[發(fā)明專利]沸石膜的再生方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380057371.7
• 申請(qǐng)日: 2013-11-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104755155A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-07-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宮原誠(chéng);市川真紀(jì)子;中村真二;長(zhǎng)坂龍二郎
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日本礙子株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): B01D65/00
• 分類(lèi)號(hào): B01D65/00;B01D69/10;B01D69/12;B01D71/02;C01B39/48
• 代理公司: 上海市華誠(chéng)律師事務(wù)所 31210
• 代理人: 李曉

1.一種沸石膜的再生方法，其中所述沸石膜為在陶瓷多孔質(zhì)體上成膜并對(duì)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑進(jìn)行去除處理的沸石膜，該沸石膜的方法中，在再生溫度下進(jìn)行加熱，所述再生溫度是指在所述陶瓷多孔質(zhì)體與所述沸石膜的熱膨脹量的比例之差以40℃為基準(zhǔn)計(jì)為0.3％以下時(shí)的溫度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沸石膜的再生方法，所述再生溫度是不超過(guò)所述沸石膜成膜時(shí)使用的結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑的氧化熱分解溫度的溫度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的沸石膜的再生方法，升溫至所述再生溫度的速度，或者從所述再生溫度降溫的速度為1℃/h～100℃/h。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3的任一項(xiàng)所述的沸石膜的再生方法，所述再生溫度的保持時(shí)間為10分鐘以上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4的任一項(xiàng)所述的沸石膜的再生方法，所述陶瓷多孔質(zhì)體為具有多個(gè)孔單元的一體型結(jié)構(gòu)狀，該孔單元是通過(guò)多孔性分隔壁由多孔質(zhì)體的長(zhǎng)度方向的一個(gè)端面至另一個(gè)端面劃分而成。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5的任一項(xiàng)所述的沸石膜的再生方法，所述沸石膜為DDR型沸石膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6的任一項(xiàng)所述的沸石膜的再生方法，該方法中，在所述陶瓷多孔質(zhì)體與所述沸石膜的熱膨脹量的比例之差以40℃為基準(zhǔn)計(jì)為0.05～0.23％時(shí)的所述再生溫度下加熱，以透過(guò)所述沸石膜的細(xì)孔的氣體的(所述沸石膜的再生后的透過(guò)量)/(所述沸石膜的再生前的透過(guò)量)×100來(lái)定義的透過(guò)量恢復(fù)率為120％以上。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的沸石膜的再生方法，透過(guò)所述沸石膜的所述細(xì)孔的所述氣體為H₂、He、N₂、CO₂、CH₄的任一種。