[發明專利]無壓力的臭氧化去離子水(DIO3)的再循環回收系統和方法有效
| 申請號: | 201380058623.8 | 申請日: | 2013-11-04 |
| 公開(公告)號: | CN104903245B | 公開(公告)日: | 2016-11-30 |
| 發明(設計)人: | J·H·塞沃特;U·A·布拉默;M·布拉查;G·J·施奈特 | 申請(專利權)人: | MKS儀器股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D19/00 | 分類號: | B01D19/00;G03F7/42;H01L21/02;C02F1/78;C02F103/34 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 張蘭英 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓力 臭氧 離子水 dio sub 再循環 回收 系統 方法 | ||
1.一種再循環臭氧化液體的系統,該系統包括:
接觸器,接觸器包括至少兩個入口和至少兩個出口,所述接觸器在第一接觸器入口處與第一流體源并在第二接觸器入口處與第二液體源流體地連通,且所述第二接觸器入口接收氣體,該氣體清除來自在所述第一接觸器入口處接收的液體的氣體的至少一部分,該清除的氣體在第一接觸器出口處流出所述接觸器,
其中,所述接觸器在第二接觸器出口處與所述第二液體源流體地連通,該接觸器排放所述接觸器內所述液體的至少一部分,排放的液體在所述第二接觸器出口處流出所述接觸器,以及
其中,所述接觸器包括與所述第一液體源流體地連通的第三入口,該第三入口允許所述第一液體源釋放環境壓力下的液體。
2.如權利要求1所述的系統,其特征在于,在所述第一接觸器入口處接收的液體的至少一部分包括:通過所述第二接觸器出口從所述接觸器排放的液體的至少一部分。
3.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述接觸器包括與第三液體源流體地連通的第四入口,該第四入口從第三液體源接收新鮮液體,其替換從所述接觸器排出的液體的至少一部分。
4.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述接觸器包括任何填實的柱體、板柱體、或氣泡柱體。
5.如權利要求1所述的系統,其特征在于,該系統還包括與接觸器流體地連通的第一泵,第一泵通過以下方式與接觸器流體地連通:通過a)與所述接觸器的所述第二出口流體地連通的第一泵的至少一個入口,以及b)與所述第二液體源流體地連通的所述第一泵的出口。
6.如權利要求5所述的系統,其特征在于,所述第一泵的所述出口通過所述接觸器的第四入口與所述接觸器流體地連通。
7.如權利要求5所述的系統,其特征在于,所述第一泵包括離心泵。
8.如權利要求1所述的系統,其特征在于,該系統還包括自毀部件,所述自毀部件包括至少一個入口,該自毀部件的所述入口與所述第一接觸器出口流體地連通。
9.如權利要求8所述的系統,其特征在于,所述自毀部件的所述入口接收由所述接觸器清除的氣體的至少一部分。
10.如權利要求9所述的系統,其特征在于,用CDA或其它惰性氣體,加熱或稀釋在所述自毀部件的所述第一入口處接收的氣體。
11.如權利要求9所述的系統,其特征在于,所述自毀部件的所述出口排出在所述自毀部件所述入口處接收的清除的氣體的至少一部分。
12.如權利要求10所述的系統,其特征在于,測量所述自毀部件所述出口處的氣體流動,該信息用于系統的控制。
13.如權利要求11所述的系統,其特征在于,所述自毀部件使用催化劑來將接收的氣體轉換為氧氣,并通過所述自毀部件的所述出口排出氧氣。
14.如權利要求13所述的系統,其特征在于,所述催化劑包括以下中的任何一個:(i)基于氧化錳的產物或(ii)基于碳的產物。
15.如權利要求1所述的系統,其特征在于,(i)在所述接觸器所述第一入口處被接收或(ii)從所述接觸器所述第二出口處排出的任何的液體包括臭氧化的去離子水(DIO3)。
16.如權利要求1所述的系統,其特征在于,在所述接觸器所述第一入口處接收的氣體包括:(i)O3,(ii)O2,(iii)CO2,(iv)N2,(iv)清潔的干空氣(CDA),(v)惰性氣體,(vi)摻雜氣體,(vii)廢氣,(viii)來自第二液體源的廢氣,或它們的任何組合。
17.如權利要求1所述的系統,其特征在于,從所述液體中清除的氣體的所述部分包括:(i)O3,(ii)O2,(iii)CO2,或它們的任何組合。
18.如權利要求17所述的系統,其特征在于,在所述接觸器所述第一入口處接收的所述氣體是來自所述第二液體源的廢氣。
19.如權利要求1所述的系統,其特征在于,第一液體源包括用于半導體制造工藝中的工具。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于MKS儀器股份有限公司,未經MKS儀器股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380058623.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:用于水脫鹽的設備及該設備的使用以及過程
- 下一篇:制造高純度氧化鋁的方法





