[發(fā)明專利]原料氣化供給裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380057690.8 | 申請日: | 2013-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN104822858A | 公開(公告)日: | 2015-08-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 日高敦志;永瀨正明;山下哲;西野功二;池田信一 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社富士金 |
| 主分類號: | C23C16/448 | 分類號: | C23C16/448;H01L21/31 |
| 代理公司: | 北京五洲洋和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11387 | 代理人: | 劉春成 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 原料 氣化 供給 裝置 | ||
1.一種原料氣化供給裝置,具備:原料收納罐、對從原料收納罐壓送而來的液體進(jìn)行氣化的氣化器、對來自氣化器的原料氣體的流量進(jìn)行調(diào)整的流量控制裝置、以及對氣化器、流量控制裝置及與氣化器和流量控制裝置連接的流路的期望部分進(jìn)行加熱的加熱裝置,其特征在于,
至少針對所述原料收納罐、氣化器、流量控制裝置、將所述各設(shè)備裝置之間加以連結(jié)的流路以及介設(shè)于該流路中的開閉閥中的任一個的金屬表面的各液體接觸部或氣體接觸部,實施了鈍化處理。
2.一種原料氣化供給裝置,具備:儲存有原料的原料收納罐、向原料收納罐供給原料的流路、從原料收納罐的內(nèi)部空間部向處理腔供給原料氣體的原料氣體流路、控制向處理腔供給的原料氣體流量的流量控制裝置、以及將原料收納罐、原料氣體流路和流量控制裝置加熱到設(shè)定溫度的恒溫加熱裝置,其特征在于,
至少針對所述原料收納罐、流量控制裝置、將所述各設(shè)備裝置之間加以連結(jié)的流路以及介設(shè)于該流路中的開閉閥中的任一個的金屬表面的各液體接觸部或氣體接觸部,實施了鈍化處理。
3.如權(quán)利要求1或2所述的原料氣化供給裝置,其特征在于,
對金屬表面的各液體接觸部或氣體接觸部實施的鈍化處理,是Al2O3鈍化處理或Cr2O3鈍化處理或FeF2鈍化處理。
4.如權(quán)利要求1或2所述的原料氣化供給裝置,其特征在于,
流量控制裝置是高溫型壓力式流量控制裝置。
5.如權(quán)利要求1所述的原料氣化供給裝置,其特征在于,
構(gòu)成為在氣化器的氣化腔的上方搭載流量控制裝置的裝置主體。
6.如權(quán)利要求1所述的原料氣化供給裝置,其特征在于,
構(gòu)成為具備液體供給控制裝置,該液體供給控制裝置調(diào)整從原料收納罐向氣化器壓送的液體量,以使流量控制裝置的上游側(cè)的氣體壓力成為預(yù)定的設(shè)定壓力以上。
7.如權(quán)利要求1所述的原料氣化供給裝置,其特征在于,
構(gòu)成為具備溫度控制裝置,該溫度控制裝置調(diào)整氣化器的加熱溫度,以使流量控制裝置的上游側(cè)壓力成為預(yù)定的設(shè)定壓力以上。
8.如權(quán)利要求2所述的原料氣化供給裝置,其特征在于,
將清洗氣體供給通路向流量控制裝置的一次側(cè)以分支狀連結(jié),并且將稀釋氣體供給通路向流量控制裝置的二次側(cè)以分支狀連結(jié)。
9.如權(quán)利要求1或2所述的原料氣化供給裝置,其特征在于,
作為液體接觸部或氣體接觸部的金屬使用不銹鋼(SUS316L)、鎳基合金(C22)、鈷基合金(100)中的任一個,另外,作為形成液體接觸部或氣體接觸部的合成樹脂材料使用聚四氟乙烯樹脂(PFA),進(jìn)而,作為金屬外表面的鈍化處理使用Al2O3鈍化處理。
10.如權(quán)利要求9所述的原料氣化供給裝置,其特征在于,
使壓力檢測器的液體接觸部或氣體接觸部為鎳基合金(C22)制成,閥類的閥座為聚四氟乙烯樹脂(PFA)制成,流量控制裝置的控制閥的隔膜為鈷基合金(100)制成,流路及其他設(shè)備類的結(jié)構(gòu)部件為不銹鋼(SUS316L)制成。
11.如權(quán)利要求9所述的原料氣化供給裝置,其特征在于,
使得來自流量控制裝置的原料氣體的加熱溫度為蒸氣壓成為200kPa?abs以下的溫度,其中原料氣體是除了二乙基鋅(DEZn)的原料氣體之外的原料氣體。
12.如權(quán)利要求9所述的原料氣化供給裝置,其特征在于,
以二乙基鋅(DEZn)作為來自流量控制裝置的原料氣體G,并使得該二乙基鋅的加熱溫度為105℃以下。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





