[發明專利]離子性聚合物膜的制造方法在審
| 申請號: | 201380059232.8 | 申請日: | 2013-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN104885272A | 公開(公告)日: | 2015-09-02 |
| 發明(設計)人: | 平居丈嗣 | 申請(專利權)人: | 旭硝子株式會社 |
| 主分類號: | H01M8/02 | 分類號: | H01M8/02;C08J5/22;H01B13/00;H01M4/88;H01M8/10 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 胡燁;金明花 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 離子 聚合物 制造 方法 | ||
1.離子性聚合物膜的制造方法,其特征在于,包括下述工序(A)~(F):
(A)將具有含以下式(1)表示的基團的構成單元的聚合物(i)的所述以式(1)表示的基團轉化為以下式(2)表示的基團而形成聚合物(ii)的工序;
(B)使所述聚合物(ii)與以下式(a)表示的化合物反應,將所述聚合物(ii)的以式(2)表示的基團轉化為以下式(3)表示的基團而形成聚合物(iii)的工序;
(C)將所述聚合物(iii)的以式(3)表示的基團轉化為以下式(4)表示的基團而形成聚合物(iv)的工序;
(D)在所述工序(A)之前,形成包含所述聚合物(i)的聚合物膜,或者
在所述工序(A)與所述工序(B)之間,形成包含所述聚合物(ii)的聚合物膜,或者
在所述工序(B)與所述工序(C)之間,形成包含所述聚合物(iii)的聚合物膜,或者
在所述工序(C)與下述工序(E)之間,形成包含所述聚合物(iv)的聚合物膜的工序;
(E)在所述工序(C)之后,且在所述工序(D)與下述工序(F)之間,對包含所述聚合物(iv)的聚合物膜進行熱處理的工序;
(F)將所述聚合物(iv)的以式(4)表示的基團轉化為以下式(5)表示的基團而形成聚合物(v),獲得包含該聚合物(v)的離子性聚合物膜的工序;
-SO2F…(1),
-SO2NZ1Z2…(2),
FSO2(CF2)2SO2F…(a),
-SO2N-(Mα+)SO2(CF2)2SO2F…(3),
-SO2N-(H+)SO2(CF2)2SO2F…(4),
-SO2N-(Mβ+)SO2(CF2)2SO3-Mβ+…(5);
式中,
Z1和Z2分別獨立地為選自氫原子、1價金屬元素和Si(R)3的基團;
R為氫原子、或可含醚性氧原子的碳數1~12的1價有機基團,3個R可以是相同的基團,也可以是不同的基團;
Mα+為1價金屬陽離子或來源于有機胺的1價陽離子;
Mβ+為氫離子、1價金屬陽離子或來源于有機胺的1價陽離子。
2.如權利要求1所述的離子性聚合物膜的制造方法,其特征在于,所述以式(2)表示的基團為-SO2NH2。
3.如權利要求1或2所述的離子性聚合物膜的制造方法,其特征在于,所述工序(B)中,化合物(a)的使用量以相對于聚合物(ii)所具有的以式(2)表示的基團的摩爾比計為0.5~20。
4.如權利要求1~3中的任一項所述的離子性聚合物膜的制造方法,其特征在于,所述工序(E)中,在160℃以下對所述聚合物膜進行熱處理。
5.如權利要求1~4中的任一項所述的離子性聚合物膜的制造方法,其特征在于,所述聚合物(i)為全氟聚合物。
6.固體高分子型燃料電池用電解質膜的制造方法,其特征在于,通過權利要求1~5中的任一項所述的離子性聚合物膜的制造方法,制造所述離子性聚合物膜作為電解質膜。
7.如權利要求6所述的固體高分子型燃料電池用電解質膜的制造方法,其特征在于,所述電解質膜還包含選自鈰和錳的1種以上的原子。
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