[發明專利]轉印薄膜及透明層疊體、它們的制造方法、靜電電容型輸入裝置以及圖像顯示裝置在審
| 申請號: | 201380061129.7 | 申請日: | 2013-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN104812569A | 公開(公告)日: | 2015-07-29 |
| 發明(設計)人: | 漢那慎一;伊藤英明 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | B32B7/02 | 分類號: | B32B7/02;G06F3/041;H01B5/14 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 龐東成;褚瑤楊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜 透明 層疊 它們 制造 方法 靜電 電容 輸入 裝置 以及 圖像 顯示裝置 | ||
1.一種轉印薄膜,其特征在于,依次具有:
臨時支承體;
第1固化性透明樹脂層;及
第2固化性透明樹脂層,與該第1固化性透明樹脂層相鄰配置,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率高于所述第1固化性透明樹脂層的折射率,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率為1.6以上。
2.根據權利要求1所述的轉印薄膜,其特征在于,
所述第1固化性透明樹脂層的折射率為1.5~1.53。
3.根據權利要求1或2所述的轉印薄膜,其特征在于,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率為1.65以上。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的轉印薄膜,其特征在于,
所述第2固化性透明樹脂層的膜厚為500nm以下。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的轉印薄膜,其特征在于,
所述第2固化性透明樹脂層的膜厚為100nm以下。
6.根據權利要求1~5中任一項所述的轉印薄膜,其特征在于,
所述第1固化性透明樹脂層的膜厚為1μm以上。
7.根據權利要求1~6中任一項所述的轉印薄膜,其特征在于,
所述第1固化性透明樹脂層包含可聚合化合物及光聚合性引發劑。
8.根據權利要求1~7中任一項所述的轉印薄膜,其特征在于,
所述第1固化性透明樹脂層的雙鍵消耗率為10%以下。
9.根據權利要求1~8中任一項所述的轉印薄膜,其特征在于,
所述第2固化性透明樹脂層含有折射率為1.55以上的顆粒。
10.根據權利要求1~9中任一項所述的轉印薄膜,其特征在于,
所述第2固化性透明樹脂層包含可聚合化合物。
11.根據權利要求1~10中任一項所述的轉印薄膜,其特征在于,
所述第1固化性樹脂層及所述第2固化性樹脂層均為熱固化性樹脂層。
12.根據權利要求1~11中任一項所述的轉印薄膜,其特征在于,
在所述臨時支承體與所述第1固化性透明樹脂層之間具有熱塑樹脂層。
13.根據權利要求12所述的轉印薄膜,其特征在于,
在所述第1固化性透明樹脂層與所述熱塑性樹脂層之間還具有中間層。
14.一種轉印薄膜的制造方法,其特征在于,具有以下工序;
(b)在臨時支承體上形成包含可聚合化合物及光聚合引發劑的第1固化性透明樹脂層的工序;
(c)通過曝光,固化所述第1固化性透明樹脂層的工序;及
(d)在固化后的所述第1固化性透明樹脂層上直接形成第2固化性透明樹脂層的工序,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率高于所述第1固化性透明樹脂層的折射率,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率為1.6以上。
15.根據權利要求14所述的轉印薄膜的制造方法,其特征在于,
在所述臨時支承體上形成所述第1固化性透明樹脂層之前,還包含(a)形成熱塑性樹脂層的工序。
16.一種透明層疊體的制造方法,其特征在于,
包含在透明電極圖案上依次層疊權利要求1~13中任一項所述的轉印薄膜的所述第2固化性透明樹脂層及所述第1固化性透明樹脂層的工序。
17.根據權利要求16所述的透明層疊體的制造方法,其特征在于,
所述透明層疊體的制造方法還包含去除所述臨時支承體的工序。
18.一種透明層疊體,其特征在于,
通過權利要求16或17所述的透明層疊體的制造方法制造。
19.一種透明層疊體,其特征在于,具有:
透明電極圖案;
第2固化性透明樹脂層,與該透明電極圖案相鄰配置;及
第1固化性透明樹脂層,與該第2固化性透明樹脂層相鄰配置,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率高于所述第1固化性透明樹脂層的折射率,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率為1.6以上。
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