[發明專利]用于驗證鐘表的方法和系統有效
| 申請號: | 201380064570.0 | 申請日: | 2013-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN104854444B | 公開(公告)日: | 2018-05-29 |
| 發明(設計)人: | E·德庫;C·拉波特;A·卡利加里 | 申請(專利權)人: | 錫克拜控股有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 瑞士*** | 國省代碼: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鐘表 安全材料 刻度盤 指針 發光特性 電磁譜 驗證 | ||
1.用于驗證鐘表(10)的方法,所述鐘表包括刻度盤(20)、被安裝在所述鐘表上并且具有上側和面向所述刻度盤的下側的至少一個指針(25)、以及被布置在所述至少一個指針(25)的所述下側上的安全材料,所述方法包括:
通過所述刻度盤(20)上的反射照射所述安全材料(35)預定量的時間以激發所述安全材料(35);以及
測量由所述安全材料(35)發射的發光。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述安全材料包括包含具有發光特性的一種或多種化合物的介質。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其中所述發光被所述鐘表(10)的所述刻度盤(20)至少部分地反射。
4.根據權利要求1或2所述的方法,其中所述發光被測量以確定所述安全材料(35)的一個或多個衰減時間和所述發光的時間依賴性,以及其中所述驗證進一步包括比較所述發光的所述時間依賴性與一個或多個已知的參考衰減時間和一個或多個發光時間依賴性中的至少一個。
5.根據權利要求1或2所述的方法,其中所述安全材料(35)的激發光具有預定的波長范圍。
6.根據權利要求5所述的方法,其中所述預定的波長范圍為在925至990nm之間或其中所述預定的波長范圍為在200nm和400nm之間。
7.根據上述權利要求1或2所述的方法,進一步包括發出指示所述鐘表(10)的真實性和所述鐘表(10)的非真實性中的一個的信號,以及其中所述信號包括視覺和聽覺信號、警示、保持信號、警報和通知中的至少一個。
8.用于根據權利要求1-7中任一項所述的方法來驗證鐘表(10)的系統(400),所述系統包括:
用于通過所述刻度盤上的反射照射所述安全材料(35)預定量的時間以激發所述安全材料的光源(405);
被配置用于測量由所述安全材料(35)發射的發光的探測器(410)。
9.根據權利要求8所述的系統(400),進一步包括比較器,其被配置為用于比較所述發光的所述時間依賴性與下列中的至少一個:一個或多個已知的參考衰減時間以及一個或多個發光時間依賴性。
10.用于存儲在被計算機設備的處理器執行時使所述處理器執行根據權利要求1-7中任一項所述的方法的指令的計算機可讀介質(1925A,1925B)。
11.一種鐘表(10),包括:
刻度盤(20);
被安裝在所述鐘表上并且具有上側和面向所述刻度盤的下側的至少一個指針(25);以及
被僅布置在所述至少一個指針的所述下側上的發光安全材料,其中所述安全材料從所述上側不可見。
12.根據權利要求11所述的鐘表(10),其中所述刻度盤(20)包括在電磁譜的紅外(IR)范圍內的反射特性,以及其中所述刻度盤(20)的所述反射特性包括在750nm至1500nm范圍的至少一部分內大于10%的反射率。
13.根據權利要求11或12所述的鐘表,進一步包括在IR范圍內增強所述刻度盤的反射特性的被布置在所述刻度盤上的附加層。
14.根據權利要求13所述的鐘表(10),其中設置在所述刻度盤上的所述附加層(505)包括銦錫氧化物(ITO)、干涉顏料、電介質多層涂層、膽甾相液晶顏料、和膽甾相液晶涂層中的一種或多種。
15.根據權利要求13所述的鐘表(10),其中所述附加層(505)是對未受輔助的裸眼不可見的。
16.根據權利要求14或15所述的鐘表(10),其中設置在所述刻度盤上的所述附加層(505)具有與所述安全材料的特性相關的特定反射率,以使所述附加層和所述安全材料的組合有效。
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