[發(fā)明專利]精細(xì)抗蝕圖案形成用組合物以及使用其的圖案形成方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380051105.3
• 申請(qǐng)日: 2013-10-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104737077B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山本和磨;石井雅弘;關(guān)藤高志;柳田浩志;中杉茂正;能谷剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: AZ電子材料（盧森堡）有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/40
• 分類號(hào): G03F7/40;C08F12/24;C08F20/30;H01L21/027
• 代理公司: 北京三幸商標(biāo)專利事務(wù)所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉淼

1.一種精細(xì)圖案形成用組合物，該精細(xì)圖案形成用組合物用于在使用化學(xué)放大型抗蝕組合物來(lái)形成負(fù)型抗蝕圖案的方法中，通過(guò)使抗蝕圖案變粗以將圖案精細(xì)化，其中，

該精細(xì)圖案形成用組合物含有聚合物和有機(jī)溶劑，該聚合物含有具有羥基芳基的重復(fù)單元，該有機(jī)溶劑不使上述負(fù)型抗蝕圖案溶解，

以構(gòu)成上述聚合物的全部重復(fù)單元的摩爾數(shù)為基準(zhǔn)，具有羥基芳基的重復(fù)單元的比率為60摩爾％以上，

上述重復(fù)單元源自下述式中任一個(gè)表示的單體，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精細(xì)圖案形成用組合物，其中，上述有機(jī)溶劑含有2-庚酮或乙酸丁酯。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的精細(xì)圖案形成用組合物，其中，上述組合物含有80重量％以上的2-庚酮或乙酸丁酯。

4.一種精細(xì)化的負(fù)型抗蝕圖案的形成方法，其特征在于，包含如下工序：

(1)在半導(dǎo)體基板上涂布化學(xué)放大型光致抗蝕組合物來(lái)形成光致抗蝕層的工序；

(2)將由上述光致抗蝕層覆蓋的上述半導(dǎo)體基板進(jìn)行曝光的工序；

(3)在上述曝光后用有機(jī)溶劑顯影液進(jìn)行顯影的工序；

(4)在上述光致抗蝕圖案的表面涂布權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的精細(xì)圖案形成用組合物的工序；

(5)將涂布完的光致抗蝕圖案加熱的工序；以及

(6)將過(guò)量的精細(xì)圖案形成用組合物清洗并去除的工序。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，上述工序(1)和上述工序(4)使用同一涂布裝置。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的方法，其中，在上述工序(6)中，使用2-庚酮或乙酸丁酯。