[發明專利]可輻射固化的聚氨酯分散體在審
| 申請號: | 201380056736.4 | 申請日: | 2013-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN104884532A | 公開(公告)日: | 2015-09-02 |
| 發明(設計)人: | R·R·羅斯勒;L·K·金丁;S·尤納爾;P·D·施米特;R·M·柯尼特斯內 | 申請(專利權)人: | 拜爾材料科學有限公司 |
| 主分類號: | C08L75/04 | 分類號: | C08L75/04;C08K5/17;C08J3/03;C08G18/62 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 陳哲鋒;江磊 |
| 地址: | 美國賓夕*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 輻射 固化 聚氨酯 散體 | ||
1.一種水性聚合物分散體,該分散體包含:
聚氨酯預聚物,所述聚氨酯預聚物包含主鏈并且沿著所述主鏈具有側接的(甲基)丙烯酸酯基團和沿著所述主鏈的側接羧酸基團;以及
具有符合通式I的結構的叔氨基官能化的不飽和單體:
其中,R1,R2和R3各自獨立地是H或直鏈或支鏈的、取代或未取代的C1-C10烷基、R4和R5各自獨立地是對碳碳雙鍵或胺官能團沒有反應性的有機基團,n的值為0或1,L是二價有機連接基團。
2.如權利要求1所述的分散體,其特征在于,所述聚氨酯預聚物包含以下組分的反應產物,所述組分包含:多異氰酸酯單體;多元醇單體;以及包含羥基末端或氨基末端的單體、低聚物或聚合物單元;
其中,所述多異氰酸酯單體、所述多元醇單體以及所述單體、低聚物或聚合物單元中的至少一種包含側接的羧酸基團;以及
所述多異氰酸酯單體、所述多元醇單體以及所述單體、低聚物或聚合物單元中的至少一種包含側接的(甲基)丙烯酸酯基團。
3.如權利要求2所述的分散體,其特征在于,所述多異氰酸酯單體是二異氰酸酯單體。
4.如權利要求2所述的分散體,其特征在于,所述單體、低聚物或聚合物單元是具有側接的(甲基)丙烯酸酯基的聚酯二醇。
5.如權利要求2所述的分散體,其特征在于,所述多元醇單體是具有側接的羧酸基團的二醇單體。
6.如權利要求2所述的分散體,其特征在于,所述聚氨酯預聚物包含進一步包含選自下組的二醇的組分的反應產物:聚酯二醇、聚醚二醇、聚碳酸酯二醇、短鏈烷基二醇以及任意它們的組合。
7.如權利要求1所述的分散體,其特征在于,所述叔氨基官能化的不飽和單體選自下組:三烯丙基胺、丙烯酸二烷基氨基烷基酯、甲基丙烯酸二烷基氨基烷基酯、丙烯酸二烷基氨基烷氧基酯和甲基丙烯酸二烷基氨基烷氧基酯。
8.如權利要求7所述的分散體,其特征在于,所述叔氨基官能化的不飽和單體選自下組:丙烯酸2-(二甲基氨基)乙基酯、甲基丙烯酸2-(二甲基氨基)乙基酯、丙烯酸2-(二乙基氨基)乙基酯和甲基丙烯酸2-(二乙基氨基)乙基酯。
9.如權利要求1所述的分散體,其特征在于,L是選自下組的二價連接基團:-CH2-,-C2H4-,-C3H6-,-C4H8-,-C5H10-,-C6H12-和-C6H4-。
10.如權利要求1所述的分散體,其特征在于,所述分散體還包含光引發劑、(甲基)丙烯酸酯單體、有機溶劑、增溶劑、抗氧化劑和聚合反應催化劑中的至少一種。
11.一種已輻射固化的聚合物,該聚合物包含以下組分的反應產物,所述組分包含:
多異氰酸酯單體;
具有側接的羧酸或羧酸根離子的多元醇單體;
具有側接的(甲基)丙烯酸酯基團的單體、低聚物或聚合物多元醇單元;以及
叔氨基官能化的不飽和單體,
其中,在輻射固化工藝過程中,叔胺與側接的羧酸根離子形成了離子對,所述叔氨基官能化的不飽和單體上的不飽和基團與側接的(甲基)丙烯酸酯基團發生了反應。
12.如權利要求11所述的聚合物,其特征在于,所述叔氨基官能化的不飽和單體具有符合通式I的結構:
其中,R1,R2和R3各自獨立地是H或直鏈或支鏈的、取代或未取代的C1-C10烷基、R4和R5各自獨立地是對碳碳雙鍵或胺官能團沒有反應性的有機基團,n的值為0或1,L是二價有機連接基團。
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