂布抗蝕組合物而形成抗蝕膜，在前述抗蝕膜上涂布權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的上層膜形成用組合物，通過加熱而固化，使用超紫外線進(jìn)行曝光，用堿水溶液進(jìn)行顯影。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的圖案形成方法，其中，前述超紫外線的波長為5～20nm。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的圖案形成方法，其中，形成的上表面抗反射膜的膜厚為1～100nm。

9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的圖案形成方法，其中，前述加熱的溫度為25～150℃。