[發明專利]用于保護玻璃表面的物理氣相沉積的層

在審

• 申請號: 201380052140.7
• 申請日: 2013-10-01
• 公開（公告）號: CN104736339A
• 公開（公告）日: 2015-06-24
• 發明（設計）人: C·A·保爾森
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: B32B17/10
• 分類號: B32B17/10
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 郭輝;項丹

1.一種形成耐劃傷性玻璃制品的方法，該方法包括：

提供具有相對的主表面的玻璃基材；以及

在大部分的第一主要表面上形成耐劃傷性的無機的光學透明層，其中所述形成方法包括將所述玻璃基材加熱至100℃到低于300℃的溫度，所述玻璃基材包括化學強化的玻璃；和所述無機的光學透明層以與所述玻璃基材直接物理接觸的方式形成；

其中，所述無機層的硬度比所述玻璃基材的硬度大至少10％。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述形成方法包括反應性濺射或者非反應性濺射、電子束蒸發、化學氣相沉積或等離子體增強的化學氣相沉積。

3.如權利要求1或2所述的方法，其特征在于，使用1-600分鐘的沉積時間、和0.1毫托至100托的加工壓力中的一種或多種來形成所述無機層。

4.如權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述無機層的厚度范圍為10納米至2微米。

5.一種耐劃傷性玻璃制品，其包含：

具有相對的主表面的玻璃基材；以及

在大部分的第一主表面上形成的低溫沉積的耐劃傷性的無機光學透明層，其中，所述形成方法包括將所述玻璃基材加熱至100℃到低于300℃的溫度，所述玻璃基材包括化學強化的玻璃；

其中，當采用布氏壓痕計和高至160mN的負荷進行劃刻時，相比于沒有在大部分的第一主表面上提供低溫沉積的無機光學透明層的玻璃基材，所述耐劃傷性玻璃制品的劃痕深度減少了至少20％；和

所述無機光學透明層以與所述玻璃基材直接物理接觸的方式形成，其中，所述無機層的硬度比所述玻璃基材的硬度大至少10％。

6.如權利要求5所述的耐劃傷性玻璃制品，其特征在于，當采用布氏壓痕計和高至160mN的負荷進行劃刻時，相比于沒有在大部分的第一主表面上提供低溫沉積的無機光學透明層的玻璃基材，所述耐劃傷性玻璃制品的劃痕寬度還減少了至少20％。

7.如權利要求5或6所述的制品，其特征在于，所述無機層包括金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬硼化物或其組合，以及其中，所述金屬選自下組：B、Al、Si、Ti、V、Cr、Y、Zr、Nb、Mo、Sn、Hf、Ta和W。

8.如權利要求5或6所述的制品，其特征在于，所述無機層的布氏壓痕硬度至少為9GPa。