[發明專利]蓄電裝置及使用其的電極和多孔片在審
| 申請號： | 201380057156.7 | 申請日： | 2013-11-12 |
| 公開（公告）號： | CN104769752A | 公開（公告）日： | 2015-07-08 |
| 發明（設計）人： | 岸井豐;阿部正男;大谷彰;植谷慶裕;森田成紀 | 申請（專利權）人： | 日東電工株式會社 |
| 主分類號： | H01M4/137 | 分類號： | H01M4/137;H01G11/22;H01M4/36;H01M4/60 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 裝置 使用 電極 多孔 | ||
【權利要求書】：
1.一種蓄電裝置，其特征在于，其具有電解質層和將其夾持而設置的正極和負極，至少一者的電極為至少包含下述(A)和(B)的復合體，并且下述(B)被固定于電極內，
(A)由離子的嵌入·脫嵌導致導電性變化的噻吩系聚合物，
(B)聚羧酸。
2.根據權利要求1所述的蓄電裝置，其特征在于，所述噻吩系聚合物進行了堿處理和/或還原處理。
3.一種蓄電裝置用電極，其特征在于，其為至少包含下述(A)和(B)的復合體，且(B)被固定于電極內，
(A)由離子的嵌入·脫嵌導致導電性變化的噻吩系聚合物，
(B)聚羧酸。
4.根據權利要求3所述的蓄電裝置用電極，其特征在于，所述噻吩系聚合物進行了堿處理和/或還原處理。
5.一種蓄電裝置電極用多孔片，其特征在于，由至少包含下述(A)和(B)的復合體形成，且(B)被固定于電極內，
(A)由離子的嵌入·脫嵌導致導電性變化的噻吩系聚合物，
(B)聚羧酸。
6.根據權利要求5所述的蓄電裝置電極用多孔片，特征在于，所述噻吩系聚合物進行了堿處理和/或還原處理。
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