[發明專利]具有特定形狀的磨粒以及形成這種粒子的方法在審
| 申請號: | 201380062883.2 | 申請日: | 2013-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN104822494A | 公開(公告)日: | 2015-08-05 |
| 發明(設計)人: | A·C·蓋特;A·賽思;C·阿科納;D·O·耶內爾;J·H·澤雷賓斯奇;S·艾揚格;F·J·西拉格;W·C·賴斯;S·K·拉梅什;G·G·拉芳德;S·S·維杰蘇里亞;A·D·利奧爾;A·J·布蘭德斯;A·帕馬;P·布勞恩;D·K·艾維特斯 | 申請(專利權)人: | 圣戈班磨料磨具有限公司;法國圣戈班磨料磨具公司 |
| 主分類號: | B24D3/20 | 分類號: | B24D3/20;C09K3/14;C09C1/68 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人: | 徐舒 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 特定 形狀 以及 形成 這種 粒子 方法 | ||
1.一種研磨制品,其包括:
背襯;
上覆所述背襯的粘合劑層;
在第一位置聯接至所述背襯的第一成形磨粒;
在第二位置聯接至所述背襯的第二成形磨粒;且
其中所述第一成形磨粒和第二成形磨粒以相對于彼此受控非遮蔽的排列設置,所述受控非遮蔽的排列包括預定旋轉取向、預定橫向取向和預定縱向取向中的至少兩者。
2.一種包括第一組的研磨制品,所述第一組包括上覆背襯的多個成形磨粒,其中所述第一組的所述多個成形磨粒限定相對于彼此的第一非遮蔽的分布。
3.根據權利要求1和2中任一項所述的研磨制品,其中所述成形磨粒的總含量的至少約80%以相對于所述背襯側面取向而設置。
4.根據權利要求1所述的研磨制品,其還包括第一組,所述第一組包括聯接至所述背襯的多個成形磨粒,其中所述第一組的所述多個成形磨粒中的每一個共享預定旋轉取向、預定橫向取向和預定縱向取向中的至少一者。
5.根據權利要求2和4中任一項所述的研磨制品,其還包括第二組,所述第二組包括與所述第一組不同且聯接至所述背襯的多個成形磨粒,其中所述第二組的所述多個成形磨粒中的每一個共享預定旋轉取向、預定橫向取向和預定縱向取向中的至少一者。
6.根據權利要求5所述的研磨制品,其中所述第一組包括不同于所述第二組的特征的至少一個特征,其中所述特征選自由如下組成的特征組:平均粒度、二維粒子形狀、相對于碾磨方向的取向、平均橫向空間、平均縱向空間、側面取向、倒轉取向、平直取向、組成、預定分布。
7.根據權利要求5所述的研磨制品,其中所述第二組與所述第一組的不同在于如下中的至少一者:預定旋轉取向、預定橫向取向、預定縱向取向、預定豎直取向、預定尖端高度以及它們的組合。
8.根據權利要求5所述的研磨制品,其中所述第二組與所述第一組的相同之處在于如下中的至少一者:預定旋轉取向、預定橫向取向、預定縱向取向、預定豎直取向、預定尖端高度以及它們的組合。
9.根據權利要求5所述的研磨制品,其中所述第一組由第一受控非均勻分布限定,所述第二組由第二受控非均勻分布限定,其中所述第一受控非均勻分布不同于所述第二受控非均勻分布。
10.根據權利要求5所述的研磨制品,其還包括在所述第一組與所述第二組之間延伸的通道區域。
11.根據權利要求10所述的研磨制品,其中所述通道區域基本上不含成形磨粒,并構造為在所述第一組與所述第二組之間移動液體。
12.根據權利要求5所述的研磨制品,其中所述第一組限定第一非遮蔽的排列,所述第二組限定與所述第一非遮蔽的排列不同的第二非遮蔽的排列。
13.根據權利要求2所述的研磨制品,其中所述第一組包括在第一位置聯接至所述背襯的第一成形磨粒,其中第二組包括在第二位置聯接至所述背襯的第二成形磨粒,且其中所述第一成形磨粒和第二成形磨粒以相對于彼此受控非遮蔽的排列設置,所述受控非遮蔽的排列包括預定旋轉取向、預定橫向取向和預定縱向取向中的至少兩者。
14.根據權利要求1和13中任一項所述的研磨制品,其中所述第一成形磨粒和第二成形磨粒還相對于彼此包括預定豎直取向,且其中所述第一成形磨粒的所述預定豎直取向不同于所述第二成形磨粒的所述預定豎直取向。
15.根據權利要求1和7中任一項所述的研磨制品,其還包括至少約0.01(w)的尖端高度差,其中所述尖端高度差定義為所述第一成形磨粒的第一尖端高度與所述第二成形磨粒的第二尖端高度之間的差異。
16.根據權利要求1和13中任一項所述的研磨制品,其中所述第一成形磨粒包括第一組合物,所述第一組合物具有不大于約1%的粘結劑材料,并包含氧化鋁。
17.根據權利要求1和13中任一項所述的研磨制品,其中所述第一位置具有限定平行于所述第一成形磨粒的維度的平面與所述背襯的橫軸之間的第一旋轉角的第一旋轉取向,且所述第二位置具有限定平行于所述第二成形磨粒的維度的平面與所述背襯的橫軸之間的第二旋轉角的第二旋轉取向。
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