[發明專利]真空絕緣玻璃窗單元以及制備其的方法

有效

• 申請號: 201380050902.X
• 申請日: 2013-07-18
• 公開（公告）號: CN104685148B
• 公開（公告）日: 2017-10-13
• 發明（設計）人: 魯道夫·H·帕奇馬克;約翰·P·霍根
• 申請（專利權）人: 葛迪恩實業公司
• 主分類號: E06B3/66
• 分類號: E06B3/66;E06B3/677
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 劉培培,黎艷

1.一種制備真空絕緣玻璃窗單元的方法，所述方法包括：

配置平行的第一和第二基片，將多個隔離片和密封配置在所述第一和第二基片之間，并將位于所述基片之間的腔排空至低于大氣壓的壓力，且混合吸氣劑由所述第一基片支撐；

所述混合吸氣劑包括非蒸發性吸氣劑材料和蒸發性吸氣劑材料，所述蒸發性吸氣劑材料完全地覆蓋所述非蒸發性吸氣劑材料；以及

激活所述混合吸氣劑。

2.如權利要求1所述的方法，其中，所述非蒸發性吸氣劑材料和蒸發性吸氣劑材料配置在由所述第一基片支撐的容器中，且其中，在所述容器中所述蒸發性吸氣劑材料覆蓋所述非蒸發性吸氣劑材料，從而所述非蒸發性吸氣劑材料位于所述蒸發性吸氣劑材料和所述容器的底部之間。

3.如權利要求2所述的方法，其中，所述容器位于所述第一基片中定義的凹槽中。

4.如上述權利要求中任何一項所述的方法，其中，在所述激活之前，所述混合吸氣劑位于所述第一基片中定義的凹槽中，且

在所述激活之后，非蒸發性吸氣劑材料位于所述第一基片中定義的所述凹槽中，且從所述蒸發性吸氣劑材料蒸發及沉積的吸氣劑材料位于所述第二基片上，至少在所述凹槽的對面區域中。

5.如權利要求1所述的方法，其中，在所述激活之前，所述混合吸氣劑進一步包括保護膜，位于所述非蒸發性吸氣劑材料和所述蒸發性吸氣劑材料之間。

6.如權利要求5所述的方法，其中，所述保護膜為金屬。

7.如權利要求5所述的方法，其中，所述保護膜包括鋁和鎳中的一個或多個。

8.如權利要求5所述的方法，其中，所述保護膜包括：第一和第二層，其中所述第一層含有第一金屬，所述第二層含有第二金屬。

9.如權利要求5所述的方法，其中，所述保護膜包括：第一和第二層，其中所述第一層由第一金屬構成，所述第二層由第二金屬構成。

10.如權利要求8所述的方法，其中，所述第一金屬為鋁，且所述第二金屬為鎳。

11.如權利要求1所述的方法，其中，在所述激活之前，所述吸氣劑由所述第一基片支撐，且其中，所述激活使所述混合吸氣劑中的至少一些蒸發性吸氣劑材料蒸發及沉積在所述第二基片的至少一個表面上。

12.如權利要求1所述的方法，其中，通過激光束和/或通過線圈的輻射加熱所述混合吸氣劑，來執行所述激活。

13.如權利要求1所述的方法，其中，所述激活包括引導激光束穿過泵出管來激活所述混合吸氣劑。

14.如權利要求1所述的方法，其中，所述激活在排空過程期間和/或之后被執行，其中，所述腔被排空至低于大氣壓的壓力。

15.如權利要求1所述的方法，其中，所述激活在排空過程期間和/或之后被執行，其中，所述腔被排空，從而所述激活在所述腔中的壓力下降到1x10^-2至1x10^-3毫巴的范圍之后被執行。

16.如權利要求1所述的方法，其中，所述蒸發性吸氣劑材料包括鋇、鈣、鍶中的一個或多個。

17.如權利要求1所述的方法，其中，所述蒸發性吸氣劑材料包括鋇。

18.如權利要求1所述的方法，其中，所述非蒸發性吸氣劑材料包括鋯。

19.如權利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二基片分別包括玻璃，并在所述激活之前和/或之后，所述真空絕緣玻璃窗單元具有至少50％的可見光透射率。

20.一種真空絕緣玻璃窗單元，包括：

平行的第一和第二基片；

多個隔離片和密封，配置在所述第一和第二基片之間；

腔，在低于大氣壓的壓力下，位于所述第一和第二基片之間；

容器，該容器由所述第一基片支撐，用于以重疊的方式保持非蒸發性吸氣劑材料和蒸發性吸氣劑材料，所述真空絕緣玻璃窗單元設置為在激活非蒸發性吸氣劑和蒸發性吸氣劑材料之后，非蒸發性吸氣劑材料位于所述第一基片上的所述容器內；和從蒸發性吸氣劑材料蒸發及沉積的吸氣劑材料位于所述第一基片上，且同時位于所述第二基片之上，至少在所述非蒸發性吸氣劑材料位置的對面區域中。