[發(fā)明專利]氣體清洗裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380060718.3
• 申請日: 2013-10-25
• 公開（公告）號: CN104797321A
• 公開（公告）日: 2015-07-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 簡·舍內(nèi)貝格爾;霍爾格·蒂勒爾特
• 申請（專利權(quán)）人: 蒂森克虜伯工業(yè)解決方案股份公司
• 主分類號: B01D53/14
• 分類號: B01D53/14;B01D53/18
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 張?zhí)焓?張杰

1.一種用于氣體清洗特別是借助于胺清洗從煙氣中除去CO2的裝置，具有

冷卻階段(1)，用于借助于供給到冷卻階段(1)的液體(3)直接冷卻并預(yù)清洗進入該裝置的氣體流(2)，

吸收階段(4)，用于借助于供給至吸收階段(4)的清洗液(5)從氣體流(2)中除去至少一種氣體組分，和

后清洗器(6)，用于從被凈化的氣體流(7)中消耗清洗液中的至少一種揮發(fā)性組分，

其特征在于，所述冷卻階段(1)、所述吸收階段(4)和后清洗器(6)被設(shè)置成一個在另一個之上并且被連接以形成清洗塔(8)。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，該吸收階段(4)具有柱狀插入件，用于增加氣體流(2)和清洗液(5)之間物質(zhì)轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移表面。

3.如權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，用于排出清洗液的分離托盤(9)被設(shè)置在吸收階段(4)和冷卻階段(1)之間，其中所述分離托盤(9)具有用于氣體流通過的開口(10)。

4.如權(quán)利要求1至3中任意一項所述的裝置，其特征在于，冷卻階段(1)被設(shè)計為噴射裝置，其具有設(shè)置有用于排出液體的出口的液體儲槽和多個噴嘴。

5.如權(quán)利要求1至4中任意一項所述的裝置，其特征在于，冷卻階段(1)具有設(shè)置有至少一個噴射泵(11)的氣體入口，其中，用于所述冷卻階段(1)的液體可以被饋送到噴射泵(11)作為動力介質(zhì)，并且所述噴射泵(11)驅(qū)動氣體流(2)。

6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述噴射泵(11)被設(shè)置在所述冷卻階段(1)的上部里并且氣/液混合物在垂直或?qū)蔷€朝下定向的流動方向上離開噴射泵(11)。

7.如權(quán)利要求5或6所述的裝置，其特征在于，所述噴射泵(11)被設(shè)計成文丘里清洗器。

8.如權(quán)利要求1至7中任意一項所述的裝置，其特征在于，用于驅(qū)動氣體流的風(fēng)扇(12)被設(shè)置在所述清洗塔(8)的頭部處。

9.如權(quán)利要求1至8中任意一項所述的裝置，其特征在于，所述后清洗器(6)被配置為比吸收階段(4)低的液體流量。

10.如權(quán)利要求1至9中任意一項所述的裝置，其特征在于，來自所述后清洗器(6)的液體可以被直接供給到吸收階段(4)而無需從清洗塔(8)中排出。