[發明專利]使用外部電極對微流體設備中的物體進行的操縱有效
| 申請號: | 201380063560.5 | 申請日: | 2013-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN104870093A | 公開(公告)日: | 2015-08-26 |
| 發明(設計)人: | J·I·莫爾霍;D·G·斯特恩斯;I-J·陳;D·特蘭;B·W·萊斯;T·D·惠勒 | 申請(專利權)人: | 卡鉗生命科學股份有限公司 |
| 主分類號: | B01L3/00 | 分類號: | B01L3/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 姬利永 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 使用 外部 電極 流體 設備 中的 物體 進行 操縱 | ||
1.一種微流體設備,所述設備包括被設置在所述設備內的一通道,所述通道不具有包括的電極,所述通道具有壁,其中所述壁的至少一部分可由在所述設備的外部生成的電場穿透,所述壁可穿透以使得所述電場延伸通過壁部分并進入所述通道內的區域中。
2.如權利要求1所述的設備,其特征在于,可穿透的壁部分由介電材料構成。
3.如權利要求1所述的設備,其特征在于,可穿透的壁部分由各向異性導電材料構成。
4.如權利要求1所述的設備,其特征在于,所述設備包括通道層和覆蓋層。
5.如權利要求4所述的設備,其特征在于,可穿透的壁部分被設置在所述覆蓋層中。
6.如權利要求4所述的設備,其特征在于,所述覆蓋層的至少一部分由各向異性導電片構成。
7.如權利要求1所述的設備,其特征在于,外部電場是由在所述設備的外部且不是所述設備的元件的電極所生成。
8.如權利要求1所述的設備,其特征在于,所述通道是通道網絡的一部分。
9.如權利要求1所述的設備,其特征在于,所述通道是較大的通道的一段。
10.一種用于操縱在微流體設備的通道內的物體的系統,所述系統包括:
微流體設備,所述設備包括被設置在所述設備內的一通道,所述通道不具有包括的電極,所述通道具有壁,其中所述壁的至少一部分可由在所述設備的外部生成的電場穿透,所述壁可穿透以使得所述電場延伸通過壁部分并進入所述通道內的區域中;以及
在所述設備的外部的電極,所述電極毗鄰于且未被接合到所述設備,其中所述電極生成所述電場。
11.如權利要求10所述的系統,其特征在于,所述電極與所述設備的可穿透的壁部分的外部表面物理接觸。
12.如權利要求10所述的系統,其特征在于,所述電極鄰近于所述設備的可穿透的壁部分的外部表面。
13.如權利要求10所述的系統,其特征在于,所述電極在所述設備的可穿透的壁部分的外部表面上是可轉移的。
14.如權利要求10所述的系統,其特征在于,所述電極是針電極。
15.如權利要求10所述的系統,其特征在于,所述電極是電極的陣列中的一個。
16.如權利要求10所述的系統,其特征在于,所述電極使用交流電來生成所述電場。
17.如權利要求10所述的系統,其特征在于,所述電極使用直流電來生成所述電場。
18.一種用于使用在微流體設備的外部的電極來操縱在所述微流體設備的通道內的物體的方法,所述方法包括:
提供微流體設備,所述設備包括被設置在所述設備內的一通道,所述通道不具有包括的電極,所述通道具有壁,其中所述壁的至少一部分可由在所述設備的外部生成的電場穿透,所述壁可穿透以使得所述電場延伸通過壁部分并進入所述通道內的區域中;
提供在所述微流體設備的外部的電極;
毗鄰于所述微流體設備的可穿透的壁部分而放置所述電極;
激勵所述電極以生成電場;
利用所述電場穿透所述可穿透的壁部分以使得所述電場延伸通過所述壁部分并進入所述通道內的區域中;
將物體引入到所述通道中;以及
使用所述電場來操縱所述通道內的所述物體。
19.如權利要求18所述的方法,其特征在于,所述物體是通過壓力驅動流被引入到所述通道中。
20.如權利要求18所述的方法,其特征在于,使用交流電來激勵所述電極。
21.如權利要求18所述的方法,其特征在于,使用直流電來激勵所述電極。
22.如權利要求18所述的方法,其特征在于,操縱所述物體包括固定化所述物體、釋放所述物體、移動所述物體、將所述物體與另一物體合并、以及其組合。
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