[發明專利]熱處理的沉淀二氧化硅

有效

• 申請號: 201380057590.5
• 申請日: 2013-11-04
• 公開（公告）號: CN104768520A
• 公開（公告）日: 2015-07-08
• 發明（設計）人: G·E·戴克納;L·E·多蘭
• 申請（專利權）人: 寶潔公司
• 主分類號: A61K8/25
• 分類號: A61K8/25;A61Q11/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳文青;樊云飛

技術領域

本發明涉及用于熱處理沉淀二氧化硅顆粒的方法并且涉及包含如此處理的沉淀二氧化硅顆粒的口腔護理組合物。

背景技術

有效的口腔組合物能夠通過除去牙齒色斑和拋光牙齒來保持和保護牙齒外觀。它還可清潔并且除去外部的碎屑，其能夠有助于預防蛀牙并且促進齒齦健康。

口腔組合物中的研磨劑有助于牙齒色斑所附著的牢固粘附的薄膜的移除。薄膜通常包含一個薄的非細胞糖蛋白-粘蛋白覆蓋層，其在牙齒清潔后的幾分鐘內就粘附到牙釉質上。薄膜內各種食物色素的存在是大多數牙齒變色實例的原因。研磨劑可在對口腔組織(如牙質和釉質)磨損最小的同時除去薄膜。

除了清潔之外，還期望研磨劑體系提供牙齒表面的拋光，因為拋光過的表面可更加能抵抗不可取組分的異常沉積。可通過賦予牙齒拋光的特性而改善牙齒外觀，因為表面粗糙度即其拋光度影響光的反射和散射，這整體上與牙齒的目視外觀有關。表面粗糙度還影響牙齒感覺。例如，拋光過的牙齒具有清潔、光滑和滑溜的感覺。

許多牙粉組合物使用沉淀二氧化硅作為研磨劑。沉淀二氧化硅提及并且描述于1982年7月20日授予Wason的美國專利4,340,583、1993年4月7日授予McKeown等人的歐洲專利535,943A1、1992年2月20日授予McKeown等人的PCT專利WO?92/02454、1997年2月18日授予Rice的美國專利5,603,920和1998年2月10日授予Rice的美國專利5,716,601，以及2004年5月25日授予White等人的美國專利6,740,311中。

雖然提供了有效的牙齒清潔，但是口腔組合物中的沉淀二氧化硅可能表現出與關鍵性配方活性物質諸如亞錫離子的相容性問題。已經顯示，這些相容性問題與沉淀二氧化硅的表面特性如表面積、羥基基團數和孔隙率直接相關。

轉讓給W.R.Grace的PCT公布專利申請WO?93/23007公開了將沉淀二氧化硅在300-850℃下熱處理1-3小時可顯著地改善與CPC或氯己定的相容性。還參考非氟化物治療劑。

美國專利4,346,071(PQ?Corp-8/24/87)公開了通過將硅膠脫水、接著再水合來改善磨蝕度。將其中的硅膠加熱至310℃。

需要與亞錫離子具有良好相容性，同時向牙齒組織提供有效安全的清潔和拋光作用的研磨劑體系。此外，持續需要在降低的成本下能夠提供優異的清潔和拋光作用的研磨劑。本發明的方法和組合物涉及沉淀二氧化硅顆粒的熱處理可提供這些優點中的一個或多個。本發明還涉及包含改善的沉淀二氧化硅顆粒的口腔組合物和使用可提供更好的亞錫穩定性的此類口腔組合物的方法。

發明內容

現在已令人驚訝地發現，不受理論的限制，將沉淀二氧化硅顆粒在高溫下快速熱處理可減少表面羥基，同時保持內部沉淀二氧化硅結構，從而導致與亞錫離子的改善的穩定性。

本發明的方法因此包括利用具有約800℃至約1050℃的溫度的熱將沉淀二氧化硅顆粒處理少于5分鐘。所得的經處理的沉淀二氧化硅顆粒令人驚訝地表現出與亞錫離子的改善的相容性和/或改善的PCR測量值。

本發明的口腔護理組合物包含熱處理的沉淀二氧化硅和亞錫離子源。亞錫離子可來自氟化亞錫或選自以下的亞錫鹽：氯化亞錫、葡糖酸亞錫、乙酸亞錫、酒石酸亞錫、草酸亞錫、硫酸亞錫、檸檬酸亞錫、丙二酸亞錫、乳酸亞錫、磷酸亞錫、焦磷酸亞錫、溴化亞錫、碘化亞錫、以及它們的組合。亞錫離子的量可為約50ppm至約15,000ppm或少于約10,000ppm。

在一個實施例中，在25℃下儲存兩周后或在使用前，亞錫離子將具有大于80％的相容性。在另一個實施例中，在25℃下或在使用前，相容性可大于90％。

還公開的是一種通過向受試者的口腔施用包含熱處理的沉淀二氧化硅和亞錫離子源的組合物來減少牙斑、齒齦炎、敏感、口腔惡臭、腐蝕、蛀牙、牙結石、炎癥、以及牙齒變色的方法。

附圖說明

圖1-當加熱兩小時時，對Z-119二氧化硅的Q3值的影響的圖形表示，數據包括在以下表2中。

圖2-在熱處理兩小時后，Q3值和Z-119二氧化硅的亞錫相容性之間關系的圖形表示，數據包括在以下表2中。

圖3-在兩分鐘時，以亞錫相容性對二氧化硅的熱處理作圖的圖形表示，數據包括在以下表2中。

具體實施方式

雖然在說明書之后提供了特別指出和清楚地要求保護本發明的權利要求書，但是據信，通過下面的描述可以更好地理解本發明。