[發明專利]光學特性優秀的防反射膜

有效

• 申請號: 201380060922.5
• 申請日: 2013-10-14
• 公開（公告）號: CN104823078B
• 公開（公告）日: 2016-11-09
• 發明（設計）人: 梁芝娟;趙烘寬;洪琎基;金源國
• 申請（專利權）人: 樂金華奧斯有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;劉明海

技術領域

本發明提供光學特性優秀的防反射膜。

背景技術

在顯示器暴露于各種照明及自然光等外光的情況下，由于反射光，在顯示器內部形成的圖像不能清晰地進入眼睛，由此導致對比度(contrast)的下降，從而不僅導致難以觀看畫面并且感到眼睛疲勞或引發頭痛。由于這種理由，對防反射的要求也變得非常高。

隨著強調防反射必要性，開發了高折射層與低折射層反復的防反射膜，以尋找在可見光范圍具有防反射效果的膜結構，并且持續進行了減少層的數量的研究。進而，防反射膜的發展形態為在高折射層上部涂敷低折射層，可知低折射層的折射率與高折射層的折射率之差越大，防反射效果就越卓越，但是包括低折射層及高折射層的防反射膜在設計方面仍然存在困難。

發明內容

??????本發明要解決的技術問題??????

本發明的一實例提供利用高折射層和低折射層來表現出卓越的防反射效果并改善附著力及光學特性的防反射膜。

??????技術方案??????

本發明的一實例提供防反射膜，上述防反射膜為透明基材、高折射層及低折射層的層疊結構，上述低折射層包含粘結劑和中空二氧化硅粒子，其中，上述粘結劑通過由以下述化學式1表示的硅烷化合物與以下化學式2表示的有機硅烷化合物聚合而成，

化學式1：

R¹_xSi(OR²)_4-x，

在上述化學式1中，R¹為碳數1～10的烷基、碳數6～10的芳基或碳數3～10的烯基，R²為碳數1～6的烷基，x表示0≤x＜4的整數，

化學式2：

R³_ySi(OR⁴)_4-y，

在上述化學式2中，R³為碳數1～12的氟烷基(fluoroalkyl)，R⁴為碳數1～6的烷基，y表示0≤x＜4的整數。

以上述化學式1表示的硅烷化合物可以為選自由四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四異丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、異丁基三乙氧基硅烷、環己基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷以及它們的組合組成的組中的一種以上的化合物。

以上述化學式2表示的有機硅烷化合物可以為選自由三氟甲基三甲氧基硅烷、三氟甲基三乙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、九氟丁基乙基三甲氧基硅烷、九氟丁基乙基三乙氧基硅烷、九氟己基三甲氧基硅烷、九氟己基三乙氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、十七氟癸基三乙氧基硅烷以及它們的組合組成的組中的一種以上的化合物。

上述中空二氧化硅粒子的數均直徑可以是約1nm至約1000nm。

相對于上述中空二氧化硅粒子100重量份，可包含約10重量份至約120重量份的上述粘結劑。

上述低折射層的折射率可以是約1.2至約1.25。

上述低折射層的厚度可以是約50nm至約150nm。

上述高折射層的折射率可以是約1.6至約1.7。

上述高折射層的厚度可以是約100nm至約500nm。

上述防反射膜的對于水的接觸角可以是約70°以下。

上述防反射膜的反射率在約450nm至約650nm的波長范圍內可以小于約0.5％。

當向上述防反射膜照射白色光時，反射光的顏色a*值及顏色b*值可以是-1＜a*＜2及-1＜b*＜1。

??????有益效果??????

上述防反射膜可具有卓越的附著力及優秀的光學特性。

并且，由于上述防反射膜的防反射效果優秀，因而可適用于觸摸膜等各種顯示設備。

附圖說明