[發明專利]供電系統有效
| 申請號: | 201380059697.3 | 申請日: | 2013-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN104838484B | 公開(公告)日: | 2019-04-16 |
| 發明(設計)人: | 辰巳良昭;菅原利文 | 申請(專利權)人: | 株式會社創意科技 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;B23Q3/15;H02N13/00 |
| 代理公司: | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 王芝艷;馮志云 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 靜電 供電系統 | ||
本發明提供一種靜電夾盤及供電系統,即使在真空環境內也不會產生放電,而能夠進行高電壓驅動,并且能夠謀求對靜電夾盤的供電系統的構造的簡化。供電系統具備靜電夾盤(2)、及電性接觸機構(4),該靜電夾盤(2)具有升壓電路(3)。僅將升壓電路(3)的端子(31a、32a)露出于外部。端子(31b、32b)連接在吸附電極(23)。電性接觸機構(4)為以軌條(41、42)、及與這些軌條(41、42)接觸的可撓性接觸件(43、44)所構成。軌條(41、42)連接在外部電源(40),而可撓性接觸件(43、44)設置于靜電夾盤(2)的導電板(45、46)。導電板(45、46)連接于升壓電路(3)的端子(31a、32a)。
技術領域
本發明有關于一種靜電夾盤及供電系統,其用以吸附玻璃基板等被加工板體。
背景技術
如圖8所示,靜電夾盤100一般為固定于處理裝置的真空室200內的底部。并且,由真空室200外的電源210,將驅動用的電源電壓及電氣信號供電至靜電夾盤100,使被加工板體W吸附在靜電夾盤100(例如,參照專利文獻1)。
然而,在如前述的靜電夾盤100固定于真空室200的系統中,并無法在真空室200內使被加工板體W移動至預定部位、或使被加工板體W翻轉,對于處理作業的靈活性較差。
因此,近年來設計出一種將靜電夾盤100設置成能夠在處理裝置的真空室200內移動的系統。
如圖9所示,該靜電夾盤100為滑動自如地配置在載臺150上。借此,靜電夾盤100為在吸附被加工板體W的狀態下搬運至真空室200內的預定部位,使被加工板體W配置在該部位。
一般在如前述的系統中,電源210配置在真空室200的外部,并通過電壓電纜220、220而連接該電源210與由吸附電極130延伸出的供電銷131、131。
然而,近年來從顯示器的大型化及作業時間的縮短化的觀點來看,產生了利用靜電性夾盤100吸附搬運玻璃基板等大型且具重量的被加工板體W的必要性。
為了如前所述將大型且具重量的被加工板體W予以吸附,必須將供應給靜電夾盤100的吸附電極130的電壓設為高電壓,而提升靜電夾盤100的吸附力。尤其,如在蒸鍍裝置所使用的靜電夾盤100,在必須將沉重的被加工板體W朝下側并予以吸附的夾盤中,必須形成非常高的吸附力。
然而,真空室200內于真空環境下,在電壓電纜220、220間會產生放電的疑慮很高。
因此,就電壓電纜220、220而言,為采用高耐壓電纜,并且考慮帕邢(paschen)的易放電區域,來防止真空室200內的電纜部分的放電。這是利用聚硅氧(silicone)或環氧橡膠系的樹脂將導體部分容易露出的部位予以密封而達成。具體而言,利用密封材231、231密封電壓電纜220、220的裝置內電纜部分221、221與供電銷131、131的連接部分,并且利用密封材232、232來密封裝置內電纜部分221、221與裝置外電纜部分222、222的連接部分。
(先前技術文獻)
(專利文獻)
專利文獻1:日本特開2011-238934號公報。
發明內容
(發明所欲解決的課題)
然而,在前述的現有的技術中,會有如下述的問題點。
也就是,因為長年反復進行靜電夾盤100的移動,使負載施加在裝置內電纜部分221、221與供電銷131、131的連接部分及裝置內電纜部分221、221與裝置外電纜部分222、222的連接部分,而會有使密封材231、232劣化的疑慮。結果,因這些接觸部分的露出,而會有產生放電的疑慮。
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
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