[發(fā)明專利]定位設(shè)備、控制設(shè)備和控制方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380052699.X | 申請(qǐng)日: | 2013-09-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104704625B | 公開(公告)日: | 2018-03-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A.J.W.范里伊文努根;F.B.斯佩林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/68 | 分類號(hào): | H01L21/68;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 李靜嵐,景軍平 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 定位 設(shè)備 控制 方法 | ||
1.一種定位設(shè)備(2),包括:
- 包括一個(gè)或多個(gè)支撐元件(11、12、13)的支撐裝置(10),
- 長(zhǎng)行程臺(tái)(20),
- 相對(duì)于所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)在移動(dòng)方向(M)上可移動(dòng)的短行程臺(tái)(50),所述短行程臺(tái)(50)包括由短行程支撐元件(12、13)支撐的短行程臺(tái)載體元件(51),其中所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)和所述短行程臺(tái)(50)中的一個(gè)承載以固定距離彼此相對(duì)布置的兩個(gè)致動(dòng)器(30、40),在兩個(gè)致動(dòng)器之間具有間隙,每個(gè)致動(dòng)器(30、40)包括鐵磁軛(31、41)和布置在所述軛(31、41)的磁通路徑中的磁體(32、33、42、43),以及
- 控制單元(60),被配置為用于通過(guò)首先移動(dòng)所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)發(fā)起所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)和所述短行程臺(tái)(50)在期望移動(dòng)方向(M1)上的移動(dòng),
所述定位設(shè)備的特征在于:
所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)由長(zhǎng)行程支撐元件(11)支撐并且相對(duì)于長(zhǎng)行程支撐元件(11)在移動(dòng)方向(M)上可移動(dòng),所述長(zhǎng)行程臺(tái)包括由長(zhǎng)行程支撐元件(11)支撐的長(zhǎng)行程臺(tái)載體元件(21);
所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)和所述短行程臺(tái)(50)中的另一個(gè)包括布置在所述致動(dòng)器(30、40)之間的鐵磁中心元件(52);
由包括在所述定位設(shè)備中的所述控制單元(60)發(fā)起的所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)的首先移動(dòng)是在與所述期望移動(dòng)方向(M1)相反的相反方向(M2)上并且/或者在所述期望移動(dòng)方向(M1)上移動(dòng)所述短行程臺(tái)(50),所述移動(dòng)持續(xù)預(yù)定時(shí)間間隔以及比所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)的靜止?fàn)顟B(tài)中的所述鐵磁中心元件(52)與最靠近的致動(dòng)器(30、40)之間的距離(d)更短的距離,并且然后在所述期望移動(dòng)方向(M1)上移動(dòng)所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)。
2.如權(quán)利要求1所述的定位設(shè)備,其中所述軛(31、41)各自具有E形狀、U形狀或C形狀。
3.如權(quán)利要求1所述的定位設(shè)備,其中所述軛(31、41)各自具有E形狀,并且其中所述磁體是布置在相應(yīng)軛(31、41)的中心腿(34、44)的頂部上的永磁體(32、42)。
4.如權(quán)利要求1所述的定位設(shè)備,其中所述軛(31、41)各自具有E形狀,并且其中所述磁體是由圍繞相應(yīng)軛(31、41)的中心腿(34、44)纏繞的線圈形成的電磁體(33、43)。
5.如權(quán)利要求1所述的定位設(shè)備,其中所述軛(31、41)各自具有E形狀,并且其中所述磁體包括布置在相應(yīng)軛(31、41)的中心腿(34、44)的頂部上的永磁體(32、42)和由圍繞相應(yīng)軛(31、41)的中心腿(34、44)纏繞的線圈形成的電磁體(33、43)。
6.如權(quán)利要求4或5所述的定位設(shè)備,還包括電流源(70)以用于將電流提供到所述線圈(33、43)以穩(wěn)定和/或控制所述鐵磁中心元件(52)的位置。
7.如權(quán)利要求1所述的定位設(shè)備,其中所述控制單元(60)被配置為通過(guò)首先以使得所述鐵磁中心元件(52)不與致動(dòng)器(30、40)接觸的預(yù)定時(shí)間和距離、在所述相反方向(M2)上移動(dòng)所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)和/或通過(guò)在所述期望移動(dòng)方向(M1)上移動(dòng)所述短行程臺(tái)(50)來(lái)控制移動(dòng),隨后將所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)在所述期望移動(dòng)方向(M1)上移動(dòng)。
8.如權(quán)利要求1所述的定位設(shè)備,其中所述控制單元(60)包括用于實(shí)現(xiàn)所述長(zhǎng)行程臺(tái)(20)和/或所述短行程臺(tái)(50)的移動(dòng)的移動(dòng)致動(dòng)器(61)和用于控制所述移動(dòng)致動(dòng)器(61)的控制器(62)。
9.如權(quán)利要求1所述的定位設(shè)備,其中所述兩個(gè)致動(dòng)器(30、40)安裝在所述長(zhǎng)行程臺(tái)載體元件(21)上,并且其中所述鐵磁中心元件(52)安裝在所述短行程臺(tái)載體元件(51)上。
10.如權(quán)利要求1所述的定位設(shè)備,其中所述兩個(gè)致動(dòng)器(30、40)安裝在所述短行程臺(tái)載體元件(51)上,并且其中所述鐵磁中心元件(52)安裝在所述長(zhǎng)行程臺(tái)載體元件(21)上。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
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