[發明專利]微多孔膜及其制造方法

在審

• 申請號: 201380051492.0
• 申請日: 2013-10-01
• 公開（公告）號: CN104684633A
• 公開（公告）日: 2015-06-03
• 發明（設計）人: 古嶋修;長迫直;山口修
• 申請（專利權）人: 捷恩智株式會社;捷恩智石油化學株式會社
• 主分類號: B01D71/34
• 分類號: B01D71/34;B01D69/12
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 馬雯雯;臧建明

1.一種微多孔膜，其作為非對稱膜，包括：

表皮層，形成有微孔；以及

支撐層，支撐上述表皮層，且形成有較上述微孔大的孔穴；

上述微多孔膜的原材料為聚偏二氟乙烯系樹脂，

上述表皮層具有多個球狀體，多個線狀的結合材自各個上述球狀體向三維方向延伸，

鄰接的上述球狀體藉由上述線狀的結合材而相互連接，從而形成以上述球狀體為交點的三維網狀構造。

2.如權利要求1所述的微多孔膜，其中上述球狀體的粒徑在平均粒徑的±10％幅度的范圍內具有45％以上的度數分布。

3.如權利要求1或2所述的微多孔膜，其中上述結合材的長度在平均長度的±30％幅度的范圍內具有35％以上的度數分布。

4.如權利要求1～3中任一項所述的微多孔膜，其中上述球狀體具有0.05μm～0.5μm的平均粒徑。

5.如權利要求1～4中任一項所述的微多孔膜，其中將上述聚偏二氟乙烯系樹脂溶解于良溶劑中而成的溶液中，設橫軸為剪切速度且設縱軸為溶液粘度的倒數的曲線圖包含在上側具有凸出的弧的曲線。

6.如權利要求1～4中任一項所述的微多孔膜，其中對于上述聚偏二氟乙烯系樹脂10重量份、聚乙二醇10重量份、二甲基乙酰胺80重量份的溶液，可利用2次函數逼近設橫軸為剪切速度且設縱軸為溶液粘度的倒數的曲線圖的剪切速度為每秒40以下的區域，

上述2次函數的2次系數小于10^-8。

7.如權利要求5或6所述的微多孔膜，其中上述聚偏二氟乙烯系樹脂的重量平均分子量(Mw)為60萬～120萬。

8.如權利要求1～7中任一項所述的微多孔膜，其中

上述表皮層的厚度為0.5μm～10μm，

上述支撐層的厚度為20μm～500μm。

9.如權利要求1～8中任一項所述的微多孔膜，其包括支撐上述支撐層的基材層。

10.一種微多孔膜的制造方法，上述微多孔膜是如權利要求1～8中任一項所述的微多孔膜，且該微多孔膜的制造方法包括：

涂布步驟，將使上述聚偏二氟乙烯系樹脂溶解于良溶劑中而成的原料液涂布在上述基材層上或上述支撐體上；以及

浸漬步驟，在上述涂布步驟后，將上述基材層或上述支撐體、及所涂布的上述原料液浸漬于非溶劑中。

11.一種微多孔膜的制造方法，其包括：

涂布步驟，將使聚偏二氟乙烯系樹脂溶解于良溶劑中而成的原料液涂布在基材層上或支撐體上；以及

浸漬步驟，在上述涂布步驟后，將上述基材層或上述支撐體、及所涂布的上述原料液浸漬于非溶劑中；并且

上述原料液中，設橫軸為剪切速度且設縱軸為溶液粘度的倒數的曲線圖包含在上側具有凸出的弧的曲線。