[發(fā)明專利]用于在表面上沉積導(dǎo)電覆層的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380058142.7 | 申請日: | 2013-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN104769149B | 公開(公告)日: | 2018-05-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 邁克爾·赫蘭德;邱杰克;王志斌;盧征鴻 | 申請(專利權(quán))人: | OTI領(lǐng)英有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/02 | 分類號: | C23C14/02;C23C14/04;C23C14/20;H01L21/283;H01L51/44;H01L51/52 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 王慶艷;劉繼富 |
| 地址: | 加拿大*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 表面上 沉積 導(dǎo)電 覆層 方法 | ||
本發(fā)明提供用于在表面上沉積導(dǎo)電覆層的方法,該方法包括通過在表面上沉積富勒烯來處理表面以產(chǎn)生經(jīng)處理的表面,和在經(jīng)處理的表面上沉積導(dǎo)電覆層。該導(dǎo)電覆層一般包含鎂。還提供了根據(jù)該方法生產(chǎn)的產(chǎn)品和有機光電裝置。
先前申請的交叉引用
本申請根據(jù)巴黎公約要求2012年11月6日提交的美國申請61/723,127號的優(yōu)先權(quán),其全部內(nèi)容通過引用并入到本文中。
技術(shù)領(lǐng)域
下文涉及用于制造電子裝置、更具體地有機光電裝置的方法。特別地,下文涉及用于在表面上沉積包含鎂的導(dǎo)電覆層的方法。
背景技術(shù)
有機發(fā)光二極管(OLED)一般包括介于導(dǎo)電薄膜電極之間的幾個有機材料層,有機層中的至少一個為電致發(fā)光層。當(dāng)將電壓施加到電極時,分別從陽極和陰極注入空穴和電子。由電極注入的空穴和電子遷移穿過有機層到達電致發(fā)光層。當(dāng)空穴和電子很接近時,它們由于庫侖力而彼此吸引。空穴與電子于是可以結(jié)合以形成被稱為激子的束縛態(tài)。眾所周知的,激子可以通過其中釋放光子的輻射復(fù)合過程衰減。或者,激子可以通過其中不釋放光子的非輻射復(fù)合過程衰減。
輻射復(fù)合過程可以以熒光或磷光過程發(fā)生,這取決于電子-空穴對(即激子)的自旋態(tài)。特別地,由電子-空穴對形成的激子可以以具有單線態(tài)自旋態(tài)或三線態(tài)自旋態(tài)為特征。一般地,單線態(tài)激子的輻射衰減產(chǎn)生熒光,而三線態(tài)激子的輻射衰減產(chǎn)生磷光。
在OLED中通常使用的有機材料中所形成的激子的約四分之一為單線態(tài)激子,剩余四分之三為三線態(tài)激子。眾所周知的,從三線態(tài)到單線態(tài)的直接躍遷在量子力學(xué)中被認為是“禁阻的”躍遷,因此,從三線態(tài)到單線態(tài)的輻射衰減的可能性一般是很小的。不幸地,在OLED中使用的多數(shù)有機材料的基態(tài)是單線態(tài),這妨礙了在這些材料中在環(huán)境溫度下處于三線態(tài)的激子到單線態(tài)基態(tài)的有效輻射衰減。因此,在典型的OLED中,電致發(fā)光主要通過熒光實現(xiàn),由此產(chǎn)生約25%的最大內(nèi)量子效率。應(yīng)注意,如本文中所使用的,內(nèi)量子效率(IQE)應(yīng)理解為在裝置中所產(chǎn)生的通過輻射復(fù)合過程衰減的所有電子-空穴對的比例。
盡管從三線態(tài)到基態(tài)單線態(tài)的輻射衰減在多數(shù)有機材料中以極其慢的速率發(fā)生,但是通過引入具有高自旋軌道耦合常數(shù)的物質(zhì)可以明顯增加衰減的速率(即復(fù)合速率)。例如,在所謂的磷光OLED中已經(jīng)采用了過渡元素如Ir(III)和Pt(III)的復(fù)合物,這是因為這些物質(zhì)的高自旋軌道耦合常數(shù)有利于更有效的從三線態(tài)到基態(tài)單線態(tài)的輻射衰減。因此,約75%的處于三線態(tài)的激子中的一部分或全部也可以有效地躍遷至單線態(tài)基態(tài)并發(fā)射光,由此產(chǎn)生具有接近100%的最大IQE的裝置。
OLED裝置的外量子效率(EQE)可以被定義為被提供到OLED的載流子與由裝置發(fā)射的光子數(shù)量的比率。例如,100%的EQE意味著對于被注入到裝置中的每個電子都發(fā)射一個光子。如會理解的,裝置的EQE一般明顯低于裝置的IQE。EQE與IQE之間的區(qū)別一般能夠歸因于許多因素,例如由裝置的各種部件導(dǎo)致的光的吸收和反射。提高裝置的EQE的一種方式是使用具有較低功函數(shù)的陰極材料,以使得在裝置的操作期間容易地將電極注入到相鄰的有機層中。通常地,鋁由于其有利的電學(xué)和光學(xué)性能而被用作陰極材料。特別地,鋁具有4.1eV的功函數(shù),是優(yōu)良的導(dǎo)體,并且當(dāng)沉積為膜時在可見光譜中具有較高的反射率。此外,鋁與一些其他金屬相比具有有利的加工特性。例如,鋁具有約1600℃的沉積溫度。
盡管通常選擇鋁作為陰極材料,但在一些應(yīng)用中,鎂明顯可以是比鋁更有利的陰極材料。當(dāng)與鋁相比時,鎂具有3.6ev的較低功函數(shù)。鎂還可以在比鋁的沉積溫度明顯更低的沉積溫度、例如400℃或更低的溫度下進行熱沉積,因此是更具成本效率并且更易于加工的。
然而,如在美國專利第4,885,211號和第5,059,862號中指出的,基本上純的鎂不能被用作用于有機光電裝置的有效陰極,這是因為其對有機材料的附著差并且其環(huán)境穩(wěn)定性低。美國公布第2012/0313099號進一步描述了鎂對有機表面的差的附著。另外,鎂易于氧化,因此,由于陰極的導(dǎo)電性隨著鎂氧化而迅速降低,在氧和/或潮濕環(huán)境下難以制造具有鎂陰極的裝置。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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