[發(fā)明專利]照相機模塊和鈦銅箔有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380055771.4 | 申請日： | 2013-06-20 |
| 公開（公告）號： | CN104755979B | 公開（公告）日： | 2017-06-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | 波多野隆紹;長野真之;小池健志 | 申請（專利權）人： | JX日礦日石金屬株式會社 |
| 主分類號： | G02B7/04 | 分類號： | G02B7/04 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 張濤,陳嵐 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 照相機 模塊 銅箔 | ||
1.一種照相機模塊，具備：
鏡頭；
彈簧構件，朝向光軸方向的初始位置對所述鏡頭進行彈性施力；
電磁驅動單元，產(chǎn)生抵抗所述彈簧構件的施加力的電磁力而能夠朝向光軸方向驅動所述鏡頭；以及
控制單元，控制對所述電磁驅動單元供給的驅動電流，
所述照相機模塊的特征在于，所述彈簧構件含有2.9質(zhì)量%~3.5質(zhì)量%的Ti，剩余部分由銅和不可避免的雜質(zhì)構成，具有350以上的維氏硬度，厚度為0.01mm以上、不足0.1mm。
2.一種照相機模塊，具備：
鏡頭；
彈簧構件，朝向光軸方向的初始位置對所述鏡頭進行彈性施力；
電磁驅動單元，產(chǎn)生抵抗所述彈簧構件的施加力的電磁力而能夠朝向光軸方向驅動所述鏡頭；以及
控制單元，控制對所述電磁驅動單元供給的驅動電流，
所述照相機模塊的特征在于，所述彈簧構件含有2.9質(zhì)量%~3.5質(zhì)量%的Ti，剩余部分由銅和不可避免的雜質(zhì)構成，從表面起的0.1μm的深度的位置處的Ti濃度為從表面起的1μm的深度處的Ti濃度的0.6倍以上，厚度為0.01mm以上、不足0.1mm。
3.一種照相機模塊，具備：
鏡頭；
彈簧構件，朝向光軸方向的初始位置對所述鏡頭進行彈性施力；
電磁驅動單元，產(chǎn)生抵抗所述彈簧構件的施加力的電磁力而能夠朝向光軸方向驅動所述鏡頭；以及
控制單元，控制對所述電磁驅動單元供給的驅動電流，
所述照相機模塊的特征在于，所述彈簧構件含有2.9質(zhì)量%~3.5質(zhì)量%的Ti，剩余部分由銅和不可避免的雜質(zhì)的構成，具有350以上的維氏硬度，從表面起的0.1μm的深度的位置處的Ti濃度為從表面起的1μm的深度處的Ti濃度的0.6倍以上，厚度為0.01mm以上、不足0.1mm。
4.一種照相機模塊，通過利用抵抗彈簧構件的施加力的電磁力使鏡頭移動，從而進行自動聚焦動作，所述照相機模塊的特征在于，
所述彈簧構件含有2.9質(zhì)量%~3.5質(zhì)量%的Ti，剩余部分由銅和不可避免的雜質(zhì)構成，具有350以上的維氏硬度，厚度為0.01mm以上、不足0.1mm。
5.一種照相機模塊，通過利用抵抗彈簧構件的施加力的電磁力使鏡頭移動，從而進行自動聚焦動作，所述照相機模塊的特征在于，
所述彈簧構件含有2.9質(zhì)量%~3.5質(zhì)量%的Ti，剩余部分由銅和不可避免的雜質(zhì)構成，從表面起的0.1μm的深度的位置處的Ti濃度為從表面起的1μm的深度處的Ti濃度的0.6倍以上，厚度為0.01mm以上、不足0.1mm。
6.一種照相機模塊，通過利用抵抗彈簧構件的施加力的電磁力使鏡頭移動，從而進行自動聚焦動作，所述照相機模塊的特征在于，
所述彈簧構件含有2.9質(zhì)量%~3.5質(zhì)量%的Ti，剩余部分由銅和不可避免的雜質(zhì)構成，具有350以上的維氏硬度，從表面起的0.1μm的深度的位置處的Ti濃度為從表面起的1μm的深度處的Ti濃度的0.6倍以上，厚度為0.01mm以上、不足0.1mm。
7.根據(jù)權利要求1到6中的任一項所述的照相機模塊，
所述彈簧構件進一步含有0.17質(zhì)量%~0.23質(zhì)量%的Fe。
8.一種鈦銅箔，其特征在于，
含有2.9質(zhì)量%~3.5質(zhì)量%的Ti，剩余部分由銅和不可避免的雜質(zhì)構成，具有350以上的維氏硬度，厚度為0.01mm以上、不足0.1mm。
9.一種鈦銅箔，其特征在于，
含有2.9質(zhì)量%~3.5質(zhì)量%的Ti，剩余部分由銅和不可避免的雜質(zhì)構成，從表面起的0.1μm的深度的位置處的Ti濃度為從表面起的1μm的深度的位置處的Ti濃度的0.6倍以上，厚度為0.01mm以上、不足0.1mm。
10.一種鈦銅箔，其特征在于，
含有2.9質(zhì)量%~3.5質(zhì)量%的Ti，剩余部分由銅和不可避免的雜質(zhì)構成，具有350以上的維氏硬度，從表面起的0.1μm的深度的位置處的Ti濃度為從表面起的1μm的深度的位置處的Ti濃度的0.6倍以上，厚度為0.01mm以上、不足0.1mm。
11.根據(jù)權利要求8到10中的任一項所述的鈦銅箔，
進一步含有0.17質(zhì)量%~0.23質(zhì)量%的Fe。
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