[發明專利]具有刻線的容器

有效

• 申請號: 201380054913.5
• 申請日: 2013-10-16
• 公開（公告）號: CN104736442A
• 公開（公告）日: 2015-06-24
• 發明（設計）人: P·H·內克
• 申請（專利權）人: 印刷包裝國際公司
• 主分類號: B65D1/26
• 分類號: B65D1/26;B65D1/40
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 秦振

1.一種用于容納物品的容器，所述容器包括：

層壓層，所述層壓層至少部分地固定至基層；

底壁和側壁，所述底壁和側壁相配合以至少部分地限定容器的腔體，并且層壓層至少部分地構成容器的臨近所述腔體的內表面；和

多條刻線，所述刻線在容器內延伸，以至少部分地降低層壓層在容器的腔體內的翹曲。

2.根據權利要求1所述的容器，其中，所述多條刻線中的刻線至少部分地限定在容器的內表面中的相應溝槽。

3.根據權利要求2所述的容器，其中，所述多條刻線中的刻線至少部分地限定在容器的外表面中的相應凸起。

4.根據權利要求2所述的容器，進一步包括底部拐角，所述底部拐角連接底壁和側壁，其中，所述多條刻線至少在底部拐角內延伸。

5.根據權利要求4所述的容器，其中，所述底部拐角是彎曲的并且相對于容器的外表面是凸出的，使得層壓層大體具有比基層小的曲率半徑。

6.根據權利要求4所述的容器，其中，所述側壁包括側部區域和端部區域，并且所述多條刻線包括在臨近側壁的側部區域處的底部拐角內延伸的多條第一刻線和在緊鄰側壁的端部區域處的底部拐角內延伸的多條第二刻線。

7.根據權利要求6所述的容器，其中，所述側壁的側部區域是彎曲的并且相對于容器的外表面是凹進的，并且所述多條第一刻線中的刻線是彎曲的。

8.根據權利要求1所述的容器，進一步包括底部拐角，所述底部拐角連接底壁和側壁，其中，所述側壁包括第一側部區域和第二側部區域，并且所述多條刻線包括在臨近側壁的第一側部區域處的底部拐角內延伸的多條第一刻線和在臨近側壁的第二側部區域處的底部拐角內延伸的多條第二刻線。

9.根據權利要求8所述的容器，其中，所述側壁的第二側部區域是彎曲的并且相對于容器的外表面是凹進的，并且所述多條第二刻線中的刻線是彎曲的。

10.根據權利要求9所述的容器，其中，所述多條第二刻線中的每條刻線的端點比所述多條第二刻線中的相應刻線的中點距離側壁的第一側部區域更遠。

11.根據權利要求9所述的容器，其中，所述側壁的第一側部區域大體是筆直的，并且所述多條第一刻線中的刻線大體是筆直的。

12.根據權利要求8所述的容器，其中，所述側壁包括在第一側部區域和第二側部區域之間延伸的端部區域，并且多條第三刻線在臨近側壁的至少部分端部區域處的底部拐角內延伸。

13.根據權利要求12所述的容器，其中，側壁的至少部分端部區域是彎曲的。

14.根據權利要求1所述的容器，其中，所述側壁包括端部區域，至少部分端部區域是彎曲的，并且多個皺褶至少形成在側壁的端部區域內。

15.根據權利要求1所述的容器，進一步包括底部拐角，所述底部拐角連接底壁和側壁，其中，所述側壁從底部拐角大體向上延伸，且一凸緣從側壁大體向外延伸。

16.根據權利要求1所述的容器，進一步包括底部拐角，所述底部拐角連接底壁和側壁，其中，所述底部拐角是彎曲的，使得層壓層至少在底部拐角內大體具有比基層小的曲率半徑。

17.根據權利要求1所述的容器，進一步包括底部拐角，所述底部拐角連接底壁和側壁，其中，至少部分底壁凸起在至少部分底部拐角的上方。

18.一種用于形成容納物品的容器的坯件，所述坯件包括：

層壓層，所述層壓層至少部分地固定至基層；

底部部分和邊際部分，所述底部部分和邊際部分用于配合以至少部分地限定由坯件形成的容器的腔體，其中，所述層壓層用于至少部分地形成由坯件形成的容器的內表面；和

多條刻線，所述多條刻線在坯件內延伸，以至少部分地降低層壓層在由坯件形成的容器的腔體內的翹曲。

19.根據權利要求18所述的坯件，其中，所述多條刻線中的刻線至少部分地限定在坯件的內表面中的相應溝槽。

20.根據權利要求19所述的坯件，其中，所述多條刻線中的刻線至少部分地限定在坯件的外表面中的相應凸起。