[發明專利]吸入擴散器的流調節特征在審
| 申請號: | 201380064972.0 | 申請日: | 2013-11-04 |
| 公開(公告)號: | CN104838146A | 公開(公告)日: | 2015-08-12 |
| 發明(設計)人: | S·P·小埃文斯;M·P·斯特榮金;F·羅斯卡;M·沙瑪;R·K·拉維蒂;S·K·安德 | 申請(專利權)人: | 流體處理有限責任公司 |
| 主分類號: | F04D1/00 | 分類號: | F04D1/00;F04D29/44;F04D29/54 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 王茂華;黃海鳴 |
| 地址: | 美國伊*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸入 擴散器 調節 特征 | ||
1.一種吸入擴散器或裝置,包括:
主吸入擴散器主體,配置為具有接收進入流體的入口,接收來自所述入口的所述進入流體的內腔、以及接收來自所述內腔的所述進入流體并提供流出流體的出口;以及
流調節裝置,與所述入口相關地配置,并包括具有至少一個向內波狀表面的流調節部分,所述流調節部分配置為延伸進入所述內腔、擴散從所述入口通過進入所述內腔的所述進入流體,并提供流調節,所述流調節至少部分地基于與所述至少一個向內波狀表面相對應的波狀設計將所述進入流體朝向所述出口引導,以產生所述流出流體的均勻的流。
2.根據權利要求1所述的吸入擴散器或裝置,其中所述至少一個向內波狀表面配置為具有基本上呈錐體波狀的形狀,所述錐體波狀包括二次錐體波狀,或凸錐波狀。
3.根據權利要求1所述的吸入擴散器或裝置,其中所述流調節部分包括外圍部分和配置為比所述外圍部分延伸入所述內腔更深或更遠的中心或頂點部分。
4.根據權利要求1所述的吸入擴散器或裝置,其中所述流調節部分形成為配置為與所述主吸入擴散器主體耦接的波狀蓋板,或形成所述波狀蓋板的一部分。
5.根據權利要求1所述的吸入擴散器或裝置,其中所述流調節裝置包括配置在所述內腔內的擋板,以限制或調節從所述入口至所述出口的流體流。
6.根據權利要求5所述的吸入擴散器或裝置,其中所述擋板包括端部,所述端部配置為具有基本上與所述至少一個向內波狀表面的形狀相對應的形狀,以與所述向內波狀表面的形狀匹配或配合。
7.根據權利要求6所述的吸入擴散器或裝置,其中所述流調節部分被配置為具有至少一個狹槽,所述狹槽被配置為接收和接合所述擋板的端部。
8.根據權利要求7所述的吸入擴散器或裝置,其中所述至少一個狹槽形成在所述至少一個內向波狀表面中。
9.根據權利要求1所述的吸入擴散器或裝置,其中所述流調節部分配置為具有基本上呈金字塔形波狀的形狀。
10.根據權利要求9所述的吸入擴散器或裝置,其中所述流調節部分包括配置在外部外圍基座部分和內中心頂點部分之間的至少三個三角壁。
11.根據權利要求10所述的吸入擴散器或裝置,其中所述至少三個三角壁包括在外部正方外圍基座部分和內中心頂點部分之間的四個三角平壁。
12.根據權利要求10所述的吸入擴散器或裝置,其中所述至少三個三角壁配置為具有形成在其中的狹槽以接收擋板的端部。
13.根據權利要求1所述的吸入擴散器或裝置,其中所述至少一個向內波狀表面配置為具有基本上內凹的波狀的形狀。
14.根據權利要求13所述的吸入擴散器或裝置,其中所述至少一個向內波狀表面配置作為具有外部外圍基座部分的凹壁。
15.根據權利要求1所述的吸入擴散器或裝置,其中所述至少一個向內波狀表面配置為基本上為螺旋形波狀的形狀。
16.根據權利要求15所述的吸入擴散器或裝置,其中所述至少一個向內波狀表面配置作為從外部外圍基座部分向中心頂點部分延伸的螺旋形波狀壁。
17.根據權利要求16所述的吸入擴散器或裝置,其中所述螺旋形波狀壁被配置為具有葉片和角度以與其曲率直接相關地調節流。
18.根據權利要求1所述的吸入擴散器或裝置,其中所述流調節部分與所述主吸入擴散器主體一體配置或形成。
19.根據權利要求1所述的吸入擴散器或裝置,其中所述流調節部分被配置作為向內波狀板或插件,或采取向內波狀板或插件的形式。
20.根據權利要求1所述的吸入擴散器或裝置,其中所述流調節裝置配置為基本上消除在所述內腔內流向所述出口的流體的流體重循環和停滯區域,從而提供從所述出口流出的基本上均勻的流體。
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