[發明專利]用于靜態質譜儀的離子源組件

有效

• 申請號: 201380056461.4
• 申請日: 2013-11-15
• 公開（公告）號: CN104769700A
• 公開（公告）日: 2015-07-08
• 發明（設計）人: M·庫魯門;M·迪亞博格;J·施韋特斯
• 申請（專利權）人: 塞莫費雪科學(不來梅)有限公司
• 主分類號: H01J49/10
• 分類號: H01J49/10;H01J49/16
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 姬利永

1.一種用于靜態質譜儀的離子源組件，包括：

安裝元件，用于將該組件定位在該靜態質譜儀內；

離子源，用于生成有待在該靜態質譜儀中分析的離子，該離子源與該安裝元件間隔開并且被安排成在使用時相對于該安裝元件保持在第一相對高的電位V₁；以及

安裝在該安裝元件與該離子源之間的墊片，該墊片被安排成在使用時相對于該安裝元件保持在第二電位V₂，該第二電位小于該第一電位V₁。

2.如權利要求1所述的組件，其中，該離子源支撐在該墊片上，該組件進一步包括一個或多個傳遞通過該墊片和該安裝元件但與其絕緣的電饋通。

3.如權利要求1或權利要求2所述的組件，其中，該墊片由導電材料形成。

4.如權利要求3所述的組件，其中，該墊片是金屬的。

5.如以上任何一項權利要求所述的組件，進一步包括相對于該安裝元件定位該墊片的墊片支撐結構。

6.如權利要求5所述的組件，其中，該安裝元件包括法蘭，并且該墊片支撐結構附裝至該法蘭。

7.如權利要求5所述的組件，其中，該安裝元件包括外殼，并且該墊片包括附裝至該外殼的法蘭。

8.如以上任何一項利要求所述的組件，進一步包括：

相對于該墊片定位該離子源的離子源支撐結構。

9.如權利要求8所述的組件，其中，該離子源支撐結構附裝至該墊片。

10.如以上任何一項利要求所述的組件，其中，所述相對于該安裝元件相對高的第一電位V₁在8kV與12kV之間。

11.如以上任何一項利要求所述的組件，其中，所述相對于該安裝元件相對高的第二電位V₂在4kV與6kV之間。

12.如以上任何一項利要求所述的組件，其中，該第二電位V₂大致為該第一電位V₁的一半。

13.如以上任何一項利要求所述的組件，進一步包括離子光學元件，該元件被安排成在使用時保持在適用于該離子源所生成的離子的加速的電位，并且其中，該第二電位V₂與該離子光學元件被安排成所保持在的電位相同。

14.如以上任何一項利要求所述的組件，其中，該安裝元件包括法蘭，并且該法蘭與墊片之間的距離小于該法蘭與該離子源之間的距離的一半。

15.如以上任何一項利要求所述的組件，其中，該安裝元件與該墊片之間的距離不大于該第二電位V₂的每千伏特1mm。

16.如以上任何一項利要求所述的組件，其中，該墊片與該離子源之間的距離不小于該第一電位V₁與該第二電位V₂之間的差異的每千伏特1mm。

17.一種靜態質譜儀，包括：可抽空的外殼；根據以上任何一項利要求所述的離子源組件，安裝在該外殼上，從而使得該離子源位于其中；以及用于檢測和分析該離子源所生成的離子的質量分析器。

18.如權利要求17所述的靜態質譜儀，其中，該質量分析器安裝在該外殼上，從而使得該質量分析器位于其中。