[發明專利]具備防振裝置的曝光裝置有效
| 申請號: | 201380063011.8 | 申請日: | 2013-10-08 |
| 公開(公告)號: | CN104838470B | 公開(公告)日: | 2018-09-21 |
| 發明(設計)人: | 佐藤真路 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | H01L21/027 | 分類號: | H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 陳偉;王娟娟 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具備 裝置 曝光 | ||
1.一種曝光裝置,經由光學部件與基板之間的液體以曝光用光對所述基板進行曝光,該曝光裝置具備:
裝置框架;
光學系統,其包括所述光學部件;
液浸部件,其能夠形成液浸空間,并且包括配置于所述光學部件周圍的至少一部分的第1部件、和配置于所述光學部件周圍的至少一部分的第2部件;
驅動裝置,其能夠使所述第2部件相對于所述第1部件移動;和
防振裝置,經由所述防振裝置而使所述第1部件支承于所述裝置框架,
在所述第2部件與物體之間形成了所述液浸空間的一部分的狀態下,以使所述第2部件與所述物體的相對速度變小的方式使所述第2部件沿與所述光學部件的光軸垂直的方向移動。
2.根據權利要求1所述的曝光裝置,其中,
所述防振裝置包括致動器。
3.根據權利要求1或2所述的曝光裝置,其中,
所述防振裝置構成為:至少控制與所述光學部件的光軸實質上平行或者實質上垂直的所述第1部件的動作。
4.根據權利要求1或2所述的曝光裝置,其中,
所述防振裝置構成為:控制所述第1部件相對于基準部件的位置。
5.根據權利要求4所述的曝光裝置,其中,
所述曝光裝置還具備檢測所述第1部件的位置的第1檢測裝置,
所述防振裝置構成為:基于所述第1檢測裝置的檢測結果,控制所述第1部件的動作。
6.根據權利要求5所述的曝光裝置,其中,
所述第1檢測裝置檢測所述第1部件相對于所述基準部件的位置,
所述防振裝置構成為:基于所述第1檢測裝置的檢測結果,控制所述第1部件相對于所述基準部件的位置。
7.根據權利要求4所述的曝光裝置,其中,
所述曝光裝置還具備檢測所述第1部件的加速度的第2檢測裝置,
所述防振裝置構成為:基于所述第2檢測裝置的檢測結果,控制所述第1部件的動作。
8.根據權利要求7所述的曝光裝置,其中,
所述防振裝置構成為:基于所述第2檢測裝置的檢測結果,控制所述第1部件相對于所述基準部件的位置。
9.根據權利要求1或2所述的曝光裝置,其中,
所述驅動裝置的至少一部分被支承于所述裝置框架。
10.根據權利要求1或2所述的曝光裝置,其中,
所述驅動裝置構成為:抑制隨著所述第2部件的移動而產生的反作用力向所述裝置框架的傳遞。
11.根據權利要求1或2所述的曝光裝置,其中,
所述驅動裝置構成為:使隨著所述第2部件的移動而產生的反作用力抵消。
12.根據權利要求1或2所述的曝光裝置,其中,
所述驅動裝置具有使隨著所述第2部件的移動而產生的反作用力的至少一部分消除的機構。
13.根據權利要求1或2所述的曝光裝置,其中,
所述第2部件經由所述防振裝置而被支承于所述裝置框架。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社尼康,未經株式會社尼康許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380063011.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





