[發(fā)明專利]照射裝置及照射方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380060282.8
• 申請日: 2013-09-20
• 公開（公告）號: CN104797980A
• 公開（公告）日: 2015-07-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: T·C·季米特里亞季斯
• 申請（專利權(quán)）人: 英特斯特公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 王麗軍

1.一種照射裝置，所述裝置包括：

多個輻射發(fā)射器，由所述多個輻射發(fā)射器發(fā)出電磁輻射；以及

遮罩，其允許來自所述多個輻射發(fā)射器的所述電磁輻射的一部分穿過，且阻擋來自所述多個輻射發(fā)射器的所述電磁輻射的另一部分穿過。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，來自所述多個輻射發(fā)射器的穿過所述遮罩的所述電磁輻射的所述部分重疊。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，所述遮罩包括連續(xù)邊緣，且所述多個輻射發(fā)射器位于所述連續(xù)邊緣的上方。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，由所述遮罩的各個不同部分阻擋所述輻射發(fā)射器中的每個發(fā)出的電磁輻射穿過所述遮罩。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，所述輻射發(fā)射器中的每個發(fā)出具有錐體狀形狀的輻射。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，還包括用于支撐晶圓的支撐系統(tǒng)，其中，來自所述多個輻射發(fā)射器的穿過所述遮罩的所述電磁輻射的所述部分照射所述晶圓的連續(xù)部分。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，所述多個輻射發(fā)射器均是半導(dǎo)體裝置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，所述多個輻射發(fā)射器是彼此等距隔開且沿非直線路徑設(shè)置的多個電磁輻射源。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，還包括轉(zhuǎn)臺，用于轉(zhuǎn)動被所述電磁輻射的所述部分照射的物體。

10.一種照射方法，所述方法包括下列步驟：

允許電磁輻射從其發(fā)出的多個位置穿過；以及

通過使用遮罩防止其它電磁輻射從所述多個位置穿過。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的照射方法，其中，來自所述多個輻射發(fā)射器的穿過所述遮罩的所述電磁輻射的所述部分重疊。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的照射方法，其中，所述遮罩包括連續(xù)邊緣，且所述多個輻射發(fā)射器位于所述連續(xù)邊緣的上方。

13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的照射方法，其中，所述電磁輻射由多個光源發(fā)出，且所述遮罩防止所述電磁輻射在多個相應(yīng)不同的位置處穿過。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的照射方法，其中，來自所述位置中的每個的所述輻射以錐體狀形狀發(fā)出。

15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的照射方法，其中，穿過所述遮罩的所述電磁輻射的所述部分照射晶圓的一部分。

16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的照射方法，其中，所述遮罩及所述晶圓具有相同形狀。

17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的照射方法，其中，所述電磁輻射由多個半導(dǎo)體裝置發(fā)出。

18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的照射方法，其中，所述電磁輻射在沿非直線路徑的多個位置處發(fā)出。

19.根據(jù)權(quán)利要求10所述的照射方法，其中，當(dāng)穿過所述遮罩的所述電磁輻射照射所述晶圓時，旋轉(zhuǎn)所述晶圓。