[發明專利]光學光子線路耦合

有效

• 申請號: 201380060537.0
• 申請日: 2013-06-26
• 公開（公告）號: CN104797963B
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: E·M·默罕默德;P·L·張;I·班
• 申請（專利權）人: 英特爾公司
• 主分類號: G02B6/12
• 分類號: G02B6/12;G02B6/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 劉瑜;王英

1.一種光學裝置，包括：

硅襯底；

被設置在所述硅襯底上的掩埋氧化層；

被設置在所述掩埋氧化層上的硅波導結構；

成角度地設置在所述硅波導結構的第一端的鏡面結構；

覆蓋所述掩埋氧化層和所述硅波導結構的氧化層；以及

具有窄端和寬端的錐形波導，所述窄端被設置在所述鏡面上方，所述錐形波導從所述窄端在與所述硅波導結構垂直的方向上延伸穿過所述氧化層，

其中，所述鏡面被成角度地設置為相對于所述錐形波導和所述硅波導結構二者成大約四十五度。

2.根據權利要求1所述的裝置，還包括與所述硅波導結構的第二端對齊的光學元件。

3.根據權利要求2所述的裝置，其中，所述光學元件為光發射機和光接收機中的一種或多種。

4.根據權利要求2所述的裝置，其中，所述光學元件包括一個或多個光放大器。

5.根據權利要求1所述的裝置，還包括終結所述錐形波導的寬端的微透鏡。

6.根據權利要求5所述的裝置，其中，所述微透鏡被配置為與透鏡光纖配合。

7.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述鏡面為內部全內反射鏡面。

8.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述鏡面為外部鏡面。

9.根據權利要求1到8中的任一項所述的裝置，其中，所述錐形波導定位在錐形波導陣列之內。

10.一種制造光學裝置的方法，包括：

在硅襯底上形成掩埋氧化層；

在所述掩埋氧化層上形成硅波導結構；

在所述硅波導結構的第一端蝕刻成角度的表面；

對所述成角度的表面進行金屬化；

在所述掩埋氧化層和所述硅波導結構上方沉積氧化層；

在所述氧化層中形成具有窄端和寬端的錐形通孔，所述窄端被設置在所述成角度的表面上方，所述錐形通孔在與所述硅波導結構垂直的方向上從所述窄端延伸；以及

利用聚合物填充所述錐形通孔。

11.根據權利要求10所述的方法，還包括構建與所述硅波導結構的第二端對齊的光學元件。

12.根據權利要求11所述的方法，其中，使光發射機和光接收機中的一個或多個與所述硅波導結構的第二端對齊。

13.根據權利要求11所述的方法，其中，使光放大器與所述硅波導結構的第二端對齊。

14.根據權利要求10所述的方法，還包括在所述錐形通孔的寬端上方形成微透鏡。

15.根據權利要求14所述的方法，其中，所述微透鏡被配置為與透鏡光纖配合。

16.根據權利要求10到15中的任一項所述的方法，其中，所述成角度的表面相對于所述錐形通孔和所述硅波導結構二者成大約四十五度。