[發(fā)明專利]用于確定結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的光刻方法和設(shè)備

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380062245.0
• 申請(qǐng)日: 2013-10-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104919372A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-09-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: W·J·格魯特吉恩斯;M·加西亞格蘭達(dá);J·克里斯特;H·麥根斯;徐路
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G01N21/47;G01N21/956
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種確定通過(guò)使用襯底上的周期圖像的構(gòu)形的光刻過(guò)程處理的第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的方法，所述方法包括步驟：

(a)用具有第一特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)；

(b)測(cè)量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強(qiáng)度；

(c)使用所測(cè)量的強(qiáng)度執(zhí)行對(duì)比；和

(d)使用對(duì)比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括：重復(fù)權(quán)利要求1的步驟以確定通過(guò)使用光刻過(guò)程的多個(gè)過(guò)程條件形成的多個(gè)結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值，和使用這些值確定光刻過(guò)程的過(guò)程窗口邊緣。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括：重復(fù)權(quán)利要求1的步驟以確定通過(guò)使用光刻過(guò)程的多個(gè)過(guò)程條件形成的多個(gè)結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值，和使用這些值確定光刻過(guò)程的優(yōu)化的過(guò)程條件。

4.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中：

用入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)的步驟(a)包括用具有第一特性和第二特性的入射輻射分別地照射第一結(jié)構(gòu)；

測(cè)量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強(qiáng)度的步驟(b)包括針對(duì)第一特性和第二特性中的每一個(gè)測(cè)量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強(qiáng)度；

使用所測(cè)量的強(qiáng)度執(zhí)行對(duì)比的步驟(c)包括確定與第一特性和第二特性對(duì)應(yīng)的所測(cè)量的強(qiáng)度之間的差；和

使用對(duì)比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值的步驟(d)包括使用所確定的差。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其中入射輻射被偏振化。

6.如權(quán)利要求4或5所述的方法，其中第一特性和第二特性包括入射輻射相對(duì)于第一結(jié)構(gòu)的不同的入射角。

7.如權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的方法，其中第一和第二特性包括襯底的平面內(nèi)周期圖像的周期性的方向相對(duì)于入射輻射的不同的轉(zhuǎn)動(dòng)，該轉(zhuǎn)動(dòng)圍繞垂直于襯底平面的軸線。

8.如權(quán)利要求4至7中任一項(xiàng)所述的方法，其中第一特性和第二特性包括入射輻射在襯底上的不同的照射劑量。

9.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述方法還包括用具有第一特性的入射輻射照射第二結(jié)構(gòu)的步驟，和測(cè)量被第二結(jié)構(gòu)散射的輻射的強(qiáng)度，其中：

使用所測(cè)量的強(qiáng)度執(zhí)行對(duì)比的步驟(c)包括確定與第一結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)的所測(cè)量的強(qiáng)度和與第二結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)的所測(cè)量的強(qiáng)度之間的差；和

使用對(duì)比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值的步驟(d)包括使用所確定的差確定光刻品質(zhì)的值。

10.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的方法，其中：

測(cè)量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強(qiáng)度的步驟(b)包括從空間上分離被第一結(jié)構(gòu)散射的任何非零級(jí)輻射和測(cè)量該非零級(jí)輻射的強(qiáng)度；

使用所測(cè)量的強(qiáng)度執(zhí)行對(duì)比的步驟(c)包括確定被第一結(jié)構(gòu)散射的非零級(jí)輻射的所測(cè)量的強(qiáng)度和對(duì)應(yīng)于沒(méi)有非零級(jí)輻射時(shí)的強(qiáng)度值之間的差；和

使用對(duì)比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值的步驟(d)包括使用所確定的差確定光刻品質(zhì)的值。

11.如權(quán)利要求10所述的方法，其中入射輻射被偏振化。

12.一種檢查設(shè)備，配置用于確定通過(guò)使用襯底上的周期圖像的構(gòu)形的光刻過(guò)程處理的第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)，所述檢查設(shè)備包括：

-照射系統(tǒng)，配置成使用具有第一特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)；

-檢測(cè)系統(tǒng)，配置成測(cè)量通過(guò)第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強(qiáng)度；和

-處理器，配置用以：

使用所測(cè)量的強(qiáng)度執(zhí)行對(duì)比；和

使用對(duì)比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值。

13.如權(quán)利要求12所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成照射使用光刻過(guò)程的多個(gè)過(guò)程條件形成的多個(gè)結(jié)構(gòu)，所述檢測(cè)系統(tǒng)配置成檢測(cè)被多個(gè)結(jié)構(gòu)散射的輻射的強(qiáng)度，所述處理器配置成確定所述多個(gè)結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值，并且所述處理器還配置成使用這些值確定光刻過(guò)程的過(guò)程窗口邊緣。

14.如權(quán)利要求12所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成照射使用光刻過(guò)程的多個(gè)過(guò)程條件形成的多個(gè)結(jié)構(gòu)，所述檢測(cè)系統(tǒng)配置成檢測(cè)被多個(gè)結(jié)構(gòu)散射的輻射的強(qiáng)度，所述處理器配置成確定所述多個(gè)結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值，并且所述處理器還配置成使用這些值確定光刻過(guò)程的優(yōu)化的過(guò)程條件。