[發明專利]可潛式清潔系統

有效

• 申請號: 201380064579.1
• 申請日: 2013-12-11
• 公開（公告）號: CN104968563A
• 公開（公告）日: 2015-10-07
• 發明（設計）人: J·赫哲
• 申請（專利權）人: C-林西普有限公司
• 主分類號: B63B59/08
• 分類號: B63B59/08
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 吳鵬;馬江立

1.一種用于在船只漂浮或作為海上設施時清潔所述船只的水下船體表面(3)的可潛式清潔系統(1)，所述清潔系統(1)包括：

-殼體(2)，所述殼體包括頂面(3)、具有邊緣(5)的側面(4)以及敞開的底面，所述邊緣(5)和底面設置成與所述船體表面(3)相對，并且所述殼體(2)還包括：

-旋轉圓盤(6)，所述旋轉圓盤具有圍繞所述旋轉圓盤的外周(30)設置的多個噴嘴(7)，所述噴嘴面向所述船體表面(3)，

-滾動間隔裝置(8)，所述滾動間隔裝置用于提供所述旋轉圓盤(6)與所述船體表面(3)之間的預定的第一間隙(9)，

-抽吸裝置(10)，所述抽吸裝置與設置在所述殼體(2)中的出口(11)流體連接以用于提供所述殼體(2)內的負壓，

-加壓裝置(12)，所述加壓裝置與所述噴嘴(7)流體連接以用于向所述噴嘴(7)提供高壓流體，由此所述噴嘴(7)適合于相對所述船體表面(3)排出高壓流體以用于清潔，

其中，所述殼體(2)還包括至少部分地設置在所述旋轉圓盤(6)與所述殼體(2)之間的套罩(13)，由此在所述殼體(2)與所述套罩(13)之間設置腔室(14)，所述腔室(14)與所述抽吸裝置(10)流體連通。

2.根據權利要求1所述的可潛式清潔系統(1)，其中，所述套罩(13)包括套罩頂面(17)、具有套罩邊緣(19)的套罩側面(18)以及敞開的套罩底面，所述套罩邊緣(19)和套罩底面設置成與所述船體表面(3)相對。

3.根據權利要求2所述的可潛式清潔系統(1)，其中，所述套罩設置在所述殼體內，并且在所述套罩側面與所述殼體的側面之間具有預定的第二間隙(20)。

4.根據權利要求3所述的可潛式清潔系統(1)，其中，所述預定的第二間隙(20)小于0.03m，優選小于0.025m，更優選小于0.015m。

5.根據前述權利要求中任一項所述的可潛式清潔系統(1)，其中，所述殼體的側面的所述邊緣設置在離所述船體表面第一距離處。

6.根據權利要求5所述的可潛式清潔系統(1)，其中，所述第一距離小于所述套罩邊緣與所述船體表面之間的第二距離。

7.根據權利要求5或6所述的可潛式清潔系統(1)，其中，通過調節所述殼體的邊緣與所述船體表面之間的所述第一距離來在操作期間控制所述殼體中的負壓。

8.根據權利要求1所述的可潛式清潔系統(1)，其中，所述負壓沿所述殼體的邊緣在所述殼體內形成抽吸作用。

9.根據前述權利要求中任一項所述的可潛式清潔系統(1)，其中，所述殼體的邊緣包括裙部，所述裙部由柔性材料制成。

10.根據前述權利要求中任一項所述的可潛式清潔系統(1)，其中，在所述殼體(2)內設置有多個旋轉圓盤(7)。

11.根據權利要求10所述的可潛式清潔系統(1)，其中，兩個相鄰的旋轉圓盤具有相反的旋轉方向以減少它們之間的摩擦。

12.根據權利要求10或11所述的可潛式清潔系統(1)，其中，所述套罩設置在所述多個旋轉圓盤與所述殼體之間。

13.根據權利要求10所述的可潛式清潔系統(1)，其中，在每個旋轉圓盤周圍設置有套罩，并且在所述套罩周圍設置有腔室，該腔室與所述抽吸裝置流體連通。

14.根據前述權利要求中任一項所述的可潛式清潔系統(1)，其中，所述旋轉圓盤(6)由一個或多個馬達(25)驅動。

15.根據前述權利要求中任一項所述的可潛式清潔系統(1)，其中，每個旋轉圓盤包括旋轉軸線，并且噴嘴經與所述旋轉軸線同心地設置的中空主軸被供給高壓流體。

16.根據權利要求15所述的可潛式清潔系統(1)，其中，離開所述噴嘴的流體的壓力能在30巴到150巴之間，優選在50巴到125巴之間。

17.根據前述權利要求中任一項所述的可潛式清潔系統(1)，其中，所述滾動間隔裝置是可調節的，以用于調節所述旋轉圓盤與所述船體表面之間的第一間隙。

18.根據權利要求17所述的可潛式清潔系統(1)，其中，通過借助于壓力控制器調節所述滾動間隔裝置來在清潔期間自動調節所述第一間隙的大小。