[發明專利]特別用于激光風速計的模擬放大器件在審
| 申請號: | 201380055269.3 | 申請日: | 2013-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN104937840A | 公開(公告)日: | 2015-09-23 |
| 發明(設計)人: | 弗朗西斯·博尼;拉斐爾·泰塞雷 | 申請(專利權)人: | 愛普西萊恩公司;圖盧茲國立綜合理工學院 |
| 主分類號: | H03F3/08 | 分類號: | H03F3/08;H03F3/45;H03F3/50 |
| 代理公司: | 上海天協和誠知識產權代理事務所 31216 | 代理人: | 童錫君 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 特別 用于 激光 風速計 模擬 放大 器件 | ||
1.一種模擬放大器件,其包括級聯的四級(28,30,32,34),接收調制電流的輸入端,以及電壓輸出端,所述器件還包括接地極和供給電壓,其特征在于,
-第一級(28),其包括具有共基極或陣列配置的晶體管(36),該晶體管通過其發射極或源極處的電容(C1)接收調制輸入電流,所述第一級的輸出信號對應于集電極或漏極的信號,
-第二級(30),其由下一個放大器構成,所述下一個放大器包括具有共集電極或漏極配置的晶體管,該晶體管的基極或陣列接收所述第一級(28)的輸出信號,集電極或漏極連接供給電壓,發射極或源極通過電阻(R5)接地并且提供所述第二級(30)的輸出信號,
-第三級(32),其包括具有共發射極或共源極配置的晶體管(40),該配置與發射極或源極的電阻解耦合,其中基極或陣列通過電容(C3)接收所述第二級(30)的輸出信號并且輸出信號對應于集電極或漏極的信號,
-第四級(34),其是放大級,允許一方面實現放大,另一方面實現阻抗匹配。
2.根據權利要求1所述的模擬放大器件,其特征在于,在所述第一級(28)中,發射極(或源極)還通過電阻(R1)接地,基極通過電容(C2)接地,保持基極電勢接近于接地極電勢,以及集電極通過電阻(R2)連接供給電壓。
3.根據權利要求1或2所述的模擬放大器件,其特征在于,在所述第三級(32)中,基極或陣列極化為接近接地極電壓的電壓,發射極或源極通過RC電路接地,集電極或漏極通過電阻(R9)連接供給電壓。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的模擬放大器件,其特征在于,所述第四級(34)包括從下列單元中選擇的放大電路,所述單元包括:
-運算放大器電路,以及
-電路,其包括具有晶體管和下一級的放大級,所述下一級具有晶體管或者也具有運算放大器。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的模擬放大器件,其特征在于,所述第四級(34)包括運算放大器(42),在運算放大器的非反相的輸入端通過電容(C3)接收所述第三級(32)的輸出信號,其中所述放大器的輸出端對應于放大器件的輸出端。
6.根據權利要求5所述的模擬放大器件,其特征在于,所述運算放大器(42)的反相輸入端通過電阻(R12)以及串聯電容(C5)接地,輸出端通過電阻(R13)連接反相輸入端,所述運算放大器(42)的非反相輸入端極化為大致對應于供給電壓一半的電壓值。
7.根據權利要求5或6所述的模擬放大器件,其特征在于,所述運算放大器(42)的所述第四級(34)是具有逆反應電流的放大器。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的模擬放大器件,其特征在于,在所述第一級(28)中使用的晶體管(36)是NPN型晶體管。
9.根據權利要求1至8中任一項所述的模擬放大器件,其特征在于,所述第二級(30)中的晶體管(38)具有和所述第一級(28)中的晶體管(36)相同的特性。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的模擬放大器件,其特征在于,所述第三級(34)中的晶體管(40)具有和所述第一級(28)中的晶體管(36)相同的特性。
11.由模擬放大器件構成的單元以及所述模擬放大器件的供給系統,其特征在于,該模擬放大器件是根據權利要求1至10中任一項所述的模擬放大器件,所述供給系統一方面包括輸入濾波器(46),另一方面包括濾波模塊,該模塊在輸入濾波器和放大器件的各級之間允許絕緣和低頻率解耦以及絕緣和高頻率解耦。
12.根據權利要求11所述的單元,其特征在于,每個濾波模塊包括供給路徑,在供給路徑上一方面可設置線性調節器(U1),另一方面可設置鐵氧體(FB1)。
13.一種具有光學返回注入的激光風速計,其包括用于發射激光束的激光二極管(2),透鏡(4),該透鏡用于一方面聚焦激光二極管(2)發射的激光束,另一方面,聚焦位于稱為測量容積(6)的容積中的被微粒反射的光束,被反射的光束對應于激光二極管(2)發射的光束,光電二極管(8),用于接收穿過激光二極管(2)的反射光束,由所述光電二極管(8)提供的信號的放大裝置(12),以及處理放大信號的裝置,其特征在于,所述放大裝置包括根據權利要求1至10中任一項所述的模擬放大器件。
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