[發明專利]具有可互換氣體噴射器的沉積系統和相關的方法在審
| 申請號: | 201380061334.3 | 申請日: | 2013-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN104822866A | 公開(公告)日: | 2015-08-05 |
| 發明(設計)人: | C·卡尼扎瑞斯 | 申請(專利權)人: | 索泰克公司 |
| 主分類號: | C30B25/14 | 分類號: | C30B25/14;C23C16/455;C30B35/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 王小東 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 互換 氣體 噴射器 沉積 系統 相關 方法 | ||
1.一種沉積系統,該沉積系統包括:
沉積腔室;
具有上支撐表面的基板支撐結構,該上支撐表面被構造成在所述沉積腔室內支撐基板;和
至少兩個氣體噴射器,所述至少兩個氣體噴射器中的每個氣體噴射器均被構造成能夠互換地安置在所述沉積腔室內的公共位置處,所述至少兩個氣體噴射器中的每個氣體噴射器均被構造成在所述沉積系統的操作期間在所述基板支撐結構之上產生一片大體層狀的流動氣體,所述至少兩個氣體噴射器中的第一氣體噴射器包括兩個鄰接的板,這兩個鄰接的板限定了位于其間的一個或多個氣體流動通道,所述氣體流動通道被定位并構造成在所述第一氣體噴射器的出口處產生具有第一最大寬度的一片大體層狀的流動氣體,所述第一最大寬度橫向于在平行于所述基板支撐結構的所述上支撐表面的氣體流動平面中的氣體流動方向;所述至少兩個氣體噴射器中的第二氣體噴射器包括兩個鄰接的板,這兩個鄰接的板限定了位于其間的一個或多個氣體流動通道,所述氣體流動通道被定位并構造成在所述第二氣體噴射器的出口處產生具有第二最大寬度的第二片大體層狀的流動氣體,所述第二最大寬度橫向于所述氣體流動平面中的所述氣體流動方向,所述第二最大寬度小于所述第一最大寬度。
2.根據權利要求1所述的沉積系統,其中,限定在所述第一氣體噴射器的所述兩個鄰接的板之間的所述一個或多個氣體流動通道具有跨越橫向于所述氣體流動平面中的所述氣體流動方向的第一距離的出口,并且其中限定在所述第二氣體噴射器的所述兩個鄰接的板之間的所述一個或多個氣體流動通道具有跨越橫向于所述氣體流動平面中的所述氣體流動方向的第二距離的出口,所述第二距離小于所述第一距離。
3.根據權利要求1所述的沉積系統,其中所述至少兩個氣體噴射器中的每個氣體噴射器的所述兩個鄰接的板限定了橫向延伸的分布氣體流動通道以及在所述分布氣體流動通道和出口之間延伸的多個縱向延伸的氣體流動通道。
4.根據權利要求3所述的沉積系統,其中所述第一氣體噴射器的所述兩個鄰接的板限定了在所述分布氣體流動通道和所述出口之間延伸的第一數量的縱向延伸的氣體流動通道,其中所述第二氣體噴射器的所述兩個鄰接的板限定了在所述分布氣體流動通道和所述出口之間延伸的第二數量的縱向延伸的氣體流動通道,并且其中所述第二數量小于所述第一數量。
5.根據權利要求3所述的沉積系統,其中所述第一氣體噴射器的所述兩個鄰接的板限定了在所述分布氣體流動通道和所述出口之間延伸的第一數量的相對寬的縱向延伸的氣體流動通道,其中所述第二氣體噴射器的所述兩個鄰接的板限定了在所述分布氣體流動通道和所述出口之間延伸的第二數量的相對窄的縱向延伸的氣體流動通道。
6.根據權利要求3所述的沉積系統,其中所述第一氣體噴射器和第二氣體噴射器的縱向延伸的氣體流動通道中的每個均具有相對狹窄的入口部分、相對寬闊的出口部分和擴散的中間部分。
7.根據權利要求1所述的沉積系統,其中所述至少兩個氣體噴射器中的每個氣體噴射器都包括第三板,該第三板與所述兩個鄰接的板聯接,從而在所述兩個鄰接的板中的一個板與所述第三板之間限定附加氣體流動通道。
8.根據權利要求1所述的沉積系統,其中所述至少兩個氣體噴射器中的每個氣體噴射器的出口包括具有半徑的半圓形表面。
9.根據權利要求1所述的沉積系統,其中所述第一氣體噴射器和所述第二氣體噴射器中的每個均具有至少基本相同的外部尺寸。
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