[發明專利]在懸浮熔煉爐中熔煉有色金屬硫化物的方法和懸浮熔煉爐

有效

• 申請號: 201380059436.1
• 申請日: 2013-11-12
• 公開（公告）號: CN104797721B
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發明（設計）人: L·佩索寧;P·比約克倫德
• 申請（專利權）人: 奧圖泰(芬蘭)公司
• 主分類號: C22B15/00
• 分類號: C22B15/00;F27D3/00;F27D3/18
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 林振波

1.一種用于在懸浮熔煉爐中熔煉有色金屬硫化物(13)的方法，其中，所述方法包括

使用懸浮熔煉爐，所述懸浮熔煉爐包括：反應塔(1)；經由第一連通點(3)與反應塔(1)連通的沉淀池(2)，所述第一連通點形成在反應塔(1)的下端和沉淀池(2)之間；和經由第二連通點(5)與沉淀池(2)連通的上升煙道(4)，所述第二連通點形成在沉淀池(2)和上升煙道(4)的下端之間，其中，所述沉淀池(2)包括：底部結構(6)、頂壁結構(7)、在底部結構(6)和頂壁結構(7)之間的第一側壁結構(8)和第二側壁結構(9)、以及在沉淀池(2)的一端的第一端壁結構(10)和在沉淀池(2)的另一端的第二端部結構(11)，

給送步驟，用于通過精礦噴嘴(12)將有色金屬硫化物(13)和反應氣體(14)給送入反應塔(1)中，以便使有色金屬硫化物(13)和反應氣體(14)在反應塔(1)中一起反應，從而產生熔體，

收集步驟，用于在沉淀池(2)中收集熔體，以便使具有頂面(16)的熔體層(15)形成在沉淀池(2)中，以及

氣體排出步驟，用于借助上升煙道(4)從懸浮熔煉爐排出過程氣體(17)，

其特征在于，

設置步驟，用于設置至少一個噴注裝置(18)，該噴注裝置用于將流體(19)和粉狀物質(20)中的至少之一從沉淀池(2)的第一側壁結構(8)和第二側壁結構(9)中的至少之一注入沉淀池(2)，以便借助所述至少一個噴注裝置(18)在沉淀池(2)的熔體層(15)的頂面(16)上方把流體(19)和/或粉狀物質(20)注入沉淀池(2)，

噴注步驟，用于借助所述至少一個噴注裝置(18)將流體(19)和/或粉狀物質(20)注入沉淀池(2)，

在噴注步驟中借助所述至少一個噴注裝置(18)將流體(19)和/或粉狀物質(20)沿平行于或大體平行于熔體層(15)的頂面(16)的方向注入沉淀池(2)，以及

在噴注步驟中借助所述至少一個噴注裝置(18)將流體(19)和/或粉狀物質(20)注入在沉淀池(2)中熔體層(15)的頂面(16)上方在沉淀池(2)中存在的過程氣體(17)內且不送入沉淀池的熔體內。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在設置步驟中將噴注裝置(18)設置在第一側壁結構(8)和第二側壁結構(9)上。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，在設置步驟中以不對齊的配置設置噴注裝置(18)，使得在第一側壁結構(8)處的噴注裝置(18)指向相對的第二側壁結構(9)，并且在第二側壁結構(9)處的噴注裝置(18)指向相對的第一側壁結構(8)。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，在設置步驟中將至少一個噴注裝置(18)設置在沉淀池(2)的第一側壁結構(8)和第二側壁結構(9)中的至少一個上，并處于沉淀池(2)的在第一連通點(3)和第二連通點(5)之間的區域中，其中，第一連通點形成在反應塔(1)和沉淀池(2)之間，第二連通點在沉淀池(2)和上升煙道(4)之間。