[發(fā)明專利]由穿過襯底的通孔提供的電感器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380054016.4 | 申請日: | 2013-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN104737246A | 公開(公告)日: | 2015-06-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 拉溫德拉·V·社諾伊;日塔伊·基姆;賴關(guān)余;喬恩·布拉德利·拉斯特;菲利普·賈森·斯蒂法諾;唐納德·威廉·基德韋爾;葉夫根尼·彼得羅維奇·古塞夫 | 申請(專利權(quán))人: | 高通MEMS科技公司 |
| 主分類號: | H01F17/00 | 分類號: | H01F17/00;H01F41/04 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 宋獻濤 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 穿過 襯底 提供 電感器 | ||
1.一種裝置,其包括:
玻璃襯底,其具有第一表面及第二表面,在所述玻璃襯底中界定腔;
所述腔中的至少兩個金屬條,每一金屬條的第一端接近所述玻璃襯底的所述第一表面,且每一金屬條的第二端接近所述玻璃襯底的所述第二表面;及
金屬跡線,其連接第一金屬條及第二金屬條。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其進一步包括:
安置在所述玻璃襯底的所述第一表面上的第一介電層及安置在所述玻璃襯底的所述第二表面上的第二介電層,其中進一步在所述第一介電層及所述第二介電層中界定所述腔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其中所述金屬跡線與所述第一介電層接觸。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置,其中所述玻璃襯底包含光可成像玻璃襯底。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置,其中所述至少兩個金屬條包含實心金屬條及中空金屬條中的至少一者。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置,其進一步包括:
安置在所述腔中的磁芯,所述第一金屬條、所述第二金屬條及所述金屬跡線界定相對于所述磁芯的邊界。
7.一種設(shè)備,其包括:
根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置;
顯示器;
處理器,其經(jīng)配置以與所述顯示器通信,所述處理器經(jīng)配置以處理圖像數(shù)據(jù);及
存儲器裝置,其經(jīng)配置以與所述處理器通信。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備,其進一步包括:
驅(qū)動器電路,其經(jīng)配置以將至少一個信號發(fā)送到所述顯示器;及
控制器,其經(jīng)配置以將所述圖像數(shù)據(jù)的至少一部分發(fā)送到所述驅(qū)動器電路。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的設(shè)備,其進一步包括:
圖像源模塊,其經(jīng)配置以將所述圖像數(shù)據(jù)發(fā)送到所述處理器,其中所述圖像源模塊包含接收器、收發(fā)器及發(fā)射器中的至少一者。
10.根據(jù)權(quán)利要求7到9中任一權(quán)利要求所述的設(shè)備,其進一步包括:
輸入裝置,其經(jīng)配置以接收輸入數(shù)據(jù)且將所述輸入數(shù)據(jù)傳送到所述處理器。
11.根據(jù)權(quán)利要求1到6中任一權(quán)利要求所述的裝置,其中所述金屬條及所述金屬跡線界定具有對應(yīng)于電感器的可變電感的柔性程度的所述電感器。
12.根據(jù)權(quán)利要求1到6中任一權(quán)利要求所述的裝置,其中:
所述玻璃襯底是柔性的;且
所述金屬條及所述金屬跡線界定具有對應(yīng)于所述柔性襯底的應(yīng)變或移位程度的可變電感的電感器。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置,其中所述電感器被配置為響應(yīng)于輸入而在輸出端子處提供輸出信號的傳感器,所述輸出信號指示所述柔性襯底的所述應(yīng)變或移位程度。
14.一種諧振器電路,其包括:
根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置;及
在電路中與根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置耦合的電容器。
15.根據(jù)權(quán)利要求1到6中任一權(quán)利要求所述的裝置,其中所述金屬條及所述金屬跡線界定布置在環(huán)面中的多個金屬匝中的一者的至少一部分以界定位于大體上平行于所述玻璃襯底的平面中的環(huán)面電感器。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置,其中所述金屬跡線具有沿著所述平面的錐形形狀,所述錐形形狀是由接近所述環(huán)面的外側(cè)的較寬部分及接近所述環(huán)面的內(nèi)側(cè)的較窄部分界定。
17.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的裝置,其中所述環(huán)面具有以下各者中的一者:圓形形狀、橢圓形狀及跑道形狀。
18.根據(jù)權(quán)利要求15到17中任一權(quán)利要求所述的裝置,其進一步包括:
安置在所述玻璃襯底的一個或兩個表面上的一或多個熱接地平面,其中進一步在所述一或多個熱接地平面中界定所述腔。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的裝置,其中所述一或多個熱接地平面包含以下各者中的一或多者:氮化鋁AlN、類金剛石碳DLC及石墨烯。
20.根據(jù)權(quán)利要求15到19中任一權(quán)利要求所述的裝置,其中所述多個金屬匝包含:界定具有輸入端子及輸出端子的第一線圈的第一組匝。
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