[發明專利]用于遠紫外光源的視口保護器

在審

• 申請號: 201380058123.4
• 申請日: 2013-10-22
• 公開（公告）號: CN104781705A
• 公開（公告）日: 2015-07-15
• 發明（設計）人: V·塞尼克里姆延
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G02B5/00
• 分類號: G02B5/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;鄭振

1.一種配件，包括：

用于真空腔室的視口的保護器，所述保護器包括：

襯底材料，所述襯底材料吸收具有放大光束的波長的輻射以及具有目標材料的發射光譜中所包括的波長的輻射，并且透射可見光或近紅外光中的一種或多種，所述目標材料在被所述放大光束離子化時產生EUV光，和

形成于所述襯底材料上的層，其中所述層反射具有所述放大光束的波長的輻射；以及

保持所述保護器的安裝件，其中所述層面向所述真空腔室的內部。

2.根據權利要求1所述的配件，其中所述襯底材料包括玻璃薄膜。

3.根據權利要求1所述的配件，其中所述放大光束具有大約10.6μm的波長。

4.根據權利要求1所述的配件，其中所述層透射可見輻射或近紅外輻射中的一種或多種。

5.根據權利要求4所述的配件，其中所述層僅透射具有從845nm至865nm的波長的輻射。

6.根據權利要求4所述的配件，其中所述層僅透射具有從800nm至840nm的波長的輻射。

7.根據權利要求4所述的配件，其中所述層僅透射具有從1050nm至1090nm的波長的輻射。

8.根據權利要求1所述的配件，其中所述安裝件包括接收并包圍所述保護器的保持器，并且所述保持器與所述視口定義的開孔相配合。

9.根據權利要求8所述的配件，其中所述安裝件進一步包括鎖定部件，所述鎖定部件將所述保護器固定在所述保持器中。

10.根據權利要求8所述的配件，其中所述保持器和所述鎖定部件為環形。

11.根據權利要求10所述的配件，其中所述鎖定部件和所述保持器具有相對應的螺紋，并且所述鎖定部件被旋入所述保持器中以將所述保護器固定在所述保持器中。

12.根據權利要求1所述的配件，其中所述視口的至少一部分是所述安裝件的至少一部分。

13.根據權利要求1所述的配件，其中所述層反射具有目標材料的發射光譜中所包括的波長的輻射，所述目標材料在被所述放大光束離子化時產生EUV光。

14.根據權利要求13所述的配件，其中所述發射光譜中所包括的波長與所述放大光束的波長不同。

15.一種遠紫外(EUV)光源，包括：

接收放大光束的真空腔室，所述真空腔室包括側壁，所述側壁定義了去往所述真空腔室的內部的開口；

耦合至所述真空腔室的視口；和

耦合至所述視口并且面向去往所述真空腔室的所述內部的所述開口的保護器，所述保護器包括：

襯底材料，所述襯底材料吸收具有所述放大光束的波長以及目標材料的發射光譜中所包括的波長的輻射，并且透射可見光或近紅外光中的一種或多種，所述目標材料在被所述放大光束離子化時產生EUV光，和

形成于所述襯底材料上的層，其中所述層反射具有所述放大光束的波長的輻射。

16.根據權利要求15所述的光源，進一步包括被配置為將所述保護器耦合至所述視口的安裝件。

17.根據權利要求15所述的光源，其中所述襯底包括玻璃薄膜。

18.根據權利要求15所述的光源，其中所述視口包括定義開孔的環形盤片，并且通過將所述保護器置于所述視口中而使得所述保護器的所述層面向所述真空腔室的所述內部并且所述保護器的中心與所述開孔的中心相對應，所述保護器被耦合至所述視口。

19.根據權利要求18所述的光源，進一步包括標準銅墊圈，所述標準銅墊圈被配置用于放置在所述視口和所述真空腔室之間。

20.根據權利要求18所述的光源，其中所述層透射可見輻射或近紅外輻射中的一種或多種。