[發(fā)明專利]一種氫水制備裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380058947.1 | 申請日: | 2013-11-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104968608B | 公開(公告)日: | 2017-03-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金成泰;李根圭 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社PAINO;金成泰 |
| 主分類號(hào): | C02F1/461 | 分類號(hào): | C02F1/461;C25B1/04;C25B1/13 |
| 代理公司: | 湖州金衛(wèi)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)33232 | 代理人: | 裴金華 |
| 地址: | 韓國首爾特*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 制備 裝置 | ||
1.一種氫水制備裝置,所述裝置包括:
被配置以電解水的電解設(shè)備,且該電解設(shè)備包括由陽極、陰極、固體高分子電解質(zhì)膜和輔助電極形成的電極模塊,其中所述電解設(shè)備以所述電極模塊為中心被分隔成第一室和第二室;
被配置以通過設(shè)置在所述第一室內(nèi),排放氫水的氫水排放端口,所述氫水包含在所述第一室的陰極處產(chǎn)生的活性氫;
被配置以通過設(shè)置在所述第一室內(nèi),向陰極噴射水的噴射端口;
被配置以排放含有在所述第二室陽極產(chǎn)生的臭氧的水的臭氧水排放端口;
被配置在其內(nèi)部空間存儲(chǔ)氫水和消毒水的存儲(chǔ)槽,通過連接至與所述氫水排放端口連接的第一流動(dòng)通道和與所述第一流動(dòng)通道連接的第二流動(dòng)通道,并接收在所述第一室內(nèi)產(chǎn)生的氫水,以及通過與所述臭氧水排放端口連接的第四流動(dòng)通道,接收在所述第二室內(nèi)產(chǎn)生的消毒水;以及
包含輸出端和輸入端的泵,所述輸出端連接至與所述噴射端口連接的第三流動(dòng)通道,所述輸入端連接至與所述存儲(chǔ)槽底面連接的第五流動(dòng)通道,其中所述噴射端口利用所述泵壓噴射存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)槽中的氫水,比通過所述氫水排放端口排放氫水的流速快。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述裝置,其特征在于,
所述噴射端口、所述陰極和所述臭氧水排放端口的中心相互同軸設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述裝置,其特征在于,
所述噴射端口可將存儲(chǔ)在存儲(chǔ)槽內(nèi)的氫水,沿與所述氫水排放端口排放氫水的移動(dòng)方向垂直的方向,向所述陰極噴射。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述裝置,其特征在于,
所述第四流動(dòng)通道通過其被分為臭氧去除流動(dòng)通道(D1)和消毒水流動(dòng)通道(D2),連接至所述存儲(chǔ)槽。
5.一種氫水制備裝置,所述裝置包括:
被配置以電解水的電解設(shè)備,且該電解設(shè)備包括由陽極、陰極、固體高分子電解質(zhì)膜和輔助電極形成的電極模塊,其中所述電解設(shè)備以所述電極模塊為中心被分隔成第一室和第二室;
被配置以通過直接連接至供應(yīng)水的水源,提供水給所述電解設(shè)備第一室的進(jìn)入端口;
被配置以通過設(shè)置在所述第一室內(nèi),排放氫水的氫水排放端口,所述氫水包含通過第一和第二流動(dòng)通道在所述第一室的陰極處產(chǎn)生的活性氫;
被配置以通過連接至從所述第一流動(dòng)通道分支出來的第三流動(dòng)通道,將從所述氫水排放端口排放的氫水噴射至所述第一室的噴射端口;以及
被配置以通過連接至第四流動(dòng)通道,排放含有在所述第二室陽極產(chǎn)生的臭氧的水的臭氧水排放端口,
其中所述第二和第四流動(dòng)通道通過合并在一起提供含消毒水的氫水給用戶。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述裝置,其特征在于,
所述進(jìn)入端口和所述氫水排放端口的中心可相互同軸設(shè)置,以及
所述噴射端口、陰極和所述臭氧水排放端口的中心可相互同軸設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述裝置,其特征在于,
所述噴射端口可將存儲(chǔ)在存儲(chǔ)槽內(nèi)的氫水,沿與所述氫水排放端口排放氫水的移動(dòng)方向垂直的方向,向所述陰極噴射。
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