[發(fā)明專利]用于制造有機電子器件的新方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201380058401.6
• 申請日: 2013-11-08
• 公開（公告）號: CN104769734A
• 公開（公告）日: 2015-07-08
• 發(fā)明（設計）人: 丹尼斯·菲舒;盧多維科·塔爾泰克;莫斯雷姆·阿拉丁
• 申請（專利權(quán)）人: 國家科學研究中心
• 主分類號: H01L51/00
• 分類號: H01L51/00;C07D309/34;H01L51/42;H01L51/50
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 董科

1.一種用于制造有機電子器件的方法，至少包括以下步驟：

(i)通過包括有至少一種如下通式(I)的化合物的薄膜，通過真空蒸發(fā)在基板上沉積：

其中：

-Xa和Xb是相同或不同的，選自N、P、O、S、Se或Te原子，

-R1，R2，R3和R4是相同或不同的，代表選自具有4到10個碳原子的芳基或雜芳基環(huán)的基團的組中的基團，其中所述芳基或雜芳基環(huán)能夠可選地被一個或多個鹵素原子或OH、CN、NO₂基團，1-30個碳原子烷基，以及烷氧基-OC_nH_2n+1或酯-C(O)OC_nH_2n+1基團取代，其中0≤n≤16，

(ii)光敏活性層在惰性氣氛下的沉積，

(iii)可選地，在步驟(ii)沉積期間，光敏活性層在惰性氣氛下退火，

(iv)活性層在惰性氣氛下沉積用于激子的離解，所述層優(yōu)選基于氟化鋰(LIF)，

(v)層作為陰極電極在惰性氣氛下沉積。

2.如權(quán)利要求1中所述的方法，其特征在于，在空氣除凈的情況下進行。

3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，如通式(I)中的化合物的Xa和Xb原子是相同的并且選自O、S或Se原子，并且優(yōu)選Xa＝Xb＝O。

4.如權(quán)利要求1至3中任意一項所述的方法，其中，通式(I)中化合物中的芳基或雜芳基環(huán)R1，R2，R3和R4，選自苯基、萘基、蒽基、苯并惡唑基、噻吩基或烷氧苯硫基、呋喃基、吡咯基、吡啶基、吡嗪基、吡唑基、噠嗪基、嘧啶基、三唑基、咪唑基、惡唑基、吲哚基、吲唑基、喹啉基和喹喔啉環(huán)，并且優(yōu)選R1，R2，R3和R4是相同的并代表一個苯基。

5.如權(quán)利要求1至4中任意一項所述的方法，其中，步驟(i)中通過真空蒸發(fā)的沉積是在超高真空室中進行的。

6.如權(quán)利要求1至5中任意一項所述的方法，其中，步驟(i)中通過真空蒸發(fā)的沉積是在蒸發(fā)速率小于進行的，優(yōu)選小于或等于更優(yōu)選小于或等于

7.如權(quán)利要求1至6中任意一項所述的方法，其中，所述包含至少一種如通式(I)的化合物的薄膜厚度小于45nm，優(yōu)選小于或等于30nm，更優(yōu)選小于或等于15nm。

8.如權(quán)利要求1至7中任意一項所述的方法，其中，所述基板選自絕緣性基板，例如玻璃或聚合物，或?qū)щ娀?，如金屬氧化物?/p>

9.如權(quán)利要求1至8中任意一項所述的方法，其中，如通式(I)的化合物的來源與基板之間的距離在10到40cm之間，在步驟(i)中，優(yōu)選25-35cm之間。

10.如權(quán)利要求1至9中任意一項所述的方法，其中，在步驟(i)和(ii)之間具有導電中間層沉積的步驟，所述導電中間層優(yōu)選PEDOT：PSS層。

11.如權(quán)利要求1至10中任意一項所述的方法，其中，步驟(ii)的沉積是在置于氮或氬惰性氣氛中的手套式操作箱中進行的。

12.如權(quán)利要求1至11中任意一項所述的方法，其中，所述步驟(ii)中的沉積是通過旋轉(zhuǎn)涂覆實現(xiàn)的。

13.如權(quán)利要求1至12中任意一項所述的方法，其中，步驟(iii)的退火是在管式爐中，在30至150℃的溫度下進行的，時間為1分鐘到24小時之間。

14.如權(quán)利要求1至13中任意一項所述的方法，其中，步驟(iv)的沉積是通過干處理法實現(xiàn)的，優(yōu)選通過化學氣相沉積CVD，蒸發(fā)速率小于時進行，優(yōu)選小于或等于更優(yōu)選小于或等于

15.如權(quán)利要求1至14中任意一項所述的方法，其中，干處理法處理的沉積是在退火溫度在80和120℃之間，壓力在10^-4和10^-8毫巴之間，時間為2至4小時之間的情況下進行的。

16.如權(quán)利要求1至15中任意一項所述的方法，其中，步驟(v)的沉積是在超高真空室中進行的。

17.如權(quán)利要求1至16中任意一項所述的方法，其中，步驟(v)的沉積是通過干處理法以蒸發(fā)速率小于或等于進行的，優(yōu)選為之間。