[發(fā)明專利]用于光學(xué)相干層析成像以及定位元件的系統(tǒng)和方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380056521.2 | 申請日: | 2013-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN104736045A | 公開(公告)日: | 2015-06-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | W.肖雷;R.內(nèi)博西斯 | 申請(專利權(quán))人: | 愛克發(fā)醫(yī)療保健公司 |
| 主分類號: | A61B5/00 | 分類號: | A61B5/00;G01N21/47;G01B9/02;G06K9/32 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱君;劉春元 |
| 地址: | 比利時*** | 國省代碼: | 比利時;BE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 光學(xué) 相干 層析 成像 以及 定位 元件 系統(tǒng) 方法 | ||
1.?一種用于光學(xué)相干層析成像的系統(tǒng),帶有
-干涉儀(10)和傳感器頭(57),通過所述傳感器頭(57)將電磁輻射從干涉儀(10)發(fā)送到待檢查的對象(1)處并且可將由所述對象(1)反射的電磁輻射引回到所述干涉儀(10)中,
-定位元件(3),其用于相對于所述待檢查的對象(1)定位所述傳感器頭(57),定位元件(3)帶有:支承,其布置在所述對象(1)處,并且所述傳感器頭(57)可放置在所述支承上;和第一區(qū)域(4),其對于由所述干涉儀(10)發(fā)送的和由所述對象(1)反射的輻射基本上是可穿透的;和第二區(qū)域(5),其對于由所述干涉儀(10)發(fā)送的和/或由所述對象(1)反射的輻射的穿透性不同于所述第一區(qū)域(4)的穿透性,
-圖像生成裝置(51),其用于借助由所述對象(1)和/或所述定位元件(3),尤其由所述定位元件(3)的第二區(qū)域(5)反射的電磁輻射生成一幅或多幅圖像(60,61),
-顯示裝置(52),其用于復(fù)現(xiàn)生成的圖像(60,61),以及
-控制裝置(51),其用于以這種方式控制圖像(60,61)的生成和復(fù)現(xiàn),即,所述傳感器頭(57)可借助生成的和復(fù)現(xiàn)的圖像(60,61)帶到在所述定位元件(3)上的期望的位置中。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中,用于由所述干涉儀(10)發(fā)送的和/或由所述對象(1)反射的輻射的所述第二區(qū)域(5)基本上是不可穿透的。
3.?根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng),其中,所述第二區(qū)域(5)具有這樣的結(jié)構(gòu),其光學(xué)特性不同于對象(1)的尤其典型的結(jié)構(gòu)的光學(xué)特性。
4.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng),其中,所述支承可彎曲地來設(shè)計并且尤其可匹配所述對象(1)的輪廓。
5.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng),其中,所述支承可與所述對象(1)接觸,尤其可松開地固定在所述對象(1)處。
6.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng),其中,所述支承的第一區(qū)域(4)構(gòu)造為在所述支承中的穿口。
7.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng),其中,所述支承的第一區(qū)域(4)的形狀和/或大小匹配于所述傳感器頭(57)的穿透區(qū)域(57d)的形狀或大小,由所述干涉儀(10)發(fā)送的和由所述對象(1)反射的輻射可穿過穿透區(qū)域(57d)。
8.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng),其中,在所述定位元件(3)處設(shè)置有一個或多個標(biāo)記(6,6',7),其支持所述傳感器頭(57)相對于所述定位元件(3),尤其相對于所述支承的第一區(qū)域和/或第二區(qū)域(4或5)的定位。
9.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng),其中,所述支承的第二區(qū)域(5)具有用于由所述干涉儀(10)發(fā)送的或由所述對象(1)反射的、小于10-4尤其小于10-6的輻射的穿透性。
10.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng),其中,所述支承的第二區(qū)域(5)具有反射層,所述反射層反射由所述干涉儀(10)發(fā)送的輻射。
11.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng),其中,所述支承的第二區(qū)域(5)尤其所述反射層具有用于由所述干涉儀發(fā)送的輻射的至少30%尤其至少50%的反射能力。
12.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng),其中,所述系統(tǒng)如此構(gòu)造,即,來自所述對象(1)的不同的深度的圖像(60,61)借助反射到所述對象(1)的不同的深度中的輻射生成和復(fù)現(xiàn),其中,在由所述對象(1)的不同的深度獲得的和復(fù)現(xiàn)的圖像(60,61)中可識別出在對象(1)與定位元件(3)之間尤其在所述定位元件(3)的第一區(qū)域和第二區(qū)域(4和5)之間的過渡。
13.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng),帶有探測器(30),探測器(30)用于探測由所述對象(1)和/或所述定位元件(3)反射的且引回到所述干涉儀(10)中的輻射,其中,用于操控所述探測器(30)的控制裝置如此構(gòu)造,即,其在探測由所述定位元件(3)反射的且引回到所述干涉儀(10)中的輻射時處于飽和運行中。
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