[發明專利]圖像處理裝置、基于自組裝光刻技術的圖案生成方法以及計算機程序

在審

• 申請號: 201380058529.2
• 申請日: 2013-11-14
• 公開（公告）號: CN104781908A
• 公開（公告）日: 2015-07-15
• 發明（設計）人: 酢谷拓路;伊澤美紀;腰原俊介;杉山明之
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高新技術
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027;B82Y40/00;G01B15/04
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 范勝杰;曹鑫

1.一種圖像處理裝置，其具備使用預先生成的模板在圖像上執行圖案匹配的匹配處理部，該圖像處理裝置的特征在于，

該匹配處理部使用根據表示應用于自組裝光刻的導向圖案的數據形成的模板來執行所述圖案匹配。

2.根據權利要求1所述的圖像處理裝置，其特征在于，

所述匹配處理部使用在所述導向圖案的內部選擇性地排列由所述自組裝光刻時的退火處理形成的圖案而得的模板來執行所述圖案匹配。

3.根據權利要求2所述的圖像處理裝置，其特征在于，

所述模板表示通過對在所述導向圖案的內部進一步形成了導向圖案的圖案實施所述退火處理而得到的圖案形狀。

4.根據權利要求1所述的圖像處理裝置，其特征在于，

所述模板是從通過帶電粒子束裝置取得的圖像中去除所述導向圖案外部的高分子化合物的圖像而得到的模板。

5.根據權利要求1所述的圖像處理裝置，其特征在于，

所述模板是向所述導向圖案的圖像數據附加基于在該導向圖案內部形成的高分子化合物而形成的圖案的圖像而得到的模板。

6.根據權利要求5所述的圖像處理裝置，其特征在于，

所述導向圖案的圖像數據是根據該導向圖案的設計數據而得到的圖形數據，或根據針對該設計數據的模擬而得到的圖形數據。

7.一種基于自組裝光刻技術的圖案生成方法，其向形成有導向圖案的試樣上涂布高分子嵌段共聚物后進行退火來進行圖案形成，該圖案生成方法的特征在于，

在成為圖案匹配用模板的圖案的內部，向基于使用形成了導向圖案的光掩模的曝光而生成的圖案上涂布所述高分子嵌段共聚物后進行所述退火，執行圖案形成。

8.根據權利要求7所述的基于自組裝光刻技術的圖案生成方法，其特征在于，

在成為所述模板的圖案的內部等間隔地配置所述導向圖案。

9.根據權利要求8所述的基于自組裝光刻技術的圖案生成方法，其特征在于，

所述導向圖案的寬度以及間距是自組裝技術中的容許尺寸以及容許間距，是僅朝向一個方向的線段。

10.一種計算機程序，其使運算處理裝置使用模板在圖像上執行圖案匹配，該計算機程序的特征在于，

該程序使所述運算裝置使用模板來執行所述圖案匹配，其中，所述模板是根據用于表示在自組裝光刻中所使用的導向圖案的數據來形成的模板。

11.根據權利要求10所述的計算機程序，其特征在于，

該程序使所述運算裝置使用模板來執行所述圖案匹配，其中，所述模板是在所述導向圖案的內部選擇性地排列通過所述自組裝光刻時的退火處理來形成的圖案而得的模板。