[發(fā)明專利]制造光學(xué)鏡片的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380060224.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-10-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104797408B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A·古羅;E·加庫(kù)安;P·勒鮑倫尼克 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 埃西勒國(guó)際通用光學(xué)公司 |
| 主分類號(hào): | B29D11/00 | 分類號(hào): | B29D11/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所11038 | 代理人: | 陳華成 |
| 地址: | 法國(guó)沙*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 光學(xué)鏡片 方法 | ||
1.一種制造光學(xué)鏡片的方法,該方法包括:
●鏡片構(gòu)件提供步驟(S1),在該步驟過(guò)程中,提供鏡片構(gòu)件,該鏡片構(gòu)件包括第一表面和該第一表面的第一參考系,由該第一表面上的第一標(biāo)記對(duì)該第一參考系進(jìn)行標(biāo)識(shí),
●表面數(shù)據(jù)提供步驟(S2),在該步驟過(guò)程中,提供對(duì)應(yīng)于第二表面的表面數(shù)據(jù)和該第二表面相對(duì)于該有待制造的光學(xué)鏡片的該第一表面的位置,
●鏡片構(gòu)件阻塞步驟(S3),在該步驟過(guò)程中,將該鏡片構(gòu)件阻塞在機(jī)加工位置,
●機(jī)加工步驟,在該步驟過(guò)程中,根據(jù)該表面數(shù)據(jù)對(duì)該光學(xué)鏡片的該第二表面進(jìn)行機(jī)加工,
●第二標(biāo)記確定步驟(S4),在該步驟過(guò)程中,至少根據(jù)表示該光學(xué)鏡片的折射特性的光學(xué)數(shù)據(jù)和根據(jù)表示要觀察第一標(biāo)記和第二標(biāo)記的觀察條件的觀察數(shù)據(jù),確定對(duì)該第二表面的第二參考系進(jìn)行標(biāo)識(shí)的第二標(biāo)記,以及
●第二標(biāo)記提供步驟,在該步驟過(guò)程中,在該光學(xué)鏡片的該第二表面上設(shè)置第二標(biāo)記。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,該方法進(jìn)一步包括:
●參考系確定步驟(S7),在該步驟過(guò)程中,通過(guò)在對(duì)應(yīng)于該觀察數(shù)據(jù)的觀察條件下確定第一和第二標(biāo)記的位置來(lái)確定該第一和第二參考系,以及
●比較步驟(S8),在該步驟過(guò)程中,對(duì)該第一和第二參考系的位置進(jìn)行比較,從而確定該第一和第二表面之間的定位誤差。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中,該方法進(jìn)一步包括分揀步驟(S9),在該步驟過(guò)程中,如果該第一和第二表面之間的定位誤差小于等于閾值則接受所制造的光學(xué)鏡片,并且如果該第一和第二表面之間的定位誤差大于所述閾值則將其挑出。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法,其中,在該參考系確定步驟過(guò)程中,使用測(cè)量光學(xué)設(shè)備測(cè)量第一和第二標(biāo)記上的位置,并且該觀察數(shù)據(jù)至少表示該光學(xué)鏡片相對(duì)于該測(cè)量光學(xué)設(shè)備的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法,其中,在該參考系確定步驟過(guò)程中,由操作者在觀察條件下確定第一和第二標(biāo)記之間的相對(duì)位置。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,在該第二標(biāo)記確定步驟過(guò)程中,確定第二標(biāo)記,從而使其在相對(duì)于該第一表面正確地定位該第二表面時(shí)在觀察條件下出現(xiàn)在與第一標(biāo)記相同的位置。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,在該第二標(biāo)記確定步驟過(guò)程中,確定第二標(biāo)記,從而考慮定位誤差容差。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,該光學(xué)數(shù)據(jù)至少表示該第一和第二表面的設(shè)計(jì)和該第二表面相對(duì)于該第一表面的相對(duì)位置。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,在該第二標(biāo)記提供步驟過(guò)程中,將該光學(xué)鏡片阻塞在與該機(jī)加工步驟過(guò)程中相同的位置。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,第一和/或第二標(biāo)記是臨時(shí)標(biāo)記。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,該光學(xué)數(shù)據(jù)至少表示制造該光學(xué)鏡片所針對(duì)的佩戴者的處方。
12.一種用于控制鏡片制造工藝的方法,包括:
●光學(xué)鏡片制造步驟,在該步驟過(guò)程中,根據(jù)如前述權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的制造方法使用制造設(shè)備制造光學(xué)鏡片,
●定位誤差確定步驟,在該步驟過(guò)程中,確定該光學(xué)鏡片的第一和第二表面的定位誤差,
●記錄步驟,在該步驟過(guò)程中,記錄該定位誤差,
其中,該方法進(jìn)一步包括有規(guī)律地重復(fù)光學(xué)鏡片制造、定位誤差確定和記錄步驟,以及檢查該定位誤差隨時(shí)間的演變,并且檢查在該鏡片制造工藝過(guò)程中所使用的該制造設(shè)備的至少一個(gè)參數(shù)隨時(shí)間的演變,并且該光學(xué)鏡片的該第一和第二表面的該定位誤差隨時(shí)間的演變與該制造設(shè)備的該至少一個(gè)參數(shù)隨時(shí)間的演變有關(guān)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于埃西勒國(guó)際通用光學(xué)公司,未經(jīng)埃西勒國(guó)際通用光學(xué)公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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