[發明專利]成像系統對象支撐體有效
| 申請號: | 201380059281.1 | 申請日: | 2013-11-14 |
| 公開(公告)號: | CN104797193B | 公開(公告)日: | 2018-11-13 |
| 發明(設計)人: | M·D·赫羅爾德;T·A·布雷門烏爾;J·卡隆 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/03 | 分類號: | A61B6/03;A61B6/04 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;劉炳勝 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成像 系統 對象 支撐 | ||
1.一種成像系統(600),包括:
旋轉機架部分(606),其具有限定檢查區域的孔徑;
臺面(620),其被配置為在所述檢查區域中支撐對象,其中,所述臺面懸挑到所述檢查區域中并且在所述檢查區域中偏轉;以及
臺面偏轉確定器(622),其被配置為確定所述臺面在所述檢查區域中的偏轉,其中,所述臺面偏轉確定器的第一部分(702、706)被定位于所述旋轉機架部分上,并且所述臺面偏轉確定器的第二部分(704)被定位于所述臺面的當所述臺面在所述檢查區域中時偏轉的部分上的所述臺面背朝等中心的一側上,其中,所述偏轉是相對于所述旋轉機架部分和所述等中心而被測量得到的。
2.如權利要求1所述的成像系統,其中,所述第一部分包括發射器(702)和傳感器(706)。
3.如權利要求2所述的成像系統,其中,所述發射器包括激光器并且所述傳感器包括探測器元件(710)的陣列。
4.如權利要求2所述的成像系統,其中,所述第二部分包括反射器。
5.如權利要求4所述的成像系統,其中,所述反射器包括以下中的至少一種:反射涂覆物、反射膜、反射鏡、或二向色鏡。
6.如權利要求4至5中的任一項所述的成像系統,其中,所述發射器、所述反射器和所述傳感器被相對于彼此布置為使得由所述發射器發出的射束反射離開所述反射器,并在所述傳感器上對應于第一偏轉量的第一位置處和在所述傳感器上對應于第二不同偏轉量的第二不同位置處,撞擊所述傳感器。
7.如權利要求1至5中的任一項所述的成像系統,還包括:
固定機架部分(604);
接近度傳感器(712),其被附接到所述固定機架部分;以及
標志傳感器(714),其被附接到所述旋轉機架部分,其中,所述標志傳感器被配置為傳達響應于所述標志傳感器在所述接近度傳感器的預定范圍內而激活所述臺面偏轉確定器的命令信號。
8.如權利要求1至5中的任一項所述的成像系統,還包括:
偏轉信息處理器(624),其被配置為處理所述偏轉并基于所述偏轉來確定以下中的至少一項:針對掃描的劑量調制曲線、針對所述掃描的碰撞包絡、或者針對重建的圖像對齊。
9.如權利要求8所述的成像系統,其中,所述偏轉信息處理器被配置為基于所述偏轉來估計所述對象的重量。
10.如權利要求9所述的成像系統,其中,所述偏轉信息處理器被配置為基于所述估計來識別臺面重量超載。
11.如權利要求8所述的成像系統,其中,所述偏轉信息處理器被配置為基于所述偏轉來估計所述臺面上的所述對象的運動。
12.一種方法,包括:
將對象支撐體的臺面送進到成像系統的檢查區域中;以及
使用臺面偏轉確定器來測量所述臺面的偏轉,所述臺面偏轉確定器至少包括定位于所述成像系統的旋轉機架部分上的第一部分并且至少包括第二部分,所述第二部分定位于所述臺面的當所述臺面在所述檢查區域中時偏轉的部分上的所述臺面的背朝等中心的一側上,其中,所述偏轉是相對于所述旋轉機架部分和所述等中心而被測量得到的。
13.如權利要求12所述的方法,還包括:
使用所述測量結果來確定以下中的至少一項:針對掃描的劑量調制曲線、碰撞包絡、或圖像重建對齊。
14.如權利要求13所述的方法,還包括:
基于所述劑量調制曲線、所述碰撞包絡、或所述圖像重建對齊中的所述至少一項來掃描所述對象。
15.一種編碼有一個或多個計算機可執行指令的計算機可讀存儲介質,所述一個或多個計算機可執行指令在被計算系統的處理器運行時,令所述處理器:使用臺面偏轉確定器測量成像系統臺面中定位于等中心處的部分的偏轉,所述臺面偏轉確定器至少具有定位于所述成像系統的旋轉機架部分上的第一部分并且至少具有第二部分,所述第二部分定位于所述臺面的當所述臺面在檢查區域中時偏轉的部分上的所述臺面的背朝等中心的一側上,其中,所述偏轉是相對于所述旋轉機架部分和所述等中心而被測量得到的。
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