[發(fā)明專利]用于實施X-射線熒光分析的方法和設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380062406.6
• 申請日: 2013-10-22
• 公開（公告）號: CN104956211B
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J.凱斯勒
• 申請（專利權(quán)）人: 赫爾穆特費希爾有限責任公司電子及測量技術(shù)研究所
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 杜荔南;張懿

1.用于實施X-射線熒光分析的方法，其中初級輻射（16）從X-射線輻射源（14）對準樣本主體（12），其中從樣本主體（12）發(fā)射的次級輻射（18）由檢測器（20）檢測并且由評估單元（21）評估，其特征在于，

-具有形成濾波器層級的至少一個濾波器層（25）的至少一個濾波器（23）被引入到次級輻射（18）的射束路徑中并且根據(jù)濾波器層（25）相對于次級輻射（18）的角度α充當帶通濾波器，并且次級輻射（18）的破壞性波長通過布拉格反射被去耦，

-濾波器（23）的濾波器層（25）的角度α利用調(diào)整設(shè)備（31）被調(diào)整以用于通過布拉格反射來反射次級輻射（18）的至少一個破壞性波長，并且次級輻射（18）的去耦的波長由第二檢測器（32）檢測，并且由此標識的信號被轉(zhuǎn)發(fā)到評估單元（21）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，濾波器（23）的濾波器層（25）的角度α根據(jù)由第二檢測器（32）所檢測的信號而被調(diào)整。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，調(diào)整設(shè)備（31）由評估單元（21）控制以用于調(diào)整濾波器（23）的濾波器層（25）的角度α。

4.用于X-射線熒光分析的設(shè)備，具有X-輻射源（14），該X-輻射源將初級輻射（16）指向位于樣本載體（13）上的樣本主體（12），并且包括檢測器（20）以用于確定由樣本主體（12）發(fā)射的次級輻射（18），其特征在于，至少一個濾波器（23）被至少定位在次級輻射（18）的射束路徑中，所述濾波器（23）具有至少一個濾波器層（25），并且次級輻射（18）的至少一個波長在濾波器（23）處通過布拉格反射被反射和去耦，并且特征在于，提供第二檢測器（32），其檢測經(jīng)去耦的波長并且將由此標識的信號轉(zhuǎn)發(fā)到評估單元（21）。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，濾波器（23）由調(diào)整設(shè)備（31）容納，并且濾波器（23）的濾波器層（25）被控制以用于利用調(diào)整設(shè)備（31）對相對于入射射束路徑的角度α進行角調(diào)整。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，評估單元（21）處理來自第一或第二檢測器（20、32 ）或者這兩者的信號，并且調(diào)整設(shè)備（31）能夠由評估單元（21）控制。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備被提供用于實施根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法。

8.用于實施根據(jù)權(quán)利要求1的方法或者用于根據(jù)權(quán)利要求4的設(shè)備的濾波器，其特征在于，濾波器（23）具有由晶體層形成的至少一個濾波器層（25），濾波器（23）還具有板狀的載體物質(zhì)，其中所述板狀的載體物質(zhì)被提供有鉆孔或通孔，并且至少一個濾波器層（25）被粘附到或通過粘附被施加到板狀的載體物質(zhì)上，其中所述至少一個濾波器層（25）覆蓋所述鉆孔或通孔。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濾波器，其特征在于，濾波器（23）的至少一個濾波器層（25）被形成為晶體石墨層并且具有小于100μm或小于50μm的厚度。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濾波器，其特征在于，濾波器（23）的濾波器層（25）從晶體層或晶體石墨層被形成為膜。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濾波器，其特征在于，所述至少一個濾波器層（25）被形成為無金屬層的。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濾波器，其特征在于，濾波器層（25）被形成為膜，并且所述膜通過框架被保持在張開狀態(tài)中。

13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濾波器，其特征在于，濾波器層（25）是在中心具有開口的玻璃板，并且被設(shè)計為膜的濾波器層（25）被粘附或通過粘附被施加到該玻璃板。