[發(fā)明專利]信息記錄介質(zhì)用玻璃基板、信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法以及制造裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380061151.1
• 申請(qǐng)日: 2013-12-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104812531A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小松隆史
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B24B37/28
• 分類號(hào): B24B37/28;B24B37/08;C03C19/00;G11B5/84
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種信息記錄介質(zhì)用玻璃基板、信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法及制造裝置。

背景技術(shù)

在計(jì)算機(jī)等信息記錄裝置中搭載有信息記錄介質(zhì)。一般而言，為了制造信息記錄介質(zhì)而采用玻璃基板。在玻璃基板上形成有磁性薄膜層。通過(guò)磁頭對(duì)磁性薄膜層進(jìn)行磁化，由此，能夠在磁性薄膜層上記錄信息。近年來(lái)，信息記錄介質(zhì)的記錄密度有提高的趨勢(shì)。例如，還開(kāi)發(fā)了在一個(gè)2.5英寸的信息記錄介質(zhì)中具有500GB記錄容量的介質(zhì)，并尋求具有更高表面平滑性的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板。

制造信息記錄用玻璃基板時(shí)，為了研磨玻璃基板的表面，使用了雙面研磨裝置。玻璃基板由例如日本特開(kāi)2008-006526號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)1)公開(kāi)的托架(亦稱研磨托架)進(jìn)行保持。玻璃基板在由托架進(jìn)行保持的狀態(tài)下，玻璃基板的表面被雙面研磨裝置的研磨墊研磨。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2008-006526號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的課題

本發(fā)明的目的在于提供一種具有更高表面平滑性的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板、其制造方法及其制造裝置。

用于解決課題的手段

基于本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法是具有對(duì)玻璃基板的表面進(jìn)行研磨的研磨步驟的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，所述研磨步驟包括以下步驟：將玻璃基板和托架配置在太陽(yáng)齒輪與內(nèi)嚙合齒輪之間；在使所述托架的外周與所述太陽(yáng)齒輪和所述內(nèi)嚙合齒輪這兩者的齒面嚙合的狀態(tài)下，使用所述太陽(yáng)齒輪和所述內(nèi)嚙合齒輪使所述托架旋轉(zhuǎn)，使所述玻璃基板相對(duì)于研磨墊的研磨面滑動(dòng)接觸，從而對(duì)所述玻璃基板的表面進(jìn)行研磨，其中，所述太陽(yáng)齒輪的全部齒面和/或所述內(nèi)嚙合齒輪的全部齒面包括凹部，所述凹部具有從齒尖起向相對(duì)于所述托架的旋轉(zhuǎn)軸正交的方向凹陷的形狀，當(dāng)所述托架旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述托架的所述外周與所述凹部嚙合，設(shè)所述托架的節(jié)圓直徑為DC(單位：m)、在相對(duì)于所述旋轉(zhuǎn)軸正交的方向上的所述凹部的從所述齒尖算起的凹陷深度為d(單位：mm)，則0.24≦d/DC≦1.89的關(guān)系成立。

優(yōu)選為，設(shè)在相對(duì)于所述旋轉(zhuǎn)軸平行的方向上的所述凹部的寬度尺寸為TA、在相對(duì)于所述旋轉(zhuǎn)軸平行的方向上的所述玻璃基板的厚度尺寸為TB，則TA＜TB的關(guān)系成立。

優(yōu)選為所述凹部沿著圓周方向呈環(huán)狀地形成連續(xù)的一個(gè)凹槽。

基于本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板是使用基于本發(fā)明的所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法制造出來(lái)的。

基于本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造裝置具有：研磨墊；以及太陽(yáng)齒輪與內(nèi)嚙合齒輪，在它們之間配置有玻璃基板和托架；在所述太陽(yáng)齒輪和所述內(nèi)嚙合齒輪使所述托架的外周與它們兩者的齒面嚙合的狀態(tài)下，使所述托架旋轉(zhuǎn)，由此，使所述玻璃基板相對(duì)于所述研磨墊的研磨面滑動(dòng)接觸，從而所述玻璃基板的表面被研磨，所述太陽(yáng)齒輪的全部齒面和/或所述內(nèi)嚙合齒輪的全部齒面包括凹部，所述凹部具有從齒尖起向相對(duì)于所述托架的旋轉(zhuǎn)軸正交的方向凹陷的形狀，當(dāng)所述托架旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述托架的所述外周與所述凹部嚙合，設(shè)所述托架的節(jié)圓直徑為DC(單位：m)、在相對(duì)于所述旋轉(zhuǎn)軸正交的方向上的所述凹部的從所述齒尖算起的凹陷深度為d(單位：mm)，則0.24≦d/DC≦1.89的關(guān)系成立。

發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明，能夠得到具有更高表面平滑性的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板、其制造方法及其制造裝置。

附圖說(shuō)明

圖1是示出使用實(shí)施方式1中的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法制造出的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的立體圖。

圖2是示出具有使用實(shí)施方式1中的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法制造出的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的磁盤(信息記錄介質(zhì))的立體圖。

圖3是示出實(shí)施方式1中的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法的流程圖。

圖4是示出實(shí)施方式1中的在第2拋光步驟S18中使用的雙面研磨裝置的側(cè)視圖。

圖5是沿圖4中的Ⅴ-Ⅴ線的向視剖面圖。

圖6是放大示出圖5中的由Ⅵ線包圍的區(qū)域的圖。

圖7是沿圖6中的Ⅶ-Ⅶ線的向視剖面圖。

圖8是示出實(shí)施方式1中的在第2拋光步驟S18中使用的雙面研磨裝置進(jìn)行研磨加工時(shí)的情形的剖面圖。

圖9是示出實(shí)施方式1中的在第2拋光步驟S18中使用的雙面研磨裝置的剖面圖。

圖10是示出圖9所示的雙面研磨裝置中使用的內(nèi)嚙合齒輪的齒面的立體圖。