[發(fā)明專利]感光樹脂組合物、抗蝕劑層壓體及它們的固化產(chǎn)物有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380061133.3 | 申請日: | 2013-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN104813234B | 公開(公告)日: | 2019-03-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 今泉尚子;稻垣真也;本田那央 | 申請(專利權(quán))人: | 日本化藥株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/038 | 分類號: | G03F7/038;G03F7/004;C08G59/62 |
| 代理公司: | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 楊青;穆德駿 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 感光 樹脂 組合 抗蝕劑 層壓 它們 固化 產(chǎn)物 | ||
1.感光樹脂組合物,其包含:環(huán)氧樹脂A,多元醇化合物B,陽離子光聚合引發(fā)劑C,含環(huán)氧基的硅烷化合物D,和反應(yīng)性環(huán)氧單體E;
環(huán)氧樹脂A包含從下式(1)表示的苯酚衍生物與表鹵代醇的反應(yīng)得到的環(huán)氧樹脂a:
和下式(2)表示的環(huán)氧樹脂b:
其中m是平均值,表示在2至30范圍內(nèi)的實數(shù),R1和R2各自獨立地表示氫原子、具有1至4個碳原子的烷基、或三氟甲基,X各自獨立地表示氫原子或縮水甘油基,并且存在的多個X中的至少一個是縮水甘油基;
多元醇化合物B包含下式(3)表示的聚酯多元醇:
其中x是平均值,表示在1至15范圍內(nèi)的實數(shù),和R3表示二價脂族烴基,其可以在碳鏈內(nèi)含有至少一個醚鍵;
和/或下式(4)表示的聚酯多元醇:
其中y是平均值,表示在1至6范圍內(nèi)的實數(shù),和R4表示三價脂族烴基,其可以在碳鏈內(nèi)含有至少一個醚鍵;和
反應(yīng)性環(huán)氧單體E包含下式(10)表示的環(huán)氧化合物和/或下式(11)表示的環(huán)氧化合物:
其中R5表示具有1至11個碳原子的二價脂族烴基;
其中R6表示具有1至11個碳原子的三價脂族烴基,
相對于所述環(huán)氧樹脂a的質(zhì)量,所述環(huán)氧樹脂b的用量是2質(zhì)量%~4900質(zhì)量%,
相對于所述環(huán)氧樹脂A的總質(zhì)量,所述多元醇化合物B的摻合比是1質(zhì)量%至30質(zhì)量%,
相對于所述環(huán)氧樹脂A、所述多元醇化合物B和所述反應(yīng)性環(huán)氧單體E的總質(zhì)量,所述陽離子光聚合引發(fā)劑C的摻合比是0.1質(zhì)量%至15質(zhì)量%,
相對于所述環(huán)氧樹脂A、所述多元醇化合物B、所述陽離子光聚合引發(fā)劑C和所述反應(yīng)性環(huán)氧單體E的總質(zhì)量,所述含環(huán)氧基的硅烷化合物D的摻合比是1質(zhì)量%至15質(zhì)量%,且
相對于所述環(huán)氧樹脂A和所述多元醇化合物B的總質(zhì)量,所述反應(yīng)性環(huán)氧單體E的摻合比為2質(zhì)量%至12質(zhì)量%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光樹脂組合物,其中所述反應(yīng)性環(huán)氧單體E包括三羥甲基丙烷三縮水甘油醚。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光樹脂組合物,其中所述含環(huán)氧基的硅烷化合物D是含環(huán)氧基的烷氧基硅烷化合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光樹脂組合物,其還包含溶劑F。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的感光樹脂組合物,其中相對于包括所述溶劑F的感光樹脂組合物的總質(zhì)量,所述溶劑F的摻合比是5質(zhì)量%至95質(zhì)量%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項所述的感光樹脂組合物的固化產(chǎn)物。
7.抗蝕劑層壓體,其包含夾在兩個襯底之間的根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項所述的感光樹脂組合物。
8.由根據(jù)權(quán)利要求7所述的抗蝕劑層壓體得到的干膜抗蝕劑的固化產(chǎn)物。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日本化藥株式會社,未經(jīng)日本化藥株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380061133.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:單元集合體和圖像形成裝置
- 下一篇:圖像形成裝置
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





