[發(fā)明專利]用于控制打印間隙的設(shè)備和方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380052559.2 | 申請(qǐng)日: | 2013-10-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104704605A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | R.B.羅蘭斯;M.米勒;S.索姆赫;C.F.馬迪根;E.弗倫斯基;M.比朗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 科迪華公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/00 | 分類號(hào): | H01L21/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 嚴(yán)志軍;傅永霄 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 控制 打印 間隙 設(shè)備 方法 | ||
1.?一種氣體承載系統(tǒng),包括:
外殼,其包括側(cè)壁,所述側(cè)壁具有外表面和內(nèi)表面,并限定了內(nèi)部空腔,其配置成接收打印模塊組件,所述內(nèi)表面終止于通向所述內(nèi)部空腔的開(kāi)口上,所述側(cè)壁還具有位于所述外表面和所述內(nèi)表面之間的端面,所述端面包括第一多個(gè)孔和第二多個(gè)孔,所述側(cè)壁還包括從所述第一多個(gè)孔延伸到所述側(cè)壁中并與第一歧管連通的第一多個(gè)流體通道,以及從所述第二多個(gè)孔延伸到所述側(cè)壁中并與第二歧管連通的第二多個(gè)流體通道,其中所述第一歧管通過(guò)第一端口與所述外殼的外部的環(huán)境處于流體連通,所述第二歧管通過(guò)第二端口與所述外殼的外部的環(huán)境處于流體連通,并且所述第一多個(gè)孔和所述第二多個(gè)孔包圍通向所述內(nèi)部空腔的所述開(kāi)口。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述端面還包括第三多個(gè)流體通道,其延伸到所述側(cè)壁中并與第三歧管連通,所述第三歧管不同于所述第一歧管和所述第二歧管。
3.?根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述第三歧管通過(guò)第三端口與所述外殼的外部的環(huán)境處于流體連通。
4.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述第一多個(gè)孔和所述第二多個(gè)孔的各個(gè)孔彼此間隔開(kāi)大約1.0mm至大約10mm的平均距離。
5.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述第一多個(gè)孔和所述第二多個(gè)孔的孔具有大約0.001英寸至大約0.1英寸的平均直徑。
6.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述第一多個(gè)孔具有大約0.005英寸至大約0.025英寸的平均直徑,并且所述第二多個(gè)孔具有大約0.030英寸至大約0.090英寸的平均直徑。
7.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述第一多個(gè)流體通道與加壓氣體源處于流體連通,并且所述第二多個(gè)流體通道與真空源處于流體連通。
8.?根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述加壓氣體源包括加壓的惰性氣體源。
9.?根據(jù)權(quán)利要求8所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述加壓的惰性氣體源包括氮?dú)庠础⑾∮袣怏w源或其組合。
10.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述外殼包括基板、安裝在所述基板上的歧管室和安裝在所述歧管上的面板,所述面板包括端面。
11.?根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述基板包括所述第一端口和所述第二端口,并且所述歧管室包括所述第一歧管和所述第二歧管。
12.?根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述外殼包括基板、安裝在所述基板上的歧管室和安裝在所述歧管上的面板,所述面板包括端面。
13.?根據(jù)權(quán)利要求12所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述基板包括所述第一端口、所述第二端口和所述第三端口,并且所述歧管室包括所述第一歧管、所述第二歧管和所述第三歧管。
14.?根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,還包括連接器凸緣,其連接在所述基板上,并配置成連接到支架和促動(dòng)器的其中至少一個(gè)上。
15.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,還包括通向所述內(nèi)部空腔的第二開(kāi)口,所述第二開(kāi)口定位在與所述第一開(kāi)口相反的位置,使得所述內(nèi)部空腔包括穿過(guò)所述外殼的通孔。
16.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,還包括至少一個(gè)安裝在所述內(nèi)部空腔中的打印模塊組件。
17.?根據(jù)權(quán)利要求16所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述至少一個(gè)打印模塊組件包括至少一個(gè)熱打印頭和至少一個(gè)加熱器,所述至少一個(gè)熱打印頭具有至少一個(gè)轉(zhuǎn)移表面,并且所述至少一個(gè)加熱器與所述至少一個(gè)轉(zhuǎn)移表面處于熱連通。
18.?根據(jù)權(quán)利要求16所述的氣體承載系統(tǒng),其特征在于,所述至少一個(gè)打印模塊組件包括至少一個(gè)噴墨打印頭。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





