[發(fā)明專利]層積體、阻氣膜及其制造方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201380053425.2
• 申請日: 2013-10-18
• 公開（公告）號: CN104736334A
• 公開（公告）日: 2015-06-24
• 發(fā)明（設計）人: 佐藤盡;加納滿
• 申請（專利權(quán)）人: 凸版印刷株式會社
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;C23C16/02
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 丁業(yè)平;張?zhí)K娜

1.一種層積體，其包括：

基材，

底涂層，其在所述基材的外面的至少一部分上形成，含有具有官能團的有機高分子，且形成為膜或薄膜形狀，以及

原子層沉積膜，其含有成為原料的前體，并且以覆蓋所述底涂層的表面的方式形成，所述前體的至少一部分鍵合于所述官能團，

其中，包括所述基材和所述底涂層的層狀薄膜的線膨脹系數(shù)為1.0×10^-5/K以上8.0×10^-5/K以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層積體，

其中，所述底涂層的主成分為所述有機高分子。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的層積體，

其中，所述有機高分子具有粘結(jié)劑和無機物質(zhì)，并且以成為所述原子層沉積膜的所述原料的所述前體的至少一部分與所述粘結(jié)劑和所述無機物質(zhì)鍵合的方式形成。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的層積體，

其中，所述有機高分子的所述官能團包括具有O原子的官能團、或具有N原子的官能團。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的層積體，

其中，所述具有O原子的官能團為選自由OH基、COOH基、COOR基、COR基、NCO基、及SO₃基構(gòu)成的組中的1種以上的官能團，

所述具有N原子的官能團為NH_x基，其中X為整數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的層積體，

其中，所述有機高分子的所述官能團包含具有非共享電子對、或未成對電子的原子。

7.根據(jù)權(quán)利要求3至6中任一項所述的層積體，

其中，所述粘結(jié)劑為選自由有機粘結(jié)劑、無機粘結(jié)劑及有機/無機混合的混雜粘結(jié)劑構(gòu)成的組中的1種以上的化合物。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的層積體，

其中，所述底涂層包括與所述基材接觸的第1面，以及與所述第1面相反地設置的第2面，

所述第1面以及所述第2面的至少一部分通過等離子體處理、電暈處理或水解處理進行表面處理。

9.一種阻氣膜，

其中，權(quán)利要求1至8中任一項所述的層積體形成為薄膜狀。

10.一種層積體的制造方法，其為這樣的層積體的制造方法：

放置基材；

在所述基材的外面的至少一部分上形成線膨脹系數(shù)為1.0×10^-5/K以上8.0×10^-5/K以下、且含有有機高分子的膜或薄膜形狀的底涂層；

對所述底涂層的厚度方向中與所述基材接觸的第1面、和與所述第1面相反地設置的第2面的一部分進行表面處理；并且

以作為原子層沉積膜的原料的前體與所述底涂層中所含的所述有機高分子的官能團鍵合的方式，在所述第2面上對所述原子層沉積膜進行成膜。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的層積體的制造方法，

其中，在所述有機高分子中添加無機化合物。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的層積體的制造方法，

其中，所述表面處理為等離子體處理、電暈處理或水解處理。

13.一種阻氣膜的制造方法，

其中，將根據(jù)權(quán)利要求10至12中任一項所述的層積體的制造方法所制造的層積體形成為薄膜狀。