[發明專利]聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法有效
| 申請號: | 201380050225.1 | 申請日: | 2013-09-19 |
| 公開(公告)號: | CN104662071B | 公開(公告)日: | 2018-09-07 |
| 發明(設計)人: | 濱田敦;勝野良治;日笠慎太郎;藤井繪美;風藤修 | 申請(專利權)人: | 株式會社可樂麗 |
| 主分類號: | C08J5/18 | 分類號: | C08J5/18;B29C41/26;G02B5/30;B29K29/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 高旭軼;劉力 |
| 地址: | 日本岡山縣*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測定位置 薄膜 取向軸 聚乙烯醇系聚合物 背光 偏振光薄膜 光透射率 光學薄膜 色斑 優選 制造 | ||
1.聚乙烯醇系聚合物薄膜,其中,以20mm的間距在薄膜的寬度方向上測定薄膜的面內的取向軸時,相鄰2個測定位置處的取向軸彼此所成的角度在所有相鄰2個測定位置處均為2.3°以下,其中,所述角度處于0~90°的范圍內,所有相鄰2個測定位置處的所述角度的平均值為0.6°以下,
所述取向軸的測定位置之中的至少1處的取向軸與聚乙烯醇系聚合物薄膜的長度方向所成的角度為45~90°,所述角度處于0~90°的范圍內,
所述聚乙烯醇系聚合物薄膜通過以下的制造方法制造,其中,
(a)使用具備轉軸彼此平行的3個以上干燥輥的制膜裝置,在該干燥輥之中位于最上游側的第1干燥輥上將包含聚乙烯醇系聚合物的制膜原液排出成膜狀,部分干燥后用其后的干燥輥進一步干燥來制膜;此時,
(b)使從第1干燥輥剝離時的聚乙烯醇系聚合物膜的揮發成分比率為20~40質量%;
(c)使第2干燥輥的圓周速度(S2)與第1干燥輥的圓周速度(S1)之比即S2/S1為1.015~1.050;
(d)在第2干燥輥或其下游側的干燥輥之中,從聚乙烯醇系聚合物膜的揮發成分比率達到20質量%時的干燥輥(第x干燥輥)起至聚乙烯醇系聚合物膜的揮發成分比率達到10質量%時的干燥輥(第y干燥輥)之間,使相鄰2個干燥輥之中的下游側的干燥輥的圓周速度(Sn+1)與上游側的干燥輥的圓周速度(Sn)之比(Sn+1/Sn)均為0.992~0.999。
2.權利要求1所述的聚乙烯醇系聚合物薄膜,其中,所述取向軸的測定位置處的滯后值在所有測定位置處均為5~100nm。
3.權利要求1或2所述的聚乙烯醇系聚合物薄膜,其中,寬度為2m以上。
4.聚乙烯醇系聚合物薄膜的制造方法,其中,
(a)使用具備轉軸彼此平行的3個以上干燥輥的制膜裝置,在該干燥輥之中位于最上游側的第1干燥輥上將包含聚乙烯醇系聚合物的制膜原液排出成膜狀,部分干燥后用其后的干燥輥進一步干燥來制膜;此時,
(b)使從第1干燥輥剝離時的聚乙烯醇系聚合物膜的揮發成分比率為20~40質量%;
(c)使第2干燥輥的圓周速度(S2)與第1干燥輥的圓周速度(S1)之比即S2/S1為1.015~1.050;
(d)在第2干燥輥或其下游側的干燥輥之中,從聚乙烯醇系聚合物膜的揮發成分比率達到20質量%時的干燥輥(第x干燥輥)起至聚乙烯醇系聚合物膜的揮發成分比率達到10質量%時的干燥輥(第y干燥輥)之間,使相鄰2個干燥輥之中的下游側的干燥輥的圓周速度(Sn+1)與上游側的干燥輥的圓周速度(Sn)之比(Sn+1/Sn)均為0.992~0.999。
5.權利要求4所述的制造方法,其中,使存在于從第x干燥輥起至第y干燥輥之間的所有干燥輥的表面溫度為60~85℃。
6.權利要求4或5所述的制造方法,其中,第1干燥輥的圓周速度(S1)為8~25m/分鐘。
7.權利要求4或5所述的制造方法,其中,使第y干燥輥的圓周速度(Sy)與第x干燥輥的圓周速度(Sx)之比(Sy/Sx)為0.940~0.990。
8.光學薄膜,其是由權利要求1~3中任一項所述的聚乙烯醇系聚合物薄膜制造的。
9.權利要求8所述的光學薄膜,其為偏振光薄膜。
10.光學薄膜的制造方法,其具備使用權利要求1~3中任一項所述的聚乙烯醇系聚合物薄膜進行單軸拉伸的工序。
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