[發(fā)明專利]用于保護(hù)玻璃表面的物理氣相沉積的層在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380052140.7 | 申請日： | 2013-10-01 |
| 公開（公告）號： | CN104736339A | 公開（公告）日： | 2015-06-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | C·A·保爾森 | 申請（專利權(quán)）人： | 康寧股份有限公司 |
| 主分類號： | B32B17/10 | 分類號： | B32B17/10 |
| 代理公司： | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人： | 郭輝;項(xiàng)丹 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 保護(hù) 玻璃 表面 物理 沉積 | ||
1.一種形成耐劃傷性玻璃制品的方法，該方法包括：
提供具有相對的主表面的玻璃基材；以及
在大部分的第一主要表面上形成耐劃傷性的無機(jī)的光學(xué)透明層，其中所述形成方法包括將所述玻璃基材加熱至100℃到低于300℃的溫度，所述玻璃基材包括化學(xué)強(qiáng)化的玻璃；和所述無機(jī)的光學(xué)透明層以與所述玻璃基材直接物理接觸的方式形成；
其中，所述無機(jī)層的硬度比所述玻璃基材的硬度大至少10％。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述形成方法包括反應(yīng)性濺射或者非反應(yīng)性濺射、電子束蒸發(fā)、化學(xué)氣相沉積或等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，使用1-600分鐘的沉積時間、和0.1毫托至100托的加工壓力中的一種或多種來形成所述無機(jī)層。
4.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述無機(jī)層的厚度范圍為10納米至2微米。
5.一種耐劃傷性玻璃制品，其包含：
具有相對的主表面的玻璃基材；以及
在大部分的第一主表面上形成的低溫沉積的耐劃傷性的無機(jī)光學(xué)透明層，其中，所述形成方法包括將所述玻璃基材加熱至100℃到低于300℃的溫度，所述玻璃基材包括化學(xué)強(qiáng)化的玻璃；
其中，當(dāng)采用布氏壓痕計(jì)和高至160mN的負(fù)荷進(jìn)行劃刻時，相比于沒有在大部分的第一主表面上提供低溫沉積的無機(jī)光學(xué)透明層的玻璃基材，所述耐劃傷性玻璃制品的劃痕深度減少了至少20％；和
所述無機(jī)光學(xué)透明層以與所述玻璃基材直接物理接觸的方式形成，其中，所述無機(jī)層的硬度比所述玻璃基材的硬度大至少10％。
6.如權(quán)利要求5所述的耐劃傷性玻璃制品，其特征在于，當(dāng)采用布氏壓痕計(jì)和高至160mN的負(fù)荷進(jìn)行劃刻時，相比于沒有在大部分的第一主表面上提供低溫沉積的無機(jī)光學(xué)透明層的玻璃基材，所述耐劃傷性玻璃制品的劃痕寬度還減少了至少20％。
7.如權(quán)利要求5或6所述的制品，其特征在于，所述無機(jī)層包括金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬硼化物或其組合，以及其中，所述金屬選自下組：B、Al、Si、Ti、V、Cr、Y、Zr、Nb、Mo、Sn、Hf、Ta和W。
8.如權(quán)利要求5或6所述的制品，其特征在于，所述無機(jī)層的布氏壓痕硬度至少為9GPa。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于康寧股份有限公司，未經(jīng)康寧股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380052140.7/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
