[發明專利]暴露系統

在審

• 申請號: 201380061347.0
• 申請日: 2013-09-25
• 公開（公告）號: CN104812301A
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發明（設計）人: P.格爾德
• 申請（專利權）人: 吸入科學瑞典股份公司
• 主分類號: A61B5/08
• 分類號: A61B5/08;G01N33/15;B05B7/14;G01N33/497
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王景剛

1.一種獲得模型材料到氣溶膠的受控的暴露的方法，包括以下步驟：

i.提供包括所述模型材料的容器；

ii.將暴露帽插入到所述容器中以便在所述暴露期間獲得基本上密封的環境；

iii.將受控的氣溶膠流引入到所述暴露帽的上部部分并通過圍繞所述暴露帽的中心軸的旋轉流動將所述氣溶膠朝向所述模型材料的表面輸送；

iv.容許氣溶膠接觸所述模型材料，同時保護所述模型材料容器使之免受氣溶膠接觸的影響；以及

v.在軸向地向上定向的單獨的流動中將剩余的氣溶膠從所述模型材料表面輸送走。

2.根據權利要求1所述的方法，包括將剩余的氣溶膠從所述暴露帽的下部部分中的單個出口以與所述模型材料容器的中心軸一致的單個流動輸送。

3.根據權利要求1或2所述的方法，包括收集剩余的氣溶膠在暴露過濾器中。

4.根據權利要求1或2所述的方法，包括檢測引入到所述暴露帽中的氣溶膠的濃度。

5.根據權利要求3和4所述的方法，包括從檢測到的氣溶膠濃度、過濾器沉積的氣溶膠和計算的氣溶膠沉積因素來估計所述暴露的沉積的劑量。

6.根據權利要求1所述的方法，包括通過灌注流體接觸類似于氣道-血屏障的模型材料。

7.根據權利要求6所述的方法，其中所述氣溶膠包括試驗物質，包括確定從所述模型材料容器沖洗的剩余的試驗物質和在所述灌注流體中累積的試驗物質的質量平衡，從而確定所述暴露的最初沉積的劑量。

8.根據權利要求1到7中的任一項所述的方法，包括容許所述氣溶膠沿著所述模型材料的表面以基本上恒定的流動剪切速率接觸所述模型材料。

9.根據權利要求1到8中的任一項所述的方法，其中所述氣溶膠的流量從所述暴露帽的上部部分朝向所述模型材料的表面減小，優選地通過容許在所述上部部分中圍繞中心軸的旋轉流動變換為朝向所述模型材料的表面的軸向向下流動。

10.一種暴露帽裝置，用于隨著暴露帽插入到模型材料容器中來建立模型材料到氣溶膠的受控的暴露，所述暴露帽具有：

上部部分，適于接收氣溶膠的進口流；以及

下部部分，適于對準到所述模型材料，以隨著它的模型材料的暴露收集氣溶膠流并且保護所述模型材料容器使之免受所述氣溶膠的影響，其中大體上筒狀的暴露帽包括：

(a)進口管道，用于接收在所述上部部分中的氣溶膠，其中所述進口管道設置有切向定位的進口孔，用于產生圍繞中心軸的從上部部分到下部部分的旋轉流動；以及

(b)單個出口管道，用于將來自于所述模型材料的剩余氣溶膠從下部部分輸送到上部部分中的出口。

11.根據權利要求10或11中的任一項所述的裝置，其中所述出口管道基本上沿著在所述上部部分和下部部分之間縱向延伸的中心軸定位。

12.根據權利要求10或11中的任一項所述的裝置，包括容許一環形管的內部的、中心主體，用于將接收到的氣溶膠輸送到所述下部部分，其中所述內部主體具有容許在下部部分中的環形縫隙的延伸部，用于沿著模型材料表面將氣溶膠從環形管輸送到出口管道。

13.根據權利要求12所述的裝置，其中所述出口管道的出口孔具有小于所述環形管直徑的寬度的直徑。

14.根據權利要求12或13所述的裝置，其中內部主體的下部部分包括從所述內部主體的周邊下端延伸到所述內部管的出口孔的漏斗狀的空腔，從而限定一空腔高度。

15.根據權利要求14所述的裝置，其中所述空腔高度和狹縫高度被適配因此所述氣溶膠沿著所述模型材料的表面以基本上恒定的流動剪切速率輸送。

16.根據權利要求10到15中的任一項所述的裝置，其中所述環形管的橫截面面積小于所述模型材料的表面的3/4。

17.根據權利要求10到16中的任一項所述的裝置，是基本上筒狀的并且適于附連到包括模型材料的容器以便在氣溶膠暴露期間獲得基本上密封的環境。

18.根據權利要求11到17中的任一項所述的裝置，其中所述內部的中心主體具有朝向內壁的漏斗狀的延伸部并且容許所述環形管具有基本上大于所述環形縫隙的面積。