[發明專利]用于經光來美容處理的裝置及方法

在審

• 申請號: 201380055439.8
• 申請日: 2013-10-22
• 公開（公告）號: CN104736199A
• 公開（公告）日: 2015-06-24
• 發明（設計）人: T.H.L.普拉納爾-梁;A.博菲斯
• 申請（專利權）人: 萊雅公司
• 主分類號: A61N5/06
• 分類號: A61N5/06
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 姚李英;胡斌

技術領域

本發明涉及一種用于皮膚的美容處理(即，非治療性)的裝置，尤其是通過使皮膚區域暴露于光。本發明還涉及一種包括此類裝置的設備和包括使用此類設備的美容方法。

背景技術

存在通過光療來對皮膚進行皮膚處理的設備。例如，文獻US-A-7887533描述了用于尤其由醫生專業使用的此類設備。該設備包括用于組裝成排布置且與圓柱透鏡聯接的發光二極管(LED)的系統。透鏡使得有可能以較大或較小靈活性定制LED的各個光束的輻射角。文獻WO-A-2012/086991描述了一種隨附地使用若干波長來處理各種病狀的設備。

還存在用于通過使皮膚通過暴露于私人使用的光來進行美容處理的設備。使用者將設備握在其手中，且使其定向成以便使給定皮膚區域暴露于由布置在設備中的LED發射的發光輻射。例如，有可能引用文獻FR-A-2917299、US-A-2010/274329或WO-A-2008/057640中所述的裝置。已知的設備通常包括設置在殼體中的一個或多個LED。LED的數目通常很重要，以便確保處理的均一性，且LED的發射波長根據構想的應用來選擇。例如，文獻EP-A-1648385提出了使用具有用于各個源的受控功率的發射黃光(其中主波長為大約590nm)的至少一個第一源和發射紅外光(其中主波長為大約850nm)的至少一個第二源。

由光對皮膚進行美容處理的裝置必須構想出用于控制待處理的表面上的光的輻射強度(表示為mW/cm²)的手段。光的強度必須在有效處理的最小值與最大值之間，以便避免由過度的曝光引起的任何破壞。這種約束仍在私人使用(稱為家用裝置)的設備中較嚴格，用于其的安全標準較高。

為了確保光的最佳強度以便一方面引起皮膚上的期望效果，而另一方面避免由過大的強度引起的任何破壞，故試圖控制光源與處理表面之間的距離。

圖1示意性地示出了在暴露于光的皮膚30的區域上獲得的輻射分布，其中各種類型的發光二極管15,16經由屏幕2發射光束17,18。?例如，所謂的常規LED15以相對較小的大約15°到20°的角孔口發射光束17。然而必須存在多個此類LED15，以便均一地覆蓋待處理的皮膚區域30的全部。另一方面，所謂的功率LED16(大功率LED或HPLED)以相對較大的大約120°到140°的角孔口(即，按沖角為60°到70°)發射光束18。通過與常規LED比較，功率LED在效力、壽命和緊湊性方面有效。

圖1示出了暴露于光的皮膚表面30隨裝置與待處理的區域之間的距離Δd增大，但其強度(以mW/cm²測量)均一的部分減小。實際上，由LED發射的光束17,18在整個照明區域30上呈現出點狀輻射功率，其與照明表面成比例地減小。在常規LED的情況下，當沖角較小時，對于距離的相同變化，其光強度均一的表面減小很少，且其值更穩定；但在HPLED的情況下，由于其較大的角孔口，其光強度均一的表面較大地減小，且其值較小。這是為何有效處理中處理距離必須更嚴格的原因。

許多商業產品提供了避免過高強度的手段，但顯示出了有效處理的最小閾值的較少考慮。大體上，使用說明指示人們應當站開一定距離，但慣例上不存在任何控制程序。

某些商業產品提供了機械抵接物，如，LIPZOR?或來自BIOLUX?的Luxe。該解決方案實施簡單，但其迫使抵接物直接接觸在皮膚上，且因此引起衛生問題。然而，如果裝置必須在待處理的表面上移動，則此使用由于皮膚上的摩擦而是不實際的。

光源與待處理的表面之間的安全距離可整體結合到裝置自身中，從而增大裝置的厚度。例如，文獻KR-A-10-1103327描述了一種緊湊裝置，其在使用時展開，以便確保光源與待處理的表面之間的足夠距離。此裝置是復雜且昂貴的。

上文所述的文獻US-A-7887533包括一種允許處理之前調整的距離傳感器。在處理期間，裝置必須是靜止的，否則將失去調整。此解決方案盡管其適用于專業醫療使用的設備，但不適用于私人美容使用。

發明內容

因此，存在由光進行美容處理的裝置的需要，其使得有可能確保待處理的區域上的光的最佳強度，且其為緊湊和廉價的。

出于此目的，本發明提出了在裝置中提供距離傳感器且使各個光源的發射功率從屬于由傳感器測量的距離。從屬旨在表示各個光源的發射功率的增大或減小隨傳感器測量的距離變化。由光源發射的功率的該連續且實時的從屬使得有可能確保待處理的皮膚區域上的發光強度在整個曝光中的均一性。發射功率的強度的該逐漸從屬是阻止和觸動由光源發射的功率的功能的補充。