[發明專利]相位調制方法以及相位調制裝置

在審

• 申請號: 201380058975.3
• 申請日: 2013-11-07
• 公開（公告）號: CN104781724A
• 公開（公告）日: 2015-07-15
• 發明（設計）人: 瀧口優;井上卓
• 申請（專利權）人: 浜松光子學株式會社
• 主分類號: G02F1/01
• 分類號: G02F1/01;G02F1/13
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 楊琦

1.一種相位調制方法，其特征在于：

是通過使用具有包含二維排列的多個區域的相位調制面的空間光調制器，在所述多個區域的每個區域調制包括光軸的任意的截面上的強度分布相對于所述光軸成為軸對稱的讀出光的相位，從而生成調制光的相位調制方法，

具備：

相位分布計算步驟，以在從所述相位調制面僅離開規定的光學距離的靶面上所述調制光具有規定的強度分布的方式計算出顯示于所述相位調制面的相位分布；以及

調制光生成步驟，使所述相位分布顯示于所述相位調制面并使所述讀出光入射到所述相位調制面而生成所述調制光，

所述相位分布計算步驟包含：

設定步驟，以將所述讀出光所入射的所述相位調制面上的區域分割成將所述讀出光的光軸作為中心的同心圓狀的N個區域A₁……A_N并且包括所述讀出光的光軸的截面上的所述區域A₁……A_N上的強度分布的積分值互相相等的方式設定所述區域A₁……A_N的大小，以將所述靶面上的區域分割成將所述調制光的光軸作為中心的同心圓狀的N個區域B₁……B_N并且包括所述調制光的光軸的截面上的所述區域B₁……B_N上的強度分布的積分值互相相等的方式設定所述區域B₁……B_N的大小，其中，N為2以上的整數；以及

計算步驟，通過求得從所述區域A_n到所述區域B_n的光路長度L_n并根據所述光路長度L_n決定所述區域A_n的相位，從而計算出所述相位分布，其中，n為從1到N的各個整數。

2.如權利要求1所述的相位調制方法，其特征在于：

所述相位分布計算步驟還包含測量包括入射到所述相位調制面的所述讀出光的光軸的截面上的強度分布的測量步驟。

3.如權利要求1或者2所述的相位調制方法，其特征在于：

從所述相位調制面到所述靶面的所述調制光的光路由空隙所構成。

4.一種相位調制裝置，其特征在于：

具備：

光源，輸出包括光軸的任意的截面上的強度分布相對于所述光軸成為軸對稱的讀出光；

空間光調制器，具有包含二維排列的多個區域的相位調制面，通過在所述多個區域的每個區域調制所述讀出光的相位，從而生成調制光；以及

相位分布運算部，以在從所述相位調制面僅離開規定的光學距離的靶面上所述調制光具有規定的強度分布的方式計算出顯示于所述相位調制面的相位分布，

所述相位分布運算部通過以將所述讀出光所入射的所述相位調制面上的區域分割成將所述讀出光的光軸作為中心的同心圓狀的N個區域A₁……A_N并且包括所述讀出光的光軸的截面上的所述區域A₁……A_N上的強度分布的積分值互相相等的方式設定所述區域A₁……A_N的大小，以將所述靶面上的區域分割成將所述調制光的光軸作為中心的同心圓狀的N個區域B₁……B_N并且包括所述調制光的光軸的截面上的所述區域B₁……B_N上的強度分布的積分值互相相等的方式設定所述區域B₁……B_N的大小，求得從所述區域A_n到所述區域B_n的光路長度L_n并且根據所述光路長度L_n決定所述區域A_n的相位，從而計算出顯示于所述相位調制面的相位分布，其中，N為2以上的整數，n為從1到N的各個整數。

5.如權利要求4所述的相位調制裝置，其特征在于：

還具備：測量部，測量包括入射到所述相位調制面的所述讀出光的光軸的截面上的強度分布。